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玻璃基质光波导及其掺铒波导光放大器的离子交换法制备

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-8页
第一章 绪论第8-26页
   ·光纤通信与集成光学第8-9页
   ·玻璃基质光波导器件第9-11页
   ·离子交换技术制备光波导的研究综述第11-20页
     ·离子交换技术研究的历史回顾第11-13页
     ·离子交换技术的典型成果和最新动态第13-20页
   ·本论文的主要工作和各章节安排第20-21页
 参考文献第21-26页
第二章 离子交换技术的原理和基础第26-43页
   ·离子交换的基本原理第26-29页
   ·离子交换波导器件的制备工艺第29-32页
     ·一维平面波导的离子交换第29-30页
     ·二维条波导的离子交换第30-32页
   ·离子交换过程的理论基础第32-34页
     ·扩散方程的一般形式第32-33页
     ·一维扩散方程的求解第33-34页
     ·二维扩散方程的求解第34页
   ·一维渐变折射率波导的模式分析第34-40页
     ·WKB近似和分析转移矩阵(ATM)方法第34-37页
     ·m线测量法和反WKB近似第37-40页
   ·本章小结第40页
 参考文献第40-43页
第三章 稀土掺杂有源光波导的增益特性及数值模拟第43-63页
   ·稀土掺杂玻璃的发光机理第43-46页
     ·增益放大的基本原理第43页
     ·稀土离子的跃迁机制第43-46页
   ·材料的非辐射跃迁对增益的影响第46-48页
   ·增益介质的速率—传输方程理论第48-53页
     ·铒镱共掺体系的速率方程第49-51页
     ·能量传输方程第51-52页
     ·泵浦光平和信号光光强分布重叠因子对增益的影响第52-53页
   ·数值模拟结果与讨论第53-60页
   ·本章小结第60页
 参考文献第60-63页
第四章 玻璃基铒镱共掺波导放大器和无损分束器的研制第63-80页
   ·研究背景及意义介绍第63-65页
     ·选题的意义第63-64页
     ·离子交换EDWA研究的历史回顾第64-65页
   ·平面波导的制备和一维渐变折射率分布的表征第65-67页
   ·半导体光刻工艺和二维条波导的制备第67-70页
     ·半导体光刻工艺第67-69页
     ·二次离子交换和端面抛光第69-70页
   ·二维折射率分布及模场分布的理论分析第70-73页
     ·二维扩散方程的有限元法求解第70-72页
     ·二维条波导模场的数值模拟第72-73页
   ·器件的增益性质测量第73-77页
     ·EYDWA器件第73-76页
     ·Y型无损分束器件第76-77页
   ·本章小结第77页
 参考文献第77-80页
第五章 离子交换技术制备低损耗硅基二氧化硅光波导第80-99页
   ·研究背景及意义介绍第80-82页
     ·硅基二氧化硅技术与离子交换技术相结合的意义第80-81页
     ·溶胶-凝胶玻璃光波导研究简介第81-82页
   ·可交换硅基二氧化硅薄膜的制备第82-86页
     ·溶胶的配制第82-84页
     ·多层膜制备技术第84-86页
   ·离子交换平面波导的性质研究第86-90页
     ·离子交换薄膜的折射率分布第86-88页
     ·平面波导的传输损耗研究第88-90页
   ·二维条波导的制备和光学性质测量第90-96页
     ·二维波导折射率分布的研究第90-94页
     ·二维波导损耗特性的研究第94-96页
   ·本章小结第96-97页
 参考文献第97-99页
第六章 离子交换硅基二氧化硅波导光放大器的研制第99-112页
   ·研究背景及意义第99-101页
   ·饵镱共掺硅基二氧化硅薄膜的制备和荧光性质第101-102页
   ·波导光放大器的研制和性能测量第102-110页
     ·波导损耗性质的测量第102-104页
     ·波导模场性质的测量第104-105页
     ·波导增益特性的测量第105-110页
   ·本章小结第110页
 参考文献第110-112页
第七章 总结与展望第112-114页
   ·对本论文工作的总结第112-113页
   ·下一步的工作第113-114页
后记第114-116页
 攻读博士期间发表的论文第114-115页
 致谢第115-116页

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