第一章 文献综述 | 第1-31页 |
·引言 | 第9-10页 |
·ZnO的性质 | 第10-14页 |
·ZnO薄膜的晶体结构 | 第10-12页 |
·ZnO薄膜的光电性质 | 第12-13页 |
·ZnO的气敏性质 | 第13页 |
·ZnO的压敏性质 | 第13-14页 |
·ZnO的压电性质 | 第14页 |
·ZnO薄膜中点缺陷及点缺陷对绿色发光的贡献 | 第14-18页 |
·ZnO薄膜中的点缺陷 | 第14-15页 |
·ZnO薄膜中点缺陷对绿色发光的贡献 | 第15-18页 |
·ZnO薄膜禁带宽度的调节 | 第18-21页 |
·ZnO薄膜制备技术简介 | 第21-31页 |
·磁控溅射(Magnetron sputtering) | 第21-22页 |
·喷雾热解(Spray pyrolysis) | 第22页 |
·化学气相沉积(CVD) | 第22-26页 |
·分子束外延(MBE)技术 | 第26-27页 |
·原子层外延生长法(ALE) | 第27-28页 |
·脉冲激光沉积(PLD) | 第28-29页 |
·溶胶凝胶(Sol-gel) | 第29-31页 |
第二章 溶胶凝胶成膜原理与工艺 | 第31-37页 |
·溶胶凝胶制备薄膜的原理 | 第31-32页 |
·溶胶凝胶制备ZnO及合金薄膜的工艺 | 第32-35页 |
·溶胶的制备 | 第33-34页 |
·溶胶凝胶制备薄膜的方法 | 第34页 |
·薄膜的热处理 | 第34-35页 |
·溶胶性质和工艺参数对薄膜的影响 | 第35-37页 |
·溶胶性质对薄膜的影响 | 第35页 |
·工艺参数对薄膜厚度的影响 | 第35-36页 |
·工艺参数对薄膜性能的影响 | 第36-37页 |
第三章 溶胶凝胶旋涂法制备ZnO薄膜 | 第37-41页 |
·引言 | 第37页 |
·实验设备 | 第37页 |
·实验原料 | 第37页 |
·实验主要步骤 | 第37-41页 |
第四章 旋涂沉积ZnO薄膜的性能测试 | 第41-49页 |
·引言 | 第41-42页 |
·石英玻璃为衬底的ZnO薄膜性能测试 | 第42-45页 |
·热处理温度对ZnO薄膜结晶状况的影响 | 第42-43页 |
·热处理温度对ZnO薄膜吸收光谱的影响 | 第43-44页 |
·热处理温度对ZnO薄膜光致发光谱的影响 | 第44-45页 |
·硅为衬底的ZnO薄膜性能测试 | 第45-49页 |
·热处理温度对ZnO薄膜结晶状况的影响 | 第45页 |
·热处理温度对ZnO薄膜光致发光谱的影响 | 第45-46页 |
·热处理时间对ZnO薄膜光致发光谱的影响 | 第46-47页 |
·热处理时间对ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第47-49页 |
第五章 溶胶凝胶浸渍法制备ZnO薄膜 | 第49-52页 |
·引言 | 第49页 |
·实验设备 | 第49页 |
·实验原料 | 第49-50页 |
·实验主要步骤 | 第50-52页 |
第六章 浸渍沉积ZnO薄膜的性能测试 | 第52-59页 |
·引言 | 第52页 |
·提拉速度对ZnO薄膜厚度的影响 | 第52-54页 |
·石英玻璃为衬底的ZnO薄膜性能测试 | 第54-59页 |
·热处理温度对ZnO薄膜晶体结构的影响 | 第54-55页 |
·热处理温度对ZnO薄膜吸收谱的影响 | 第55-56页 |
·热处理温度对ZnO薄膜光致发光谱的影响 | 第56-59页 |
第七章 Mg_xZn_(1-x)O合金薄膜的制备与表征 | 第59-67页 |
·引言 | 第59页 |
·实验原料 | 第59页 |
·实验主要步骤 | 第59-60页 |
·Mg_xZn_(1-x)O合金薄膜的表征 | 第60-67页 |
·Mg~(2+)含量对Mg_xZn_(1-x)O薄膜晶格常数的影响 | 第61-62页 |
·Mg~(2+)含量对Mg_xZn_(1-x)O薄膜吸收光谱的影响 | 第62-63页 |
·Mg~(2+)含量对Mg_xZn_(1-x)O薄膜光致发光性能的影响 | 第63-64页 |
·热处理温度对Mg_(0.1)Zn_(0.9)O薄膜吸收光谱的影响 | 第64页 |
·热处理温度对Mg_(0.1)Zn_(0.9)O薄膜光致发光性能的影响 | 第64-67页 |
第八章 结论 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-76页 |
攻读硕士期间公开发表和已录用的学术论文: | 第76-77页 |
致谢 | 第77页 |