| 第一章 引言 | 第1-23页 |
| ·课题研究意义及目的 | 第10-11页 |
| ·场发射阴极的原理及现状 | 第11-16页 |
| ·微尖场发射阵列阴极的结构原理 | 第11-12页 |
| ·微尖场发射阵列阴极的研究现状 | 第12-16页 |
| ·金属微尖场发射阵列 | 第12-14页 |
| ·硅微尖场发射阵列 | 第14-16页 |
| ·场发射阴极的主要应用 | 第16-19页 |
| ·FEA 应用于平板显示 | 第16-17页 |
| ·FEA 应用于行波管 | 第17-19页 |
| ·六硼化镧的结构及性质 | 第19-21页 |
| ·场发射阴极的结构模拟 | 第21页 |
| ·本论文的主要工作内容及意义 | 第21-23页 |
| 第二章 模拟方法的主要理论 | 第23-38页 |
| ·FEA 物理模型的建立 | 第23-26页 |
| ·FEA 的结构优化 | 第23-25页 |
| ·场致发射公式特性 | 第25-26页 |
| ·数值计算模型的建立 | 第26-27页 |
| ·基本方程 | 第26-27页 |
| ·计算模型及边界条件 | 第27页 |
| ·静电场的数值模拟 | 第27-35页 |
| ·有限差分算法 | 第28-31页 |
| ·二维拉普拉斯方程的离散 | 第28-30页 |
| ·差分方程组的求解 | 第30-31页 |
| ·差分方程组的收敛性 | 第31页 |
| ·区域细化反复迭代的有限差分算法 | 第31-35页 |
| ·电子轨迹及发射电流的计算 | 第35-38页 |
| ·四阶龙格－库塔法求解电子运动轨迹 | 第36-37页 |
| ·场致发射器件发射电流及其分配 | 第37-38页 |
| 第三章 用 MAGIC 软件模拟场发射阴极三极管结构 | 第38-49页 |
| ·MAGIC 软件的介绍 | 第38-41页 |
| ·MAGIC 程序的功能 | 第38-39页 |
| ·MAGIC 程序的组成 | 第39-41页 |
| ·六硼化镧场发射微三极管的计算机模拟 | 第41-49页 |
| ·物理模型 | 第41-42页 |
| ·模拟方法 | 第42页 |
| ·模拟结果及讨论 | 第42-48页 |
| ·栅极电压对发射性能的影响 | 第44-45页 |
| ·栅孔半径对发射性能的影响 | 第45-46页 |
| ·栅极与发射体尖端相对高度对发射性能的影响 | 第46-47页 |
| ·锥体高度对发射性能的影响 | 第47-48页 |
| ·锥尖曲率半径对发射性能的影响 | 第48页 |
| ·结论 | 第48-49页 |
| 第四章 用 EBS 软件模拟场发射阴极三极管和四极管结构 | 第49-58页 |
| ·EBS 软件的介绍 | 第49页 |
| ·场发射微三极管和四极管的计算机模拟 | 第49-58页 |
| ·物理模型 | 第49-50页 |
| ·模拟方法 | 第50页 |
| ·模拟结果及讨论 | 第50-57页 |
| ·栅极电压对发射性能的影响 | 第53-54页 |
| ·栅孔半径对发射性能的影响 | 第54-55页 |
| ·聚焦极电位对双门聚焦结构FEA 发射性能的影响 | 第55-56页 |
| ·聚焦极开口半径对双门聚焦结构FEA 发射性能的影响 | 第56页 |
| ·聚焦极与栅极间距对双门聚焦结构FEA 发射性能的影响 | 第56-57页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| 第五章 结束语 | 第58-60页 |
| ·本文主要工作及结论 | 第58-59页 |
| ·本文工作展望 | 第59-60页 |
| 附录 | 第60-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 个人简历 | 第72页 |
| 硕士研究生期间发表的论文 | 第72页 |
