| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| ·电沉积镍镀层的概述 | 第9页 |
| ·镀层中残余应力的产生及其研究进程 | 第9-13页 |
| ·镀层中残余应力的产生 | 第9-12页 |
| ·镀层内残余应力的研究进程 | 第12-13页 |
| ·残余应力对构件的影响 | 第13页 |
| ·残余应力的调整与消除 | 第13-15页 |
| ·残余应力的测量方法 | 第15-19页 |
| ·本论文的选题依据和主要内容 | 第19-21页 |
| ·本论文的选题依据 | 第19-20页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 电沉积的基本原理及两种残余应力的表征手段 | 第21-36页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·电沉积的基本原理 | 第21-24页 |
| ·电镀过程 | 第21-22页 |
| ·电沉积工艺 | 第22-24页 |
| ·样品说明 | 第24页 |
| ·X 射线衍射法测量残余应力的基本原理 | 第24-28页 |
| ·sin~2 ψ法测量残余应力的基本原理 | 第24-27页 |
| ·X 射线衍射实验参数的选取 | 第27-28页 |
| ·改良移层法测量残余应力的基本原理 | 第28-34页 |
| ·数字散斑相关方法测量离面位移 | 第28-31页 |
| ·改良移层法测量残余应力的模型公式推导 | 第31-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 第3章 改良移层法表征电沉积镍镀层膜内的残余应力 | 第36-49页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验的基本步骤 | 第36-37页 |
| ·数字散斑相关方法离面位移的测量 | 第37-38页 |
| ·电沉积镍镀层内残余应力的计算 | 第38-39页 |
| ·改良移层法实验结果 | 第39-48页 |
| ·镀层厚度为3μm 样品的改良移层法实验结果 | 第39-42页 |
| ·半光镍单一镀层样品的改良移层法实验结果 | 第42-44页 |
| ·三层镀层样品的改良移层法实验结果 | 第44-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 X 射线衍射法表征电沉积镍镀层膜内的残余应力 | 第49-57页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验结果 | 第49-55页 |
| ·改良移层法与X 射线衍射法的实验结果对照 | 第55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第5章 工作总结与展望 | 第57-59页 |
| ·工作总结 | 第57页 |
| ·工作展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 硕士期间已公开发表的论文 | 第64页 |