| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-11页 |
| 1 TiO_2薄膜的制备及应用 | 第11-25页 |
| ·TiO_2的基本性质和结构特点 | 第11-12页 |
| ·TiO_2薄膜的光学性质 | 第12-15页 |
| ·TiO_2的光催化原理 | 第12-14页 |
| ·TiO_2的亲水性原理 | 第14-15页 |
| ·影响TiO_2光催化活性的因素 | 第15页 |
| ·TiO_2薄膜的应用 | 第15页 |
| ·TiO_2薄膜制备方法 | 第15-19页 |
| ·液相法 | 第16-17页 |
| ·物理气相沉积法 | 第17页 |
| ·化学气相沉积法 | 第17-19页 |
| ·等离子体介质阻挡放电制备薄膜 | 第19-23页 |
| ·等离子体的概念 | 第19页 |
| ·等离子体技术的分类 | 第19-20页 |
| ·介质阻挡放电的特性 | 第20-21页 |
| ·介质阻挡放电机理 | 第21-22页 |
| ·介质阻挡放电的结构 | 第22-23页 |
| ·大气压介质阻挡放电的应用 | 第23页 |
| ·介质阻挡放电的影响参数 | 第23页 |
| ·本论文的选题依据和研究内容 | 第23-25页 |
| 2 实验部分 | 第25-31页 |
| ·实验试剂和实验仪器 | 第25-26页 |
| ·实验试剂 | 第25页 |
| ·实验仪器 | 第25-26页 |
| ·实验装置 | 第26页 |
| ·放电功率及电压-电流波形的测定 | 第26-28页 |
| ·TiO_2薄膜表征 | 第28-31页 |
| ·光催化活性表征 | 第28页 |
| ·发射光谱诊断 | 第28-31页 |
| 3 大气压等离子体化学气相沉积法制备TiO_2薄膜 | 第31-40页 |
| ·放电装置 | 第31页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·TiO_2薄膜的沉积速率 | 第32-34页 |
| ·TiO_2薄膜的晶型和光学性能 | 第34-36页 |
| ·TiO_2薄膜的晶型 | 第34-35页 |
| ·TiO_2薄膜的光学性能 | 第35-36页 |
| ·光催化转化HCHO及影响因素 | 第36-40页 |
| ·光催化转化HCHO | 第36页 |
| ·相对湿度对TiO_2光催化转化HCHO的影响 | 第36-38页 |
| ·空速对TiO_2薄膜光催化转化HCHO的影响 | 第38-40页 |
| 4 制备条件对TiO_2薄膜光催化活性的影响 | 第40-64页 |
| ·不同TiCl_4分压下O_2分压对TiO_2薄膜制备的影响 | 第40-42页 |
| ·反应气总流量的影响 | 第42-43页 |
| ·放电电源频率的影响 | 第43-44页 |
| ·放电功率的影响 | 第44-46页 |
| ·不同放电电压下的放电功率 | 第44-45页 |
| ·放电功率对TiO_2薄膜光催化活性的影响 | 第45-46页 |
| ·沉积时间的影响 | 第46-48页 |
| ·沉积时间对TiO_2薄膜样品光催化活性的影响 | 第46-48页 |
| ·沉积时间对TiO_2薄膜样品的吸光度的影响 | 第48页 |
| ·基片与电极之间距离的影响 | 第48-49页 |
| ·基片运动速度的影响 | 第49-51页 |
| ·电极结构的影响 | 第51-53页 |
| ·放电面积的影响 | 第51-52页 |
| ·介质层厚度的影响 | 第52-53页 |
| ·加入N_2的影响 | 第53-57页 |
| ·N_2的加入对TiO_2薄膜性质的影响 | 第53-55页 |
| ·N_2/Ar放电体系发射光谱诊断 | 第55-57页 |
| ·样品处理方式的影响 | 第57-64页 |
| ·热处理温度的影响 | 第57-59页 |
| ·降温速率对TiO_2薄膜样品性质的影响 | 第59-62页 |
| ·不同处理方式的影响 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |