C、Hf薄膜抑制栅极电子发射的机理研究
| 第一章 引言 | 第1-15页 |
| ·栅控脉冲行波管概况 | 第7-10页 |
| ·栅控脉冲行波管结构与工作原理 | 第7-8页 |
| ·行波管的栅极电子发射现象 | 第8-9页 |
| ·行波管的应用 | 第9-10页 |
| ·C 薄膜用来抑制栅电子发射的研究进展 | 第10-13页 |
| ·C 膜的研究概况 | 第10-11页 |
| ·C 膜抑制栅发射机理研究概况 | 第11-13页 |
| ·Hf 及其它薄膜用来抑制栅电子发射的研究进展 | 第13页 |
| ·本论文工作的意义及主要研究内容 | 第13-15页 |
| 第二章 C、Hf薄膜及BaO涂层的制备 | 第15-20页 |
| ·C 薄膜的制备 | 第15-17页 |
| ·双离子束溅射沉积技术 | 第15-16页 |
| ·C薄膜的沉积 | 第16-17页 |
| ·Hf 薄膜的制备 | 第17-18页 |
| ·射频磁控溅射沉积技术 | 第17页 |
| ·Hf薄膜的沉积 | 第17-18页 |
| ·BaO 涂层的制备 | 第18-19页 |
| ·样品的退火处理 | 第19-20页 |
| 第三章 C、Hf 薄膜及BaO 涂层的表征 | 第20-25页 |
| ·膜厚的测量 | 第20-21页 |
| ·透射电子显微镜以及选区电子衍射 | 第21页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第21-22页 |
| ·Raman 光谱分析 | 第22页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第22-23页 |
| ·差热分析 | 第23页 |
| ·光电子能谱分析 | 第23-25页 |
| 第四章 C 薄膜抑制栅发射机理研究 | 第25-37页 |
| ·C 膜的制备及工艺研究 | 第25-28页 |
| ·C 膜抑制栅电子发射机理的讨论 | 第28-36页 |
| ·C 膜的形貌及结构 | 第29-31页 |
| ·C 膜与BaO 的作用 | 第31-32页 |
| ·行波管中可能的化学反应 | 第32-35页 |
| ·C 膜抑制栅发射机理 | 第35页 |
| ·行波管中C 膜的工作状态 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第五章 Hf 薄膜抑制栅发射机理研究 | 第37-46页 |
| ·Hf 膜的制备及结构 | 第37-39页 |
| ·Hf 膜抑制栅电子发射机理的讨论 | 第39-44页 |
| ·Hf 膜的性质 | 第39-40页 |
| ·Hf 膜与BaO 的作用 | 第40-41页 |
| ·行波管中可能的化学反应 | 第41-43页 |
| ·Hf 膜抑制栅发射机理 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第六章 结论 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 硕士期间发表论文目录 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 详细摘要 | 第53-55页 |
