微电铸器件均匀性的研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-20页 |
·研究背景 | 第9-11页 |
·课题的提出 | 第9-10页 |
·课题来源 | 第10-11页 |
·微电铸技术 | 第11-14页 |
·微电铸技术的定义 | 第11页 |
·微电铸技术的发展 | 第11-14页 |
·微电铸技术的特点 | 第14页 |
·微电铸不均匀性的研究现状 | 第14-18页 |
·不均匀现象 | 第14-15页 |
·研究现状 | 第15-18页 |
·课题研究内容 | 第18-20页 |
2 脉冲电流条件下的铸层生长理论 | 第20-26页 |
·液相传质的控制作用 | 第20页 |
·理论分析的前提条件 | 第20-21页 |
·铸层表面微观凸起高度的生长理论 | 第21-25页 |
·本章小结 | 第25-26页 |
3 周期换向脉冲电流微电铸的实验研究 | 第26-35页 |
·实验过程 | 第26-30页 |
·无背板生长工艺 | 第26-27页 |
·微电铸模具的工艺参数 | 第27-29页 |
·微电铸模具的实验设备 | 第29-30页 |
·实验结果分析 | 第30-34页 |
·铸层表面的形貌分析 | 第30-32页 |
·铸层高度的分析 | 第32-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
4 旋转阴极改善微电铸器件均匀性的研究 | 第35-60页 |
·阴极表面附近的对流扩散理论 | 第35-39页 |
·理想条件下的稳态扩散 | 第35-36页 |
·移动阴极表面的扩散分析 | 第36-38页 |
·旋转阴极表面的扩散分析 | 第38-39页 |
·微沟道内流速的仿真分析 | 第39-48页 |
·分析目的 | 第39页 |
·分析过程 | 第39-41页 |
·分析结果 | 第41-48页 |
·移动阴极微电铸的实验研究 | 第48-50页 |
·实验过程 | 第48-49页 |
·实验结果分析 | 第49-50页 |
·旋转阴极微电铸的实验研究 | 第50-59页 |
·实验装置的搭建 | 第51-55页 |
·实验过程 | 第55页 |
·实验结果分析 | 第55-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
5 微电铸中阴极表面电流分布的仿真研究 | 第60-72页 |
·电流密度在阴极表面的分布 | 第60-64页 |
·理论分析 | 第60-62页 |
·电解液分散能力 | 第62页 |
·影响电流密度在阴极表面分布的因素 | 第62-64页 |
·微电铸电流密度场的仿真分析 | 第64-70页 |
·模型的建立 | 第64-66页 |
·网格划分 | 第66-67页 |
·加载求解 | 第67页 |
·仿真结果 | 第67-70页 |
·仿真分析的结论 | 第70-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
6 结论和展望 | 第72-74页 |
·结论 | 第72-73页 |
·展望 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-77页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第77-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第79页 |