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基于铁电材料和超表面对太赫兹波的调制研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
1 绪论第8-13页
    1.1 太赫兹波概述第8-9页
    1.2 太赫兹波应用以及调制技术的简单介绍第9-11页
    1.3 论文主要研究内容第11-13页
2 基于铁电材料和超表面对太赫兹波调制的理论研究第13-22页
    2.1 铁电材料的概述第13-14页
    2.2 关于铁电材料的太赫兹调制原理第14-16页
    2.3 超表面的概述第16-17页
    2.4 太赫兹器件的调制方法第17-22页
3 基于钛酸钡薄膜材料的光控太赫兹波调制性能研究第22-37页
    3.1 硅基BTO薄膜的制备第22-26页
    3.2 基于BTO薄膜的光控太赫兹波调制实验的设计第26-27页
    3.3 基于光调制硅基BTO薄膜介电特性的实验结果及分析第27-36页
    3.4 本章小结第36-37页
4 基于硅基超表面对太赫兹波的调控第37-49页
    4.1 基于Si基的超表面的实验制备介绍第37-40页
    4.2 基于超表面对太赫兹波调控实验细节第40-41页
    4.3 基于超表面对太赫兹波调控的实验结果与讨论第41-48页
    4.4 本章总结第48-49页
5 总结与展望第49-51页
致谢第51-52页
参考文献第52-58页
附录1 攻读硕士期间发表的文章第58-59页
附录2 数据提取程序代码第59-65页

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