| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-38页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·闪耀光栅(blazed grating) | 第12-16页 |
| ·闪耀光栅的历史 | 第13-14页 |
| ·闪耀光栅的使用参数 | 第14-15页 |
| ·光栅的衍射效率 | 第15-16页 |
| ·非对称锯齿形闪耀光栅的制作方法 | 第16-22页 |
| ·机械刻划法 | 第16-17页 |
| ·全息干涉法 | 第17-19页 |
| ·全息离子束刻蚀法 | 第19-21页 |
| ·晶体的各向异性刻蚀法 | 第21页 |
| ·激光直写技术、电子束曝光技术和聚焦离子束加工技术 | 第21-22页 |
| ·灰度曝光技术 | 第22页 |
| ·基于传统工艺的调控闪耀光栅参数的一些新方法 | 第22-24页 |
| ·驻波法全息干涉闪耀光栅结合(Ar+O_2)反应离子束刻蚀 | 第22-23页 |
| ·机械刻划闪耀光栅结合(Ar+O_2)离子束刻蚀 | 第23页 |
| ·闪耀光栅覆膜法 | 第23-24页 |
| ·全息-(Ar+O_2)离子束刻蚀法 | 第24页 |
| ·单晶硅各向异性刻蚀法制作闪耀光栅 | 第24-31页 |
| ·硅的基本性质 | 第24页 |
| ·单晶硅的湿法各向同性刻蚀 | 第24-25页 |
| ·单晶硅的湿法各向异性刻蚀 | 第25-27页 |
| ·单晶硅各向异性湿法刻蚀制作闪耀光栅 | 第27-31页 |
| ·选题意义及论文构成 | 第31-33页 |
| ·选题意义 | 第31页 |
| ·论文构成 | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-38页 |
| 第二章 偏向硅片的准备 | 第38-54页 |
| ·硅片的加工 | 第38-40页 |
| ·单晶硅的生长 | 第38-39页 |
| ·硅片的加工 | 第39-40页 |
| ·硅片的检测 | 第40-46页 |
| ·硅片表面的粗糙度测量 | 第41-42页 |
| ·硅片的切偏角度与单晶质量 | 第42-46页 |
| ·硅片的切割 | 第46-47页 |
| ·硅片的清洁 | 第47-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第三章 热氧化层掩模与湿法刻蚀 | 第54-70页 |
| ·二氧化硅层的获得 | 第54-56页 |
| ·二氧化硅 | 第54页 |
| ·热氧化法介绍 | 第54-55页 |
| ·二氧化硅掩模层的生长和厚度测量 | 第55-56页 |
| ·光栅制作工艺路线的确定 | 第56-59页 |
| ·干法刻蚀图形转移 | 第56-58页 |
| ·湿法刻蚀图形转移 | 第58页 |
| ·实验方案的确定 | 第58-59页 |
| ·光刻胶掩模的获得和转移 | 第59-63页 |
| ·全息干涉条纹的获得 | 第59-60页 |
| ·全息曝光中的驻波问题 | 第60页 |
| ·图形湿法转移的分析 | 第60-63页 |
| ·各向异性湿法刻蚀后的硅光栅 | 第63-67页 |
| ·厚氧化层掩模的湿法刻蚀结果 | 第63-64页 |
| ·薄氧化层掩模的湿法刻蚀结果 | 第64-66页 |
| ·减薄氧化层掩模的湿法刻蚀结果 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| ·存在的问题 | 第68页 |
| ·解决方案 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-70页 |
| 第四章 硅天然氧化层掩模与湿法刻蚀 | 第70-94页 |
| ·良好光刻胶掩模的获得 | 第70-79页 |
| ·残余光刻胶问题 | 第70页 |
| ·光刻胶灰化技术 | 第70-71页 |
| ·光刻胶灰化实验结果 | 第71-79页 |
| ·天然氧化层的作为掩模的可能性 | 第79-85页 |
| ·硅表面天然氧化层 | 第79-81页 |
| ·可行性分析 | 第81-83页 |
| ·硅片切割面方向的确定 | 第83-85页 |
| ·基于天然氧化层掩模的湿法刻蚀 | 第85-88页 |
| ·实验注意事项 | 第85-86页 |
| ·实验结果 | 第86-88页 |
| ·闪耀光栅的AFM分析 | 第88-90页 |
| ·分析与讨论 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-94页 |
| 第五章 真空紫外闪耀光栅的效率测量 | 第94-106页 |
| ·光栅效率的测量 | 第94-100页 |
| ·测量装置介绍 | 第94页 |
| ·测量结果 | 第94-100页 |
| ·光栅样品S27的衍射效率分析 | 第100-103页 |
| ·光栅样品S27的绝对衍射效率 | 第100-101页 |
| ·光栅样品S27的槽形效率 | 第101-103页 |
| ·本章小结 | 第103-104页 |
| 参考文献 | 第104-106页 |
| 第六章 总结与展望 | 第106-110页 |
| ·论文研究的主要内容 | 第106-107页 |
| ·论文的创新点与成果 | 第107-108页 |
| ·后续研究的重点 | 第108-109页 |
| 参考文献 | 第109-110页 |
| 附录 Color Chart for Thermally Grown SiO_2 | 第110-112页 |
| 致谢 | 第112-113页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第113页 |
