| 一、绪论 | 第1-13页 |
| 二、薄膜光学的基本理论 | 第13-26页 |
| 1、薄膜光学简介 | 第13-16页 |
| (1) 薄膜光学的历史 | 第13-14页 |
| (2) 薄膜光学的研究现状 | 第14-16页 |
| 2、薄膜光学的电磁理论基础 | 第16-18页 |
| (1) 麦克斯韦方程 | 第16-17页 |
| (2) 菲涅尔反射原理 | 第17页 |
| (3) E和H的边界条件 | 第17-18页 |
| 3、光学薄膜系统特性的计算方法 | 第18-21页 |
| 4、光学薄膜设计方法概述 | 第21-26页 |
| (1) 矢量法 | 第22-24页 |
| (2) 导纳匹配法 | 第24-26页 |
| 三、晶体偏光器件增透膜的设计 | 第26-43页 |
| 1、概述 | 第26-27页 |
| 2、Glan—Taylor棱镜增透膜的设计 | 第27-32页 |
| (1) 端面窄带增透膜的设计 | 第27-28页 |
| (2) 斜面窄带增透膜的设计 | 第28-30页 |
| (3) 宽带增透膜的设计 | 第30-32页 |
| 3、Wollaston棱镜增透膜的设计 | 第32-36页 |
| (1) 概述 | 第32-33页 |
| (2) 窄带增透膜的设计 | 第33-35页 |
| (3) 宽带增透膜的设计 | 第35-36页 |
| 4、延迟器件增透膜的设计 | 第36-43页 |
| (1) 云母1／4波片表面多次相干反射对延迟量和透过率的影响 | 第36-41页 |
| (2) 增透膜的设计 | 第41-43页 |
| 四、样品的制备、测试与分析 | 第43-64页 |
| 1、膜料附着力的研究 | 第43-46页 |
| 2、薄膜样品的制备 | 第46-51页 |
| 3、棱镜增透膜反射光谱的测试与分析 | 第51-60页 |
| (1) 棱镜端面增透膜反射光谱的测试 | 第51-56页 |
| (2) Glan—Taylor棱镜斜面增透膜反射率的测试 | 第56-60页 |
| 4、云母1／4波片透过率及延迟量的测量与分析 | 第60-62页 |
| (1) 透过率的测量 | 第60-61页 |
| (2) 相位延迟量的测量 | 第61-62页 |
| 5、样品制备与测量误差定性分析 | 第62-64页 |
| 全文总结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 已完成的工作或发表的论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |