纳米位移测量中的干涉条纹技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·纳米位移测量技术的发展状况 | 第8-10页 |
| ·研究目的和意义 | 第10-11页 |
| ·研究内容与结构安排 | 第11-12页 |
| 第二章 光干涉测量的基本原理 | 第12-17页 |
| ·光的干涉 | 第12-15页 |
| ·干涉测量技术的应用 | 第15-16页 |
| ·本章小结 | 第16-17页 |
| 第三章 基于均方差运算的条纹位移测量 | 第17-21页 |
| ·原理 | 第17-18页 |
| ·实验结果讨论 | 第18-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第四章 基于相关运算的条纹位移测量 | 第21-32页 |
| ·相关运算 | 第21页 |
| ·相关运算的方法求相位差的原理 | 第21-22页 |
| ·相关运算的方法求相位差的实验研究 | 第22-29页 |
| ·相关运算的优势 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第五章 条纹细分 | 第32-38页 |
| ·插补 | 第32-34页 |
| ·曲线拟合 | 第34-35页 |
| ·线性插补与曲线拟合方法的比较 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第六章 误差分析 | 第38-44页 |
| ·误差表达式 | 第38-39页 |
| ·误差讨论 | 第39-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第七章 结论 | 第44-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 发表论文 | 第49页 |
