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ZnO和ZnO/MgO复合层薄膜的PLD法制备及其特性研究

摘要第1-6页
Abstract第6-11页
第一章 绪论第11-33页
   ·ZnO的研究历史和现状第11-17页
   ·ZnO的基本性质第17-24页
     ·ZnO的晶体结构第17-19页
     ·ZnO的能带性质第19-20页
     ·ZnO的固有缺陷第20-21页
     ·ZnO的荧光和激射特性第21-24页
   ·ZnO的广泛应用第24-27页
     ·与GaN互作缓冲层第24页
     ·用于光电器件的单片集成第24-25页
     ·用于气敏和湿敏元件第25页
     ·用于压敏电阻的制作第25页
     ·用于紫外光探测器第25-26页
     ·用于表面声波器件第26-27页
     ·ZnO基发光二极管和激光二极管第27页
   ·ZnO薄膜的制备方法第27-30页
     ·金属有机物化学气相沉积技术(MOCVD)第27-28页
     ·磁控溅射技术第28-29页
     ·分子束外延(MBE)和脉冲激光沉积技术(PLD)第29页
     ·喷雾热分解技术第29页
     ·利用光的原子层外延第29-30页
     ·溶胶凝胶法第30页
   ·选题的依据和本人主要工作第30-33页
第二章 脉冲激光沉积系统及ZnO薄膜的主要测试方法第33-43页
   ·脉冲激光沉积技术的发展过程和工作原理第33-35页
   ·脉冲激光沉积系统的组成结构第35-37页
   ·衬底的选择第37页
   ·ZnO薄膜的生长过程第37-39页
   ·样品的主要测试方法第39-43页
     ·结构分析原理第39-41页
     ·发光性能分析原理第41-43页
第三章 ZnO薄膜的晶体结构和发光性能研究第43-71页
   ·Si(111)上生长的ZnO薄膜的晶体结构和发光性能研究第43-55页
     ·不同衬底温度生长的ZnO薄膜第43-46页
     ·不同脉冲激光重复频率生长的ZnO薄膜第46-49页
     ·不同环境氧压生长的ZnO薄膜第49-52页
     ·ZnO薄膜退火后的荧光谱第52-55页
   ·Si(111)上生长的ZnO薄膜其它方面的测试分析第55-61页
     ·电子探针对有氧和无氧环境下生长的ZnO薄膜的成分分析第55-56页
     ·台阶仪测量薄膜厚度第56-57页
     ·AFM表面形貌分析第57-60页
     ·SEM形貌分析第60-61页
   ·ZnO薄膜的发光机理分析第61-65页
   ·Si(111)衬底生长ZnO薄膜的结晶性讨论第65-67页
   ·Al_2O_3衬底上生长的ZnO薄膜第67-71页
第四章 RHEED对ZnO薄膜生长的原位检测第71-92页
   ·薄膜生长机理讨论第71-72页
     ·岛状生长模式第71-72页
     ·层状状生长模式第72页
     ·混和生长模式第72页
   ·RHEED衍射原理简介第72-74页
   ·RHEED内部结构示意图第74-75页
   ·观察ZnO薄膜在Al_2O_3和Si(111)上的生长第75-92页
     ·Al_2O_3衬底的观察第76-78页
     ·Si(111)衬底的观察第78-81页
     ·Si(111)衬底上ZnO薄膜生长的观察第81-83页
     ·ZnO薄膜衍射点的标定第83-92页
笫5章 ZnO/MgO复合层薄膜的制作和分析第92-104页
   ·MgO的性质第92-93页
   ·PLD方法沉积MgO薄膜第93-96页
   ·ZnO/MgO复合层薄膜的制作与分析第96-104页
     ·XRD分析第96-98页
     ·荧光谱分析第98-99页
     ·ZnO/MgO复合层薄膜的表面原子力图像第99-100页
     ·TEM、HRTEM和SAD分析第100-104页
结论第104-107页
创新点摘要第107-108页
参考文献第108-119页
附录A ZnO XRD衍射角度和晶面方向对应表第119-120页
附录B MgO XRD衍射角度和晶面方向对应图第120-121页
附录C Al_2O_3 XRD衍射晶面方向和晶面间距对应表第121-122页
攻读博士学位期间发表学术论文情况第122-124页
致谢第124-125页
大连理工大学学位论文版权使用授权书第125页

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