| 摘要 | 第11-13页 |
| Abstract | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第15-36页 |
| 1.1 霍尔效应 | 第15-20页 |
| 1.1.1 正常霍尔效应 | 第15页 |
| 1.1.2 反常霍尔效应 | 第15-16页 |
| 1.1.3 反常霍尔效应的理论机制 | 第16-20页 |
| 1.2 理论背景 | 第20-29页 |
| 1.2.1 金属-绝缘体颗粒的逾渗理论 | 第20-22页 |
| 1.2.2 金属-绝缘体颗粒膜的电输运机制 | 第22-24页 |
| 1.2.3 高温区间FIT传导模型 | 第24-26页 |
| 1.2.4 颗粒薄膜系统的磁电阻理论 | 第26-29页 |
| 1.3 选题依据及研究内容 | 第29-32页 |
| 1.3.1 研究背景 | 第29-30页 |
| 1.3.2 本文主要研究内容 | 第30-32页 |
| 参考文献 | 第32-36页 |
| 第二章 样品的制备与表征 | 第36-47页 |
| 2.1 颗粒薄膜样品的制备 | 第36-40页 |
| 2.1.1 磁控溅射薄膜系统的基本原理 | 第36-39页 |
| 2.1.2 薄膜的制备参数和材料 | 第39-40页 |
| 2.2 薄膜样品的表征 | 第40-45页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析(XRD) | 第40页 |
| 2.2.2 扫描电镜厚度和形貌分析(SEM) | 第40-41页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜分析(TEM) | 第41-42页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第42-43页 |
| 2.2.5 电输运性质测量 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 第三章 Co_xSi_(1-x)颗粒薄膜的微观结构和电输运特性分析 | 第47-63页 |
| 3.1 实验方法 | 第47-48页 |
| 3.2 Co_xSi_(1-x)颗粒薄膜结构分析 | 第48-52页 |
| 3.2.1 XRD结构分析 | 第48-49页 |
| 3.2.2 TEM结构分析 | 第49页 |
| 3.2.3 SEM形貌成分分析 | 第49-50页 |
| 3.2.4 XPS能谱分析 | 第50-52页 |
| 3.2.5 TGA分析 | 第52页 |
| 3.3 Co_xSi_(1-x)颗粒薄膜的电输运特性 | 第52-59页 |
| 3.3.1 电阻率 | 第52-57页 |
| 3.3.2 反常霍尔效应和磁灵敏度 | 第57-58页 |
| 3.3.3 标度关系分析 | 第58-59页 |
| 3.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 第四章 Co-Al_2O_3颗粒薄膜的微观结构和电输运性质研究 | 第63-80页 |
| 4.1 实验方法 | 第63页 |
| 4.2 Co-Al_2O_3颗粒薄膜微观形貌和结构表征 | 第63-66页 |
| 4.2.1 XRD结构分析 | 第64-65页 |
| 4.2.2 TEM结构分析 | 第65页 |
| 4.2.3 SEM形貌成分分析 | 第65-66页 |
| 4.3 Co-Al_2O_3颗粒薄膜的电输运特性 | 第66-76页 |
| 4.3.1 薄膜的导电机制 | 第66-70页 |
| 4.3.2 磁电阻 | 第70-72页 |
| 4.3.3 反常霍尔效应 | 第72-76页 |
| 4.4 本章小结 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-80页 |
| 第五章 Co-Cu颗粒薄膜的微观结构和电输运性质研究 | 第80-92页 |
| 5.1 实验方法 | 第80-81页 |
| 5.2 Co-Cu颗粒薄膜的结构和形貌表征 | 第81-82页 |
| 5.2.1 XRD结构分析 | 第81页 |
| 5.2.2 SEM形貌成分分析 | 第81-82页 |
| 5.3 Co-Cu颗粒薄膜的电输运特性 | 第82-89页 |
| 5.3.1 薄膜的导电机制 | 第82-85页 |
| 5.3.2 反常霍尔效应 | 第85-86页 |
| 5.3.3 磁电阻 | 第86-89页 |
| 5.4 本章小结 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-92页 |
| 第六章 总结 | 第92-94页 |
| 硕士期间发表论文 | 第94-95页 |
| 致谢 | 第95页 |
