| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 太赫兹波概述 | 第8-9页 |
| 1.2 太赫兹波应用以及调制技术的简单介绍 | 第9-11页 |
| 1.3 论文主要研究内容 | 第11-13页 |
| 2 基于铁电材料和超表面对太赫兹波调制的理论研究 | 第13-22页 |
| 2.1 铁电材料的概述 | 第13-14页 |
| 2.2 关于铁电材料的太赫兹调制原理 | 第14-16页 |
| 2.3 超表面的概述 | 第16-17页 |
| 2.4 太赫兹器件的调制方法 | 第17-22页 |
| 3 基于钛酸钡薄膜材料的光控太赫兹波调制性能研究 | 第22-37页 |
| 3.1 硅基BTO薄膜的制备 | 第22-26页 |
| 3.2 基于BTO薄膜的光控太赫兹波调制实验的设计 | 第26-27页 |
| 3.3 基于光调制硅基BTO薄膜介电特性的实验结果及分析 | 第27-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 4 基于硅基超表面对太赫兹波的调控 | 第37-49页 |
| 4.1 基于Si基的超表面的实验制备介绍 | 第37-40页 |
| 4.2 基于超表面对太赫兹波调控实验细节 | 第40-41页 |
| 4.3 基于超表面对太赫兹波调控的实验结果与讨论 | 第41-48页 |
| 4.4 本章总结 | 第48-49页 |
| 5 总结与展望 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 附录1 攻读硕士期间发表的文章 | 第58-59页 |
| 附录2 数据提取程序代码 | 第59-65页 |