| 摘要 | 第3-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 磁约束可控核聚变反应堆简介 | 第12-15页 |
| 1.2 氚在面向等离子体材料中的滞留 | 第15-17页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第17-26页 |
| 1.3.1 钨中氚的测量研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3.2 钨中氚的测量方法选择 | 第19-26页 |
| 1.4 小结 | 第26-28页 |
| 1.5 论文目的与内容 | 第28-29页 |
| 第2章 氚的β射线与材料相互作用理论分析 | 第29-34页 |
| 2.1 氚的β谱 | 第29-30页 |
| 2.2 氚β射线在材料中的射程 | 第30-31页 |
| 2.3 氚β射线诱发X射线及X射线在材料中的减弱分析 | 第31-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 中子活化产物对钨中氚测量的影响研究 | 第34-53页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 钨材料中放射性中子活化产物计算方法 | 第34-37页 |
| 3.3 中子活化产物对氚测量结果影响评估方法 | 第37-41页 |
| 3.4 中子活化产物计算结果及分析 | 第41-46页 |
| 3.5 偏滤器钨涂层内中子活化产物对四种主要氚测量方法的影响评估 | 第46-51页 |
| 3.6 本章小结 | 第51-53页 |
| 第4章 氚二维非均匀分布对氚测量结果的影响 | 第53-61页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 氚的二维非均匀分布对BIXS方法测量结果的影响 | 第53-60页 |
| 4.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 第5章 含氚样品深度分布测量方法研究 | 第61-89页 |
| 5.1 引言 | 第61页 |
| 5.2 逐层金属化学蚀刻法 | 第61-74页 |
| 5.2.1 基本原理 | 第61-65页 |
| 5.2.2 蚀刻侵蚀剂的选择 | 第65-66页 |
| 5.2.3 蚀刻装置的选材与设计 | 第66页 |
| 5.2.4 石蜡封装对样品蚀刻及实验结果的影响研究 | 第66-68页 |
| 5.2.5 实验参数对蚀刻过程的影响研究 | 第68-72页 |
| 5.2.6 溶液PH值及侵蚀剂稀释倍数对液闪测量结果影响研究 | 第72-74页 |
| 5.3 BIXS方法 | 第74-82页 |
| 5.3.1 基本原理 | 第75-78页 |
| 5.3.2 实验气氛、气压选择 | 第78-79页 |
| 5.3.3 内轫致辐射对BIXS方法测量结果影响研究 | 第79-82页 |
| 5.4 TIP方法 | 第82-87页 |
| 5.4.1 基本原理 | 第82-84页 |
| 5.4.2 TR成像板消屏时间测量 | 第84-85页 |
| 5.4.3 TR成像板衰减曲线测量 | 第85-86页 |
| 5.4.4 SR成像板线性区间测量 | 第86-87页 |
| 5.5 本章小结 | 第87-89页 |
| 第6章 含氚样品深度分布实验测量及分析 | 第89-107页 |
| 6.1 样品及充氚实验 | 第89-90页 |
| 6.2 实验准备工作 | 第90-93页 |
| 6.2.1 实验设备及耗材 | 第90-91页 |
| 6.2.2 低能X射线谱仪的能量刻度及本底测量 | 第91-92页 |
| 6.2.3 BIXS单层响应能谱模拟 | 第92-93页 |
| 6.3 充氚样品实验测量及分析 | 第93-106页 |
| 6.3.1 实验流程 | 第93-94页 |
| 6.3.2 实验结果及分析 | 第94-100页 |
| 6.3.3 化学蚀刻方法误差分析 | 第100-102页 |
| 6.3.4 BIXS方法对其余钨样品、锆样品中氚的测量及分析 | 第102-104页 |
| 6.3.5 TIP方法对其余钨样品表面氚分布测量及分析 | 第104-106页 |
| 6.4 本章小结 | 第106-107页 |
| 第7章 总结和展望 | 第107-110页 |
| 7.1 主要结论 | 第107-108页 |
| 7.2 本论文的创新之处 | 第108-109页 |
| 7.3 后续工作展望 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
| 附录A 在校期间发表学术论文 | 第118-119页 |
| 附录B 参加主要学术活动 | 第119页 |
| 附录C 在校期间获奖情况 | 第119页 |
