摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪言 | 第6-23页 |
·铟(In)简介 | 第6页 |
·铟锡氧化物(ITO)简介 | 第6-16页 |
·纳米材料的特性 | 第16-18页 |
·课题研究背景 | 第18-19页 |
·国内外研究现状 | 第19-21页 |
·本课题研究内容及特色 | 第21-23页 |
第二章 实验和测试方法 | 第23-34页 |
·实验仪器与试剂 | 第23-24页 |
·ITO纳米粉体的制备工艺 | 第24-29页 |
·ITO纳米粉体的表征 | 第29-31页 |
·ITO纳米粉体制备过程中的影响因素 | 第31-33页 |
·Nd掺杂ITO纳米粉体的制备 | 第33-34页 |
第三章 实验结果与讨论 | 第34-61页 |
·均匀沉淀法制备原理理论分析 | 第34-36页 |
·ITO粉体表征及影响因素分析 | 第36-60页 |
·小结 | 第60-61页 |
第四章 Nd掺杂对ITO粉体的影响 | 第61-68页 |
·XRD表征 | 第61-63页 |
·IR表征 | 第63-64页 |
·UV-VIS表征 | 第64-66页 |
·电学性能表征 | 第66-67页 |
·小结 | 第67-68页 |
结论 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-74页 |
附录 | 第74页 |