| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-24页 |
| ·分子模拟理论 | 第11-16页 |
| ·量子化学 | 第11-12页 |
| ·分子动力学 | 第12-13页 |
| ·能量最小化法 | 第12-13页 |
| ·周期边界条件 | 第13页 |
| ·分子力学 | 第13-16页 |
| ·分子力场 | 第13-14页 |
| ·COMPASS 力场 | 第14-16页 |
| ·吸附的分子模拟 | 第16-17页 |
| ·吸附的类型 | 第16页 |
| ·气体在金属催化剂表面吸附的研究 | 第16-17页 |
| ·气体在Si 表面吸附的研究 | 第17页 |
| ·扩散过程的分子模拟 | 第17-23页 |
| ·扩散的实验研究 | 第17-19页 |
| ·扩散的分子模拟研究 | 第19-21页 |
| ·扩散系数的计算 | 第21-23页 |
| ·Einstein 法 | 第21页 |
| ·微分-区限变分法 | 第21-22页 |
| ·聚类分析法 | 第22-23页 |
| ·本文主要研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 分子在SI(111)面吸附的密度泛函研究 | 第24-34页 |
| ·模拟方法 | 第24-25页 |
| ·计算参数选择 | 第25-26页 |
| ·交换相关能函数 | 第25页 |
| ·K 点设置 | 第25-26页 |
| ·几何构型优化 | 第26页 |
| ·模拟细节 | 第26-27页 |
| ·模拟结果 | 第27-33页 |
| ·Si(111)面弛豫前后的变化 | 第27-29页 |
| ·SiCl_4 和SiHCl_3 在弛豫后Si(111)面的吸附 | 第29-30页 |
| ·SiCl_4/SiHCl_3 断开一个Si-Cl 键后在弛豫后的Si(111)面的吸附 | 第30-31页 |
| ·H_2/HCl 在弛豫后Si(111)面的吸附 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 纳滤膜扩散过程的分子模拟 | 第34-56页 |
| ·模拟方法 | 第34-37页 |
| ·模拟环境 | 第35页 |
| ·力场的选择 | 第35-36页 |
| ·步长的选择 | 第36-37页 |
| ·模拟细节 | 第37-39页 |
| ·高分子链模型的构建 | 第37页 |
| ·扩散分子模型的构建 | 第37-39页 |
| ·膜晶格模型的建立 | 第39页 |
| ·膜扩散过程的模拟 | 第39-40页 |
| ·模拟结果 | 第40-51页 |
| ·NaCl/膜水体系 | 第40-42页 |
| ·KCl/膜水体系 | 第42-44页 |
| ·Na_2SO_4/膜水体系 | 第44-46页 |
| ·MgSO_4/膜水体系 | 第46-48页 |
| ·CaSO_4/膜水体系 | 第48-51页 |
| ·水分子和功能基团的相互作用 | 第51-53页 |
| ·TMC 含量对扩散系数的影响 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 甘氨酸在水中扩散的分子模拟 | 第56-62页 |
| ·模拟方法 | 第56-57页 |
| ·模型的创建 | 第56-57页 |
| ·动力学模拟 | 第57-58页 |
| ·模拟结果与分析 | 第58-61页 |
| ·步长的影响 | 第58-59页 |
| ·甘氨酸在水中扩散系数与浓度的关系 | 第59-60页 |
| ·甘氨酸在水中扩散系数与温度的关系 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 总结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 个人简历 | 第70页 |
| 发表的学术论文 | 第70页 |