| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-25页 |
| ·表面工程技术的发展 | 第10-12页 |
| ·表面工程概述 | 第10-11页 |
| ·物理气相沉积技术及其特点 | 第11-12页 |
| ·气体放电、等离子体与溅射技术 | 第12-16页 |
| ·气体放电 | 第12页 |
| ·等离子体 | 第12-15页 |
| ·溅射技术 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射离子镀技术 | 第16-20页 |
| ·磁控溅射镀膜技术的发展和现状 | 第16-18页 |
| ·磁控溅射离子镀的基本原理 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射离子镀技术的应用 | 第19页 |
| ·磁控溅射镀膜的影响因素 | 第19-20页 |
| ·薄膜沉积的一般规律 | 第20-21页 |
| ·纯Cr镀层的应用 | 第21-23页 |
| ·课题研究 | 第23-25页 |
| ·课题的目的及意义 | 第23页 |
| ·课题的研究内容 | 第23-25页 |
| 2 实验设备和实验方法 | 第25-31页 |
| ·试验材料及试样前处理 | 第25页 |
| ·试样基材材料 | 第25页 |
| ·试样前处理 | 第25页 |
| ·纯Cr镀层的制备 | 第25-26页 |
| ·镀膜设备 | 第25-26页 |
| ·镀膜过程 | 第26页 |
| ·纯Cr镀层的分析测试方法 | 第26-31页 |
| ·镀层组织结构分析 | 第26-27页 |
| ·镀层性能分析 | 第27-31页 |
| 3 靶电压对纯Cr镀层形成及生长过程的影响 | 第31-45页 |
| ·不同沉积时间下纯Cr镀层的表面AFM分析 | 第31-37页 |
| ·单晶硅的表面形貌 | 第31-32页 |
| ·不同清洗时间下的样品表面形貌 | 第32页 |
| ·300V靶电压下不同时间样品的表面形貌 | 第32-33页 |
| ·400V靶电压下不同时间样品的表面形貌 | 第33-35页 |
| ·500V靶电压下不同时间样品的表面形貌 | 第35-36页 |
| ·不同时间下的样品表面粗糙度分析 | 第36-37页 |
| ·不同靶电压下Cr薄膜的SEM形貌分析 | 第37-39页 |
| ·不同靶电压下Cr薄膜的表面形貌分析 | 第37-38页 |
| ·不同靶电压下Cr薄膜的截面形貌分析 | 第38页 |
| ·不同靶电压下纯Cr镀层的沉积速率分析 | 第38-39页 |
| ·不同靶电压下Cr薄膜的TEM形貌分析 | 第39-40页 |
| ·不同靶电压下Cr薄膜的XRD分析 | 第40-42页 |
| ·不同靶电压下Cr薄膜的方块电阻分析 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 4 偏压对纯Cr镀层形成及生长过程的影响 | 第45-55页 |
| ·不同偏压下镀层的AFM形貌分析 | 第45-47页 |
| ·不同偏压下纯Cr镀层沉积1min时表面AFM形貌 | 第45-46页 |
| ·不同偏压下纯Cr镀层沉积1min时表面粗糙度分析 | 第46-47页 |
| ·不同偏压下纯Cr镀层的SEM分析 | 第47-49页 |
| ·不同偏压下纯Cr镀层SEM形貌分析 | 第47-48页 |
| ·不同偏压下纯Cr镀层的厚度 | 第48-49页 |
| ·不同偏压下沉积镀层的XRD分析 | 第49-50页 |
| ·不同偏压下镀层XRD图谱分析 | 第49-50页 |
| ·不同偏压下纯Cr镀层的平均晶粒尺寸分析 | 第50页 |
| ·不同偏压下镀层方块电阻分析 | 第50-51页 |
| ·不同偏压下纯Cr镀层的耐腐蚀性能分析 | 第51-54页 |
| ·不同偏压下纯Cr镀层的电化学极化曲线 | 第52页 |
| ·不同偏压下纯Cr镀层腐蚀后的形貌分析 | 第52-53页 |
| ·纯Cr镀层耐腐蚀性能讨论 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 5 占空比对磁控溅射镀层沉积影响的机理研究 | 第55-65页 |
| ·不同占空比下镀层的AFM分析 | 第55-57页 |
| ·不同占空比下纯Cr镀层的AFM表面形貌分析 | 第55-56页 |
| ·不同占空比下纯Cr镀层的AFM表面粗糙度分析 | 第56-57页 |
| ·不同占空比下纯Cr镀层的SEM微观形貌分析 | 第57-60页 |
| ·不同占空比下纯Cr镀层的表面SEM形貌分析 | 第57-58页 |
| ·不同占空比下镀层的截面形貌分析 | 第58-60页 |
| ·不同占空比下纯Cr镀层的XRD分析 | 第60-62页 |
| ·不同占空比下纯Cr镀层的方块电阻分析 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 6 磁控溅射纯Cr镀层的结构区域模型 | 第65-71页 |
| ·结构区域模型建立基础 | 第65-67页 |
| ·磁控溅射纯Cr镀层的结构区域模型 | 第67-69页 |
| ·不同电参数下纯Cr镀层表面微区能量参数的计算 | 第67-68页 |
| ·磁控溅射纯Cr镀层结构区域模型的建立 | 第68-69页 |
| ·讨论 | 第69-71页 |
| 7 结论 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和专利 | 第79页 |