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D-T/D-D中子发生器快中子产额测量研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
引言第8-10页
第一章 D-T/D-D中子产额伴随粒子法测量第10-33页
 §1.1:兰州大学D-T中子发生器中子产额伴随粒子法测量第10-25页
     ·测量系统及数据处理方法第10-25页
   1、 测量装置第10-11页
   2、 测量原理第11-12页
   3、 各向异性因子A_α的计算第12-19页
   4、 伴随粒子系统的实验测试第19-21页
   5、 各种干扰信号对测量精度的影响分析第21-25页
 §1.2 D-D中子产额伴随粒子法测量第25-33页
     ·测量系统及方法第25-26页
   1、 测量原理第25-26页
   2、 测量装置第26页
     ·数据处理方法第26-31页
   1、 各向异性因子第26-31页
    2) 反应截面第28-31页
   2、 各种干扰信号对测量精度的影响分析第31页
     ·D-D伴随粒子测量系统初步调试第31-33页
第二章 D-T中子产额监测裂变电离室测量系统初步研究第33-41页
 §2.1 测量系统及方法第33-38页
  1、 裂变电离室结构第33-34页
  2、 裂变电离室的测量原理第34-38页
   1) 工作原理第34-37页
   2) 快中子产额测量原理第37页
   3) 裂变室的刻度第37-38页
 §2.2 裂变电离室测量系统的初步调试第38-41页
第三章 D-T中子发生器中子产额监测的反冲质子望远镜模拟研究第41-51页
 §3.1 14MeV单能中子在聚乙烯膜产生的反冲质子产额、角分布和能谱第41-47页
     ·测量原理第41-42页
     ·模拟方法第42-43页
     ·模拟结果第43-46页
     ·最佳条件确定第46-47页
 §3.2 反冲质子望远镜系统的蒙特卡罗模拟第47-50页
     ·厚氚钛靶D-T反应中子源模型第47-48页
     ·反冲质子望远镜系统的模拟设计及系统探测效率第48-50页
 §3.3 小结第50-51页
第四章 结论第51-52页
参考文献第52-54页
发表论文第54-55页
致谢第55-56页
附录一 MCNPX模拟14MeV中子穿过聚乙烯膜时反冲质子角分布 #ⅰ第56-57页
附录二 MCNPX模拟14MeV中子穿过聚乙烯膜时反冲质子的能谱 #ⅱ第57-58页
附录三 MCNPX模拟D-T等效源的反冲质子能谱 #ⅲ第58-60页
附录四 D-D反应伴随粒子测量的各向异性因子 #ⅴ第60页

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