| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·硅薄膜太阳能电池的发展及现状 | 第9-13页 |
| ·非晶硅薄膜太阳电池 | 第9-11页 |
| ·多晶硅薄膜太阳能电池 | 第11-12页 |
| ·微晶/纳晶硅薄膜太阳能电池 | 第12-13页 |
| ·PECVD的原理及ECR等离子体源的产生和特点 | 第13-14页 |
| ·PECVD的原理 | 第13页 |
| ·ECR等离子源的产生和特点 | 第13-14页 |
| ·激光晶化技术原理与发展简介 | 第14页 |
| ·激光晶化技术原理 | 第14页 |
| ·激光器的发展简介 | 第14页 |
| ·磁控溅射技术原理及发展简介 | 第14-16页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第14-15页 |
| ·中频磁控溅射简介 | 第15-16页 |
| ·选题意义与研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 硅薄膜的制备过程及性能表征 | 第18-30页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第18-22页 |
| ·ECR-PECVD法制备硅薄膜 | 第18-19页 |
| ·激光(ArF)表面晶化非晶硅薄膜 | 第19-21页 |
| ·中频磁控溅射制备硅薄膜 | 第21-22页 |
| ·薄膜微观结构分析 | 第22-30页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第22-23页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第23-25页 |
| ·激光拉曼光谱(Raman谱) | 第25-27页 |
| ·傅里叶红外光谱(FTIR) | 第27页 |
| ·电子自旋共振波谱(ESR) | 第27-29页 |
| ·台阶仪 | 第29-30页 |
| 第三章 ECR-PECVD沉积Si薄膜微结构及悬挂键缺陷研究 | 第30-45页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验方法 | 第30页 |
| ·实验结果与讨论 | 第30-44页 |
| ·Si基片上沉积薄膜的结构缺陷研究 | 第30-41页 |
| ·玻璃基片上沉积Si薄膜的结构缺陷研究 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 ArF准分子激光晶化非晶硅薄膜微结构及悬挂键缺陷研究 | 第45-51页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·实验方法 | 第45-46页 |
| ·实验结果与讨论 | 第46-49页 |
| ·激光晶化前后薄膜的晶相结构分析 | 第46-47页 |
| ·激光晶化前后薄膜的形貌分析 | 第47-48页 |
| ·激光晶化前后薄膜的悬挂键密度分析 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第五章 磁控溅射法沉积Si薄膜微结构及悬挂键缺陷研究 | 第51-55页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·实验方法 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-54页 |
| ·薄膜的晶相结构特征 | 第52-53页 |
| ·薄膜的形貌分析 | 第53-54页 |
| ·薄膜的悬挂键密度分析 | 第54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 攻读硕士期间发表的文章 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
