| 第一章 前言 | 第1-13页 |
| §1.1 Si纳米材料的研究意义与研究现状 | 第7-8页 |
| ·研究Si纳米材料的意义 | 第7-8页 |
| ·Si纳米材料的研究现状 | 第8页 |
| §1.2 研究ZnO材料的意义与研究现状 | 第8-9页 |
| ·研究ZnO材料的意义 | 第8-9页 |
| ·ZnO材料的研究现状 | 第9页 |
| §1.3 模板法制备纳米材料的特点 | 第9-10页 |
| §1.4 多孔铝模板概述 | 第10页 |
| §1.5 本课题的研究内容和意义 | 第10-13页 |
| 第二章 多孔铝模板的制备及其特点 | 第13-22页 |
| §2.1 引言 | 第13页 |
| §2.2 多孔氧化铝的制备 | 第13-14页 |
| §2.3 关于多孔铝形成机理的新观点 | 第14-17页 |
| §2.4 多孔铝的结构特点 | 第17-20页 |
| §2.5 本章小结 | 第20-22页 |
| 第三章 脉冲激光沉积法在多孔铝衬底上制备的纳米硅薄膜的结构与光学性质 | 第22-34页 |
| §3.1 引言 | 第22-23页 |
| §3.2 硅与多孔铝复合薄膜的制备 | 第23-24页 |
| ·实验设计 | 第23页 |
| ·氧化铝模板的制备 | 第23页 |
| ·复合膜的制备 | 第23-24页 |
| ·化学腐蚀法处理样品 | 第24页 |
| §3.3 对样品的测试与分析 | 第24-30页 |
| ·样品的SEM像 | 第24-26页 |
| ·样品的X射线衍射谱 | 第26页 |
| ·样品的光致发光谱 | 第26-30页 |
| ·光谱测量与分析 | 第26-28页 |
| ·样品结构分析 | 第28-29页 |
| ·发光机理分析 | 第29-30页 |
| §3.4 相关实验 | 第30-32页 |
| §3.5 本章小结 | 第32-34页 |
| 第四章 脉冲激光沉积法在多孔铝衬底上生长的ZnO薄膜的结构与光学性质 | 第34-45页 |
| §4.1 引言 | 第34-35页 |
| §4.2.ZnO与多孔铝复合薄膜的制备 | 第35-36页 |
| ·多孔铝衬底的制备 | 第35-36页 |
| ·脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜 | 第36页 |
| ·生长 | 第36页 |
| ·退火 | 第36页 |
| §4.3 样品的测试与分析 | 第36-43页 |
| ·利用SEM观察多孔铝样品 | 第36-38页 |
| ·利用SEM观察ZnO薄膜样品 | 第38页 |
| ·利用XRD分析ZnO薄膜样品 | 第38-40页 |
| ·测量样品的光致发光谱 | 第40-42页 |
| ·时间对光致发光谱的影响 | 第42-43页 |
| §4.4.本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 全文总结 | 第45-48页 |
| 附录 | 第48-52页 |
| 发表过的论文 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54页 |