| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第8页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第8-17页 |
| 1.2.1 基于阳极氧化铝模板的金/银纳米结构阵列 | 第8-14页 |
| 1.2.2 表面增强拉曼散射衬底 | 第14-17页 |
| 1.3 有待解决的关键问题 | 第17页 |
| 1.4 本论文的研究目的和内容 | 第17-18页 |
| 第2章 实验基础及表征 | 第18-24页 |
| 2.1 样品制备 | 第18-21页 |
| 2.1.1 阳极氧化铝模板制备 | 第18页 |
| 2.1.2 阳极氧化铝模板制备化学试剂 | 第18-19页 |
| 2.1.3 电化学工作平台 | 第19-20页 |
| 2.1.4 磁控溅射 | 第20-21页 |
| 2.2 样品表征 | 第21-24页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜 | 第21-22页 |
| 2.2.2 拉曼光谱 | 第22-23页 |
| 2.2.3 时域有限差分法模拟 | 第23-24页 |
| 第3章 超薄氧化铝模板制备及移植研究 | 第24-34页 |
| 3.1 超薄氧化铝模板制备 | 第24-26页 |
| 3.2 超薄氧化铝模板移植到功能性衬底表面 | 第26-33页 |
| 3.2.1 PMMA作为支撑层进行移植(UTAMⅠ) | 第26-30页 |
| 3.2.2 无支撑层进行移植(UTAMⅡ) | 第30-33页 |
| 3.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 黑莓状银纳米结构阵列制备及表征 | 第34-40页 |
| 4.1 黑莓状银纳米结构阵列的制备 | 第34-37页 |
| 4.1.1 基于UTAMⅠ制备黑莓状银纳米结构阵列 | 第34-36页 |
| 4.1.2 基于UTAMⅡ制备黑莓状银纳米结构阵列 | 第36-37页 |
| 4.2 黑莓状银纳米结构阵列SERS活性研究 | 第37-39页 |
| 4.3 黑莓状银纳米结构阵列形成机理分析 | 第39页 |
| 4.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第5章 黑莓状金纳米结构阵列制备及表征 | 第40-54页 |
| 5.1 黑莓状金纳米结构阵列的制备 | 第40-44页 |
| 5.1.1 基于UTAMⅠ制备黑莓状金纳米结构阵列 | 第40-42页 |
| 5.1.2 基于UTAMⅡ制备黑莓状金纳米结构阵列 | 第42-44页 |
| 5.2 黑莓状金纳米结构阵列形成机理分析 | 第44-48页 |
| 5.2.1 基于UTAMⅠ制备黑莓状金纳米结构阵列形成机理分析 | 第44-45页 |
| 5.2.2 基于UTAMⅡ制备黑莓状金纳米结构阵列形成机理分析 | 第45-48页 |
| 5.3 黑莓状金纳米结构阵列SERS性能研究 | 第48-52页 |
| 5.3.1 黑莓状金纳米结构阵列SERS灵敏度 | 第48-49页 |
| 5.3.2 黑莓状金纳米结构阵列与球形阵列SERS活性对比 | 第49-50页 |
| 5.3.3 黑莓状金纳米结构阵列电磁场增强特性 | 第50-52页 |
| 5.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 攻读硕士学位期间学术成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
