摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第8-26页 |
·光纤通信与集成光学 | 第8-9页 |
·玻璃基质光波导器件 | 第9-11页 |
·离子交换技术制备光波导的研究综述 | 第11-20页 |
·离子交换技术研究的历史回顾 | 第11-13页 |
·离子交换技术的典型成果和最新动态 | 第13-20页 |
·本论文的主要工作和各章节安排 | 第20-21页 |
参考文献 | 第21-26页 |
第二章 离子交换技术的原理和基础 | 第26-43页 |
·离子交换的基本原理 | 第26-29页 |
·离子交换波导器件的制备工艺 | 第29-32页 |
·一维平面波导的离子交换 | 第29-30页 |
·二维条波导的离子交换 | 第30-32页 |
·离子交换过程的理论基础 | 第32-34页 |
·扩散方程的一般形式 | 第32-33页 |
·一维扩散方程的求解 | 第33-34页 |
·二维扩散方程的求解 | 第34页 |
·一维渐变折射率波导的模式分析 | 第34-40页 |
·WKB近似和分析转移矩阵(ATM)方法 | 第34-37页 |
·m线测量法和反WKB近似 | 第37-40页 |
·本章小结 | 第40页 |
参考文献 | 第40-43页 |
第三章 稀土掺杂有源光波导的增益特性及数值模拟 | 第43-63页 |
·稀土掺杂玻璃的发光机理 | 第43-46页 |
·增益放大的基本原理 | 第43页 |
·稀土离子的跃迁机制 | 第43-46页 |
·材料的非辐射跃迁对增益的影响 | 第46-48页 |
·增益介质的速率—传输方程理论 | 第48-53页 |
·铒镱共掺体系的速率方程 | 第49-51页 |
·能量传输方程 | 第51-52页 |
·泵浦光平和信号光光强分布重叠因子对增益的影响 | 第52-53页 |
·数值模拟结果与讨论 | 第53-60页 |
·本章小结 | 第60页 |
参考文献 | 第60-63页 |
第四章 玻璃基铒镱共掺波导放大器和无损分束器的研制 | 第63-80页 |
·研究背景及意义介绍 | 第63-65页 |
·选题的意义 | 第63-64页 |
·离子交换EDWA研究的历史回顾 | 第64-65页 |
·平面波导的制备和一维渐变折射率分布的表征 | 第65-67页 |
·半导体光刻工艺和二维条波导的制备 | 第67-70页 |
·半导体光刻工艺 | 第67-69页 |
·二次离子交换和端面抛光 | 第69-70页 |
·二维折射率分布及模场分布的理论分析 | 第70-73页 |
·二维扩散方程的有限元法求解 | 第70-72页 |
·二维条波导模场的数值模拟 | 第72-73页 |
·器件的增益性质测量 | 第73-77页 |
·EYDWA器件 | 第73-76页 |
·Y型无损分束器件 | 第76-77页 |
·本章小结 | 第77页 |
参考文献 | 第77-80页 |
第五章 离子交换技术制备低损耗硅基二氧化硅光波导 | 第80-99页 |
·研究背景及意义介绍 | 第80-82页 |
·硅基二氧化硅技术与离子交换技术相结合的意义 | 第80-81页 |
·溶胶-凝胶玻璃光波导研究简介 | 第81-82页 |
·可交换硅基二氧化硅薄膜的制备 | 第82-86页 |
·溶胶的配制 | 第82-84页 |
·多层膜制备技术 | 第84-86页 |
·离子交换平面波导的性质研究 | 第86-90页 |
·离子交换薄膜的折射率分布 | 第86-88页 |
·平面波导的传输损耗研究 | 第88-90页 |
·二维条波导的制备和光学性质测量 | 第90-96页 |
·二维波导折射率分布的研究 | 第90-94页 |
·二维波导损耗特性的研究 | 第94-96页 |
·本章小结 | 第96-97页 |
参考文献 | 第97-99页 |
第六章 离子交换硅基二氧化硅波导光放大器的研制 | 第99-112页 |
·研究背景及意义 | 第99-101页 |
·饵镱共掺硅基二氧化硅薄膜的制备和荧光性质 | 第101-102页 |
·波导光放大器的研制和性能测量 | 第102-110页 |
·波导损耗性质的测量 | 第102-104页 |
·波导模场性质的测量 | 第104-105页 |
·波导增益特性的测量 | 第105-110页 |
·本章小结 | 第110页 |
参考文献 | 第110-112页 |
第七章 总结与展望 | 第112-114页 |
·对本论文工作的总结 | 第112-113页 |
·下一步的工作 | 第113-114页 |
后记 | 第114-116页 |
攻读博士期间发表的论文 | 第114-115页 |
致谢 | 第115-116页 |