摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
1 绪论 | 第10-35页 |
·低温等离子体微细加工技术概述 | 第10-11页 |
·低温等离子体源综述 | 第11-17页 |
·射频容性耦合等离子体源 | 第11-12页 |
·微波电子回旋共振等离子体源 | 第12-13页 |
·螺旋波等离子体源 | 第13-14页 |
·螺旋共振等离子体源 | 第14-15页 |
·射频感性耦合等离子体源 | 第15-17页 |
·ICP模式跳变及回滞现象的研究进展 | 第17-33页 |
·放电模式跳变及回滞现象的实验研究现状 | 第18-29页 |
·放电模式跳变及回滞现象的理论研究现状 | 第29-33页 |
·模式跳变以及回滞现象研究中存在的问题 | 第33-34页 |
·本文的研究内容及编排 | 第34-35页 |
2 实验系统介绍 | 第35-41页 |
·引言 | 第35页 |
·实验装置简述 | 第35-37页 |
·实验诊断装置 | 第37-41页 |
·Z-Scan测量系统的介绍 | 第37页 |
·Langmuir探针的介绍 | 第37-40页 |
·ICCD测量系统的介绍 | 第40-41页 |
3 H模式下等离子体属性的实验研究 | 第41-56页 |
·引言 | 第41页 |
·Ar等离子体空间分布的探针诊断及模拟验证 | 第41-49页 |
·Ar-CF_4混合气体放电的探针定点诊断 | 第49-54页 |
·本章小结 | 第54-56页 |
4 ICP放电中模式跳变的实验研究 | 第56-65页 |
·引言 | 第56页 |
·ICP中模式跳变的Langmuir探针和ICCD定点测量 | 第56-59页 |
·ICP中模式跳变的ICCD二维测量 | 第59-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
5 ICP放电的回滞现象的实验研究 | 第65-83页 |
·引言 | 第65页 |
·匹配网络对回滞现象的影响 | 第65-79页 |
·调节串联电容观察回滞环的变化 | 第65-73页 |
·不同串联电容值下回滞环的变化规律 | 第73-79页 |
·气压对回滞环的影响 | 第79-80页 |
·混合气体比例对回滞环的影响 | 第80-82页 |
·Ar-N_2混合气体比率对回滞环的影响 | 第80-81页 |
·Ar-O_2混合气体比率对回滞环的影响 | 第81-82页 |
·本章小结 | 第82-83页 |
6 在E和H模式下基片台偏压对ICP参数影响的实验研究 | 第83-91页 |
·引言 | 第83页 |
·射频偏压对ICP特性的影响 | 第83-87页 |
·ICP二维空间分布的ICCD测量 | 第87-90页 |
·本章小结 | 第90-91页 |
结论与展望 | 第91-94页 |
1 本文主要结论 | 第91-92页 |
2 工作展望 | 第92-94页 |
参考文献 | 第94-99页 |
攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第99-100页 |
创新点摘要 | 第100-101页 |
致谢 | 第101-102页 |
作者简介 | 第102-103页 |