Bi2201薄膜厚度测定及择优取向的X射线法研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·高温超导薄膜概述及应用 | 第9-10页 |
| ·研究现状与进展 | 第10-16页 |
| ·薄膜厚度研究进展 | 第11-14页 |
| ·薄膜择优取向测量研究进展 | 第14-15页 |
| ·薄膜形核与外延机制的研究进展 | 第15-16页 |
| ·本文研究目的及意义 | 第16-19页 |
| ·本文研究目的 | 第16-17页 |
| ·本文研究意义 | 第17-19页 |
| 第2章 实验原理与方法 | 第19-31页 |
| ·样品制备 | 第19-21页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第19页 |
| ·薄膜形核生长理论 | 第19-21页 |
| ·样品表征手段 | 第21-31页 |
| ·XRR测量薄膜厚度 | 第21-27页 |
| ·X射线Φ扫法原理 | 第27-31页 |
| 第3章 Bi2201薄膜制备前期工作 | 第31-49页 |
| ·Bi2201薄膜制备前期工作 | 第31-42页 |
| ·蒸发速率的测量 | 第31-39页 |
| ·高浓度臭氧 | 第39-42页 |
| ·Bi2201薄膜制备 | 第42-44页 |
| ·Bi2201薄膜厚度研究 | 第44-48页 |
| ·XRR法测量Bi2201薄膜厚度 | 第44-46页 |
| ·XRR方法的精确性研究 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 Bi2201薄膜择优取向研究 | 第49-59页 |
| ·Bi2201择优取向的测量及面内错配情况 | 第49-55页 |
| ·Bi2201在MgO(001)上的倾转 | 第55-56页 |
| ·Bi2201薄膜择优取向性质随厚度的变化关系 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 全文总结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 附录 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
