| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 引言 | 第11-13页 |
| 第二章 文献综述 | 第13-36页 |
| ·节能镀膜玻璃的研究概况 | 第13-17页 |
| ·介质层／功能层／介质层多层复合膜 | 第13-15页 |
| ·半导体单层镀膜玻璃 | 第15-17页 |
| ·节能镀膜玻璃的理论基础 | 第17-24页 |
| ·节能薄膜的节能原理 | 第17-20页 |
| ·节能镀膜玻璃的功能特点 | 第20-22页 |
| ·节能镀膜玻璃的主要性能评价指标 | 第22-24页 |
| ·镀膜玻璃的制备技术简介 | 第24-30页 |
| ·真空蒸发镀膜法(Vacuum Evaporation) | 第24页 |
| ·溅射法(Sputtering) | 第24-26页 |
| ·溶胶—凝胶法(Sol-Gel) | 第26页 |
| ·电浮法镀膜(Electro Float) | 第26-27页 |
| ·喷涂镀膜法(Spray Coating) | 第27-28页 |
| ·化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition) | 第28-30页 |
| ·节能镀膜玻璃的发展状况 | 第30-32页 |
| ·TiN薄膜的性质 | 第32-35页 |
| ·TiN薄膜的基本物理性质 | 第32-34页 |
| ·TiN薄膜的电学和光学性质 | 第34-35页 |
| ·课题的提出 | 第35-36页 |
| 第三章 APCVD成膜原理以及样品制备和测试 | 第36-46页 |
| ·常压化学沉积法的基本原理 | 第36-40页 |
| ·TiN薄膜样品的制备 | 第40-42页 |
| ·实验设备及原料 | 第40-41页 |
| ·玻璃基板预处理 | 第41页 |
| ·制备样品的操作步骤 | 第41-42页 |
| ·样品的系列沉积参数 | 第42页 |
| ·样品的测试与分析手段 | 第42-46页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第42-43页 |
| ·场发射扫描电镜(FESEM) | 第43-44页 |
| ·X射线能量色散谱(EDX) | 第44页 |
| ·四探针电阻测试仪 | 第44-45页 |
| ·紫外—可见分光光度计(UV／VIS Spectrometer) | 第45页 |
| ·傅立叶红外光谱仪(FTIR) | 第45-46页 |
| 第四章 沉积时间对TiN薄膜性质的影响 | 第46-60页 |
| ·沉积时间对TiN薄膜结晶性能的影响 | 第46-47页 |
| ·沉积时间对TiN薄膜微观形貌的影响 | 第47-49页 |
| ·沉积时间对TiN薄膜电学性能的影响 | 第49-52页 |
| ·沉积时间对TiN薄膜光学性能的影响 | 第52-57页 |
| ·杂质原子O和Cl对薄膜性质的影响 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 第五章 TiCl_4流量和喷涂距离对TIN薄膜性质的影响 | 第60-72页 |
| ·TiCl_4流量对TiN薄膜性质的影响 | 第60-67页 |
| ·TiCl_4流量对薄膜结晶性能和微观结构的影响 | 第60-63页 |
| ·TiCl_4流量对薄膜电学和光学性能的影响 | 第63-67页 |
| ·喷涂距离对TiN薄膜性质的影响 | 第67-71页 |
| ·小结 | 第71-72页 |
| 第六章 N、Ti原子比对TiN薄膜性质的影响 | 第72-76页 |
| ·N／Ti对TiN薄膜电学性能的影响 | 第72-74页 |
| ·N／Ti对TiN薄膜光学性能的影响 | 第74-75页 |
| ·小结 | 第75-76页 |
| 第七章 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-81页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
