| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 前言 | 第8-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-24页 |
| ·生物矿化与仿生合成 | 第9-14页 |
| ·生物矿化的概念与机理 | 第9-11页 |
| ·DNA 在仿生材料组装中的应用 | 第11-13页 |
| ·DNA 结构的多样性 | 第13-14页 |
| ·自组装单层膜纳米技术 | 第14-17页 |
| ·自组装单层膜的形成机理 | 第14-16页 |
| ·SAMs 与溶液之间的表—界面作用 | 第16-17页 |
| ·纳米薄膜材料的概述 | 第17-23页 |
| ·纳米薄膜材料的分类和制备方法 | 第18-20页 |
| ·自组装液相沉积技术 | 第20-21页 |
| ·二氧化钛薄膜的制备与应用 | 第21页 |
| ·SAMs 膜引导二氧化钛的研究 | 第21-23页 |
| ·论文工作的提出 | 第23-24页 |
| 第二章 实验步骤及方法 | 第24-31页 |
| ·实验器材 | 第24-26页 |
| ·实验基片 | 第24页 |
| ·实验药品和试剂 | 第24-25页 |
| ·实验设备和表征设备 | 第25-26页 |
| ·实验步骤 | 第26-28页 |
| ·基片的预处理 | 第26页 |
| ·SAMs 的组装 | 第26-27页 |
| ·戊二醛的修饰 | 第27页 |
| ·DNA 的固定化 | 第27-28页 |
| ·TiO_2薄膜的沉积 | 第28页 |
| ·TiCl_4为前驱反应物 | 第28页 |
| ·Ti(OBu)_4为前驱反应物 | 第28页 |
| ·样品的表征 | 第28-31页 |
| ·样品表面接触角的表征 | 第28页 |
| ·样品表面形貌的原子力显微镜(AFM)表征 | 第28-29页 |
| ·样品表面元素组成的X-射线光电子能谱表征 | 第29页 |
| ·样品结构及晶相的X-射线衍射表征 | 第29页 |
| ·DNA 样品构象的圆二色光谱(CD)表征 | 第29页 |
| ·DNA 样品热变性的圆二色光谱实验 | 第29-30页 |
| ·沉积膜的可见光透过性UV-vis 实验 | 第30页 |
| ·沉积膜表面Raman 光谱的测定 | 第30-31页 |
| 第三章 硅烷在基底表面的自组装及DNA 的固载化 | 第31-46页 |
| ·硅烷分子在基底表面的自组装 | 第31-37页 |
| ·自组装APTMS 膜层的形成及组成分析 | 第31-33页 |
| ·表面接触角分析 | 第33-34页 |
| ·表面自组装膜层的形貌分析 | 第34-37页 |
| ·DNA 在基底表面固载化的研究 | 第37-44页 |
| ·DNA 序列构象以及Tm 值的研究 | 第38-39页 |
| ·DNA 固定化的基底组成分析 | 第39-42页 |
| ·DNA 固载化后基底表面形貌的研究 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 TiO_2在DNA 固载化基底上的沉积 | 第46-62页 |
| ·前驱体溶液的选择 | 第46-54页 |
| ·钛酸丁酯作为前驱体 | 第46-49页 |
| ·二氧化钛组装体表面形貌分析 | 第46-48页 |
| ·二氧化钛组装体表面元素组成分析 | 第48-49页 |
| ·四氯化钛作为前驱体 | 第49-54页 |
| ·H_2O_2体系下溶液性质的考察 | 第49-50页 |
| ·H_2O_2体系下的沉积膜的表面形貌表征 | 第50-51页 |
| ·无H_2O_2体系下溶液性质的考察 | 第51-54页 |
| ·表面沉积膜的化学组成、结构和生长特性 | 第54-60页 |
| ·表面沉积膜的表面形貌 | 第54-57页 |
| ·表面沉积膜的晶型结构分析 | 第57-60页 |
| ·沉积二氧化钛薄膜的透光率分析 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 TiO_2在磷酸基功能化基底表面的液相沉积 | 第62-72页 |
| ·基底表面磷酸基功能化后组成及形貌分析 | 第62-65页 |
| ·功能化基底表面接触角的分析 | 第62-63页 |
| ·功能化基底表面元素组成的 | 第63-65页 |
| ·二氧化钛在功能化基底表面沉积的形貌及组成分析 | 第65-71页 |
| ·前驱体溶液的选择 | 第65-67页 |
| ·纳米颗粒Zeta 电位的测定 | 第67-68页 |
| ·前驱体溶液析晶情况的考察 | 第68-70页 |
| ·沉积薄膜表面形貌和成分分析 | 第70-71页 |
| ·本章小节 | 第71-72页 |
| 第六章 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |