高品质非线性光学晶体KTP的生长及性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-32页 |
| ·引言 | 第10-17页 |
| ·非线性光学简介 | 第10-11页 |
| ·晶体的非线性光学现象 | 第11-12页 |
| ·非线性光学晶体发展概况 | 第12-17页 |
| ·KTP晶体的研究背景 | 第17-21页 |
| ·前人对KTP晶体的研究 | 第17-19页 |
| ·KTP晶体的结构 | 第19-20页 |
| ·KTP晶体的非线性光学性质 | 第20-21页 |
| ·KTP晶体的性能及应用 | 第21-23页 |
| ·KTP晶体生长的存在的问题 | 第23-24页 |
| ·本论文的主要工作 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-32页 |
| 第二章 KTP晶体的新助熔剂探索 | 第32-44页 |
| ·概述 | 第32页 |
| ·KTP晶体生长自助溶剂体系存在问题 | 第32页 |
| ·研究思路 | 第32-33页 |
| ·实验 | 第33-36页 |
| ·助熔剂的选择 | 第33-34页 |
| ·KTP晶体挥发速率的测定 | 第34-35页 |
| ·KTP晶体溶解度曲线的测定 | 第35页 |
| ·KTP晶体溶液粘度测定 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-40页 |
| ·挥发速率曲线 | 第36-37页 |
| ·溶解度曲线 | 第37-38页 |
| ·粘度曲线 | 第38-40页 |
| ·讨论 | 第40-42页 |
| ·确定合适的晶体生长配比 | 第41页 |
| ·新助熔剂体系K_8-BaF_2的优越性 | 第41-42页 |
| ·本章总结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-44页 |
| 第三章 KTP晶体的生长研究 | 第44-68页 |
| ·晶体生长理论 | 第44-46页 |
| ·KTP晶体的生长机制 | 第46-47页 |
| ·KTP晶体常用的生长方法简介 | 第47-49页 |
| ·水热法生长KTP晶体 | 第47-48页 |
| ·熔盐法生长KTP晶体 | 第48-49页 |
| ·晶体生长 | 第49-58页 |
| ·不同助溶剂生长KTP晶体的原料 | 第49-51页 |
| ·固相合成KTP晶体生长原料 | 第50页 |
| ·液相合成KTP晶体生长原料 | 第50-51页 |
| ·研磨与高温预烧 | 第51-52页 |
| ·晶转和降温程序的设定 | 第52页 |
| ·生长结束与晶体退火 | 第52页 |
| ·生长结果 | 第52-57页 |
| ·晶体生长形态 | 第57-58页 |
| ·XRD图谱 | 第58页 |
| ·影响KTP晶体生长的因素 | 第58-63页 |
| ·温场对KTP晶体生长的影响 | 第58-61页 |
| ·籽晶对KTP晶体生长的影响 | 第61-62页 |
| ·降温速度对KTP晶体生长的影响 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 第四章 KTP晶体的性能研究 | 第68-76页 |
| ·引言 | 第68页 |
| ·KTP 晶体中的掺杂含量测定 | 第68-69页 |
| ·KTP晶体的透过光谱 | 第69-70页 |
| ·KTP 晶体的光学均匀性 | 第70-71页 |
| ·KTP晶体的抗光损伤阈值测量 | 第71-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 第五章 KTP晶体的缺陷研究 | 第76-92页 |
| ·引言 | 第76页 |
| ·晶体缺陷 | 第76-79页 |
| ·点缺陷 | 第76-77页 |
| ·线缺陷 | 第77-78页 |
| ·面缺陷和体缺陷 | 第78-79页 |
| ·研究KTP晶体缺陷的手段 | 第79-82页 |
| ·化学腐蚀法 | 第79-80页 |
| ·晶体腐蚀原理 | 第79-80页 |
| ·化学腐蚀法介绍 | 第80页 |
| ·同步辐射白光X射线形貌术 | 第80-82页 |
| ·实验结果和讨论 | 第82-89页 |
| ·腐蚀形貌图分析 | 第82-85页 |
| ·同步辐射白光形貌图分析 | 第85-89页 |
| ·本章小结 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-92页 |
| 第六章 全文结论 | 第92-94页 |
| ·总结 | 第92-93页 |
| ·今后工作展望 | 第93-94页 |
| 攻读博士学位期间获得的主要成果 | 第94-95页 |
| 致谢 | 第95页 |
