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基于模糊PID控制的电阻炉炉温系统的研究

中文摘要第1-5页
英文摘要第5-9页
第1章 绪论第9-18页
 1.1 引言第9-10页
 1.2 控制器发展现状第10-14页
  1.2.1 自适应控制第10-11页
  1.2.2 PID控制器的发展现状第11-12页
  1.2.3 模糊PID控制第12-13页
  1.2.4 模糊自适应PID控制第13页
  1.2.5 神经网络模糊PID控制第13-14页
 1.3 电阻炉采用模糊自整定PID控制的可行性第14页
 1.4 控制要求第14-15页
 1.5 系统设计的主要内容及实验方案第15-18页
  1.5.1 控制系统方案的设计第15-16页
  1.5.2 系统设计的主要内容第16页
  1.5.3 系统的控制功能第16-17页
  1.5.4 实验方案第17-18页
第2章 模糊自整定PID控制器的设计第18-40页
 2.1 模糊推理机的设计第18-22页
  2.1.1 模糊推理机的结构第18-19页
  2.1.2 模糊推理机的设计第19-22页
  2.1.3 模糊控制器参数与控制系统响应特性关系第22页
 2.2 模糊自整定PID控制器第22-32页
  2.2.1 PID参数对PID控制性能的影响第23-24页
  2.2.2 模糊自整定PID控制器第24-26页
  2.2.3 Bang-bang控制第26-27页
  2.2.4 系统辨识与PID初始参数第27-32页
 2.3 模糊自整定PID控制器性能的研究第32-39页
  2.3.1 惯性时间常数的影响第32-35页
  2.3.2 纯滞后时间的影响第35-38页
  2.3.3 仿真结果分析第38-39页
 2.4 本章小结第39-40页
第3章 “零保温”加热工艺第40-48页
 3.1 引言第40页
 3.2 金属工件加热的一些基本理论第40-42页
  3.2.1 金属工件加热的热传递过程第40-41页
  3.2.2 金属工件加热的工艺阶段划分第41页
  3.2.3 传统加热时间的规定第41-42页
 3.3 奥氏体化过程的控制和零保温加热工艺第42-47页
  3.3.1 最佳奥氏体状态与淬火组织第42-45页
  3.3.2 奥氏体化过程的控制第45-46页
  3.3.3 加热过程中的热量与时间t的关系第46-47页
 3.4 本章小结第47-48页
第4章 系统上位机的硬件、软件设计第48-74页
 4.1 引言第48页
 4.2 下位机总体结构第48-50页
  4.2.1 下位机硬件结构第48-49页
  4.2.2 下位机程序主体结构第49-50页
 4.3 下位机各主要功能模块第50-64页
  4.3.1 温度检测电路第50-52页
  4.3.2 8031单片机接口电路第52-58页
  4.3.3 可控硅调功控温第58-61页
  4.3.4 与上位机通信模块第61-64页
  4.3.5 掉电检测与保护电路第64页
 4.4 软件涉及的主要算法第64-72页
  4.4.1 热电偶线性化第64-68页
  4.4.2 模糊自整定PID控制算法第68-72页
 4.5 主要工作过程第72页
 4.6 本章小结第72-74页
第5章 系统上位机的硬件、软件设计第74-82页
 5.1 引言第74页
 5.2 系统上位机的通信第74-79页
  5.2.1 可编程异步通信接口8250介绍第74-76页
  5.2.2 上下位机通信流程第76-78页
  5.2.3 通信接口电路第78-79页
 5.3 上下位机联合操作流程第79-80页
 5.4 系统的抗干扰措施第80-81页
 5.5 本章小结第81-82页
第6章 电阻炉实时控制实验调试及分析第82-89页
 6.1 控制对象简介第82-83页
 6.2 空载电阻炉的温度控制第83-85页
  6.2.1 没有扰动时电阻炉温度控制第83-85页
  6.2.2 有扰动时电阻炉温度控制第85页
 6.3 煅烧工件的温度控制第85-88页
  6.3.1 煅烧工件的温度控制第85-86页
  6.3.2 被加热工件组织对比实验第86-88页
 6.4 本章小结第88-89页
结论第89-90页
参考文献第90-95页
攻读硕士学位期间所发表的论文第95-96页
致谢第96-97页
作者简介第97页

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