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在功能性衬底上制备黑莓状银/金纳米结构阵列及其SERS性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第1章 绪论第8-18页
    1.1 研究背景及意义第8页
    1.2 国内外研究现状第8-17页
        1.2.1 基于阳极氧化铝模板的金/银纳米结构阵列第8-14页
        1.2.2 表面增强拉曼散射衬底第14-17页
    1.3 有待解决的关键问题第17页
    1.4 本论文的研究目的和内容第17-18页
第2章 实验基础及表征第18-24页
    2.1 样品制备第18-21页
        2.1.1 阳极氧化铝模板制备第18页
        2.1.2 阳极氧化铝模板制备化学试剂第18-19页
        2.1.3 电化学工作平台第19-20页
        2.1.4 磁控溅射第20-21页
    2.2 样品表征第21-24页
        2.2.1 扫描电子显微镜第21-22页
        2.2.2 拉曼光谱第22-23页
        2.2.3 时域有限差分法模拟第23-24页
第3章 超薄氧化铝模板制备及移植研究第24-34页
    3.1 超薄氧化铝模板制备第24-26页
    3.2 超薄氧化铝模板移植到功能性衬底表面第26-33页
        3.2.1 PMMA作为支撑层进行移植(UTAMⅠ)第26-30页
        3.2.2 无支撑层进行移植(UTAMⅡ)第30-33页
    3.3 本章小结第33-34页
第4章 黑莓状银纳米结构阵列制备及表征第34-40页
    4.1 黑莓状银纳米结构阵列的制备第34-37页
        4.1.1 基于UTAMⅠ制备黑莓状银纳米结构阵列第34-36页
        4.1.2 基于UTAMⅡ制备黑莓状银纳米结构阵列第36-37页
    4.2 黑莓状银纳米结构阵列SERS活性研究第37-39页
    4.3 黑莓状银纳米结构阵列形成机理分析第39页
    4.4 本章小结第39-40页
第5章 黑莓状金纳米结构阵列制备及表征第40-54页
    5.1 黑莓状金纳米结构阵列的制备第40-44页
        5.1.1 基于UTAMⅠ制备黑莓状金纳米结构阵列第40-42页
        5.1.2 基于UTAMⅡ制备黑莓状金纳米结构阵列第42-44页
    5.2 黑莓状金纳米结构阵列形成机理分析第44-48页
        5.2.1 基于UTAMⅠ制备黑莓状金纳米结构阵列形成机理分析第44-45页
        5.2.2 基于UTAMⅡ制备黑莓状金纳米结构阵列形成机理分析第45-48页
    5.3 黑莓状金纳米结构阵列SERS性能研究第48-52页
        5.3.1 黑莓状金纳米结构阵列SERS灵敏度第48-49页
        5.3.2 黑莓状金纳米结构阵列与球形阵列SERS活性对比第49-50页
        5.3.3 黑莓状金纳米结构阵列电磁场增强特性第50-52页
    5.4 本章小结第52-54页
结论第54-56页
参考文献第56-62页
攻读硕士学位期间学术成果第62-63页
致谢第63页

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