摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-17页 |
第一部分: 文献综述 | 第17-31页 |
第1章 二茂铁基聚合物的制备、性能及应用 | 第17-31页 |
1.1 二茂铁基聚合物的制备和聚合机理 | 第17-22页 |
1.1.1 热引发开环聚合(ROP) | 第17-19页 |
1.1.2 阴离子引发ROP | 第19页 |
1.1.3 过渡金属催化ROP | 第19-21页 |
1.1.4 亲核试剂辅助ROP | 第21页 |
1.1.5 阳离子引发ROP | 第21-22页 |
1.2 二茂铁基聚合物的性能及应用 | 第22-30页 |
1.2.1 结晶性 | 第22页 |
1.2.2 溶解性 | 第22页 |
1.2.3 电化学性质 | 第22-23页 |
1.2.4 磁性 | 第23-25页 |
1.2.5 水溶性二茂铁基聚合物 | 第25-26页 |
1.2.6 自组装纳米胶束和纳米膜 | 第26-27页 |
1.2.7 光敏材料 | 第27-28页 |
1.2.8 电纺丝 | 第28页 |
1.2.9 电荷分散涂层 | 第28页 |
1.2.10 氧化还原凝胶 | 第28页 |
1.2.11 液晶材料 | 第28-29页 |
1.2.12 纳米蚀刻 | 第29页 |
1.2.13 可变折射指数材料 | 第29页 |
1.2.14 印刷显色剂材料 | 第29-30页 |
1.2.15 传感材料和修饰电极 | 第30页 |
1.3 研究课题的提出及意义 | 第30-31页 |
第二部分: 实验部分 | 第31-37页 |
第2章 试剂、仪器装置和实验方法 | 第31-37页 |
2.1 主要试剂的规格、来源及主要试剂的精制 | 第31-32页 |
2.1.1 主要试剂的规格和来源 | 第31-32页 |
2.1.2 主要试剂的精制 | 第32页 |
2.2 合成实验装置和仪器 | 第32页 |
2.3 表征仪器及方法 | 第32-33页 |
2.3.1 氢-核磁共振谱(H-NMR) | 第32-33页 |
2.3.2 傅立叶红外光谱(FT-IR) | 第33页 |
2.3.3 紫外-可见光谱(UV-vis) | 第33页 |
2.3.4 凝胶色谱(GPC) | 第33页 |
2.3.5 差示扫描量热法(DSC) | 第33页 |
2.3.6 热重分析(TGA) | 第33页 |
2.4 单分子力谱仪及方法 | 第33页 |
2.5 电化学测量仪器及方法 | 第33-35页 |
2.5.1 聚合物膜的循环伏安法 | 第33-34页 |
2.5.2 聚合物溶液的循环伏安法 | 第34页 |
2.5.3 聚合物的电化学石英晶体微天平(EQCM)测量 | 第34页 |
2.5.4 iR_u电位降补偿 | 第34-35页 |
2.5.5 溶液电导率测量 | 第35页 |
2.6 阳离子聚二茂铁自组装膜的制备及研究方法 | 第35-37页 |
2.6.1 石英片上的层层自组装和膜的UV-vis光谱 | 第35页 |
2.6.2 EQCM金电极上的层层自组装和电化学研究 | 第35-37页 |
第三部分: 结果与讨论 | 第37-117页 |
第3章 二茂铁基聚合物的合成及表征 | 第37-51页 |
3.1 二茂铁基聚合物的合成 | 第37-41页 |
3.1.1 二茂铁二甲基硅烷和聚二茂铁二甲基硅烷(PFDMS)的合成 | 第37-38页 |
3.1.2 二茂铁甲基苯基硅烷和聚二茂铁甲基苯基硅烷(PFMPS)的合成 | 第38页 |
3.1.3 聚二茂铁甲基氯硅烷合成 | 第38-39页 |
3.1.4 聚二茂铁甲基(4-甲酸正丁酯基)苯氧基硅烷(PFMBOCS)的合成 | 第39页 |
3.1.5 聚二茂铁甲基(3-二乙胺基)苯氧基硅烷(PFMDEAS)的合成 | 第39-40页 |
3.1.6 聚二茂铁甲基(4-二甲胺基)苯基硅烷(PFMDMAS)的合成 | 第40页 |
