提拉法生长硅酸镓镧晶体过程的数值模拟分析
| 摘要 | 第1-12页 |
| ABSTRACT | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-32页 |
| ·引言 | 第14-16页 |
| ·硅酸镓镧单晶研究背景 | 第16-21页 |
| ·晶体结构及物理性质 | 第17-20页 |
| ·晶体生长 | 第20页 |
| ·LGS晶体当前的研究方向 | 第20-21页 |
| ·提拉法晶体生长简介 | 第21-23页 |
| ·提拉法晶体生长步骤 | 第21-22页 |
| ·提拉法晶体生长本质 | 第22-23页 |
| ·国内外提拉法晶体生长数值模拟研究现状 | 第23-25页 |
| ·数值模拟今后的发展方向 | 第25-27页 |
| ·本论文的研究工作 | 第27-28页 |
| 参考文献 | 第28-32页 |
| 第二章 硅酸镓镧晶体生长 | 第32-42页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·Cz法硅酸镓镧单晶生长工艺过程 | 第32-36页 |
| ·晶体生长相关问题及相应的措施 | 第36-40页 |
| ·本章小结 | 第40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 第三章 数值分析与研究方法 | 第42-60页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·影响生长晶体热流场的因素 | 第43-44页 |
| ·二维轴对称模型及准稳态系统分析 | 第44页 |
| ·方程的离散化及有限元分析的步骤 | 第44-46页 |
| ·晶体生长的物理模型 | 第46-49页 |
| ·热场物理模型 | 第47-48页 |
| ·流场物理模型 | 第48-49页 |
| ·CGSim软件简介及操作流程 | 第49-50页 |
| ·炉体结构几何图形的建立 | 第50-51页 |
| ·物性参数 | 第51-53页 |
| ·边界条件的设定 | 第53-55页 |
| ·控制参量及迭代步长 | 第55-57页 |
| ·模拟项目 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |
| 第四章 数值模拟结果 | 第60-78页 |
| ·引言 | 第60-61页 |
| ·网格测试 | 第61页 |
| ·各生长阶段的温场模拟分析 | 第61-67页 |
| ·下籽晶时温场分布情况 | 第62-64页 |
| ·放肩阶段的温场分布 | 第64-65页 |
| ·转等径阶段的温场分布 | 第65-67页 |
| ·不同长晶阶段的热流场分析 | 第67-70页 |
| ·旋转对温场的影响 | 第70-75页 |
| ·晶体旋转对温场的影响 | 第70-74页 |
| ·坩埚旋转对温场的影响 | 第74-75页 |
| ·后热器对晶体中温度梯度的影响 | 第75-76页 |
| ·肩部形状对温场的影响 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-78页 |
| 第五章 结论及有待进一步开展的工作 | 第78-81页 |
| ·主要结论 | 第78-79页 |
| ·本论文主要创新点 | 第79页 |
| ·有待进一步开展的工作 | 第79-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第81页 |
| 攻读硕士学位期间所获奖励 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第83页 |