3.1.7 二茂铁基聚合物合成的小结 | 第40-41页 |
3.2 二茂铁基聚合物的表征和分析 | 第41-49页 |
3.2.1 二茂铁基聚合物的氢-核磁共振谱(H-NMR)分析 | 第41-42页 |
3.2.2 二茂铁基聚合物的红外光谱(IR)分析 | 第42-43页 |
3.2.3 二茂铁基聚合物的紫外-可见光谱(UV-Vis)分析 | 第43-46页 |
3.2.4 二茂铁基聚合物的凝胶色谱(GPC)分析 | 第46-47页 |
3.2.5 二茂铁基聚合物的差示扫描量热法(DSC)分析 | 第47-48页 |
3.2.6 二茂铁基聚合物的热重分析(TGA)和微商热重分析(DTG) | 第48-49页 |
3.3 小结 | 第49-51页 |
第4章 聚二茂铁硅烷的单分子力谱研究 | 第51-59页 |
4.1 单分子力谱的基本原理 | 第51-54页 |
4.2 聚二茂铁硅烷的单链弹性 | 第54-58页 |
4.2.1 PFDMS的单链弹性 | 第54-55页 |
4.2.2 PFDMS和PFMPS链弹性的比较 | 第55-56页 |
4.2.3 PFDMS和PFMPS氧化后的链弹性 | 第56-58页 |
4.3 小结 | 第58-59页 |
第5章 聚二茂铁硅烷膜的电化学研究 | 第59-94页 |
5.1 聚二茂铁硅烷膜在水溶液中的电化学研究 | 第59-70页 |
5.1.1 PFDMS膜和PFMPS膜在八种电解质水溶液中的CV行为 | 第59-63页 |
5.1.2 PFDMS膜和PFMPS膜在LiClO_4水溶液中CV行为的影响因素 | 第63-68页 |
5.1.3 PFS膜在水溶液中的电极过程动力学 | 第68-70页 |
5.2 聚二茂铁硅烷膜电化学行为的溶剂效应 | 第70-84页 |
5.2.1 四种PFS膜在八种有机溶剂中的CV行为 | 第71-77页 |
5.2.2 对溶剂效应的探讨 | 第77-79页 |
5.2.3 PFS分子结构对其膜的CV行为的影响 | 第79-81页 |
5.2.4 PFS膜在有机溶剂中的电极过程动力学 | 第81-84页 |
5.3 电解质离子体积对聚二茂铁硅烷膜电化学行为的影响 | 第84-91页 |
5.3.1 具有不同体积离子的电解质对PFS膜电化学行为的影响 | 第84-90页 |
5.3.2 在Bu_4NClO_4和Bu_4NBF_4溶液中PFS膜的电极过程动力学 | 第90-91页 |
5.4 小结 | 第91-94页 |
第6章 聚二茂铁硅烷溶液的电化学研究 | 第94-99页 |
6.1 聚二茂铁硅烷溶液的电化学行为 | 第94-96页 |
6.2 聚二茂铁硅烷溶液的电极过程动力学 | 第96-97页 |
6.3 小结 | 第97-99页 |
第7章 聚二茂铁硅烷的电化学石英晶体微天平(EQCM)法研究 | 第99-111页 |
7.1 EQCM法的基本原理 | 第99-100页 |
7.2 聚二茂铁硅烷膜的EQCM法研究 | 第100-106页 |
7.2.1 PFDMS膜在几种溶液中的EQCM法研究 | 第100-104页 |
7.2.2 电解质离子体积的影响 | 第104-105页 |
7.2.3 电解质浓度的影响 | 第105-106页 |
7.3 聚二茂铁硅烷溶液的EQCM法研究 | 第106-109页 |
7.3.1 聚二茂铁硅烷溶液的EQCM | 第106-109页 |
7.4 小结 | 第109-111页 |
第8章 聚二茂铁硅烷多层自组装膜的研究 | 第111-117页 |
8.1 聚二茂铁硅烷多层自组装膜的UV-vis光谱 | 第111-113页 |
8.2 聚二茂铁硅烷多层自组装膜的电化学研究 | 第113-116页 |
8.3 小结 | 第116-117页 |
第四部分: 结论 | 第117-121页 |
第9章 结论 | 第117-121页 |
参考文献 | 第121-134页 |
攻读博士学位期间已发表和待发表的论文 | 第134-136页 |
致谢 | 第136页 |