| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第15-37页 |
| 1.1 前言 | 第15-16页 |
| 1.2 纳米材料 | 第16-20页 |
| 1.2.1 纳米材料简要概述 | 第16页 |
| 1.2.2 纳米磁性材料Fe_3O_4的制备及性能改进 | 第16-20页 |
| 1.3 新型多孔壳-磁性核结构复合纳米材料 | 第20-28页 |
| 1.3.1 新型多孔壳——磁性核复合材料的种类及制备 | 第20-26页 |
| 1.3.2 新型多孔壳——磁性核材料的应用 | 第26-28页 |
| 1.4 新型多孔壳——磁性核结构纳米催化剂 | 第28-33页 |
| 1.4.1 新型多孔壳——磁性核贵金属催化剂的应用 | 第29-31页 |
| 1.4.2 新型多孔壳——磁性核过渡金属催化剂的应用 | 第31-33页 |
| 1.5 Heck反应的研究进展 | 第33-35页 |
| 1.6 论文的主要研究内容和意义 | 第35-37页 |
| 第二章 实验部分 | 第37-47页 |
| 2.1 实验原料与实验仪器设备 | 第37-39页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第37-38页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第38-39页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第39-42页 |
| 2.2.1 磁性核材料Fe_3O_4颗粒的制备 | 第39-40页 |
| 2.2.2 纳米SiO_2@Fe_3O_4复合材料的制备 | 第40-41页 |
| 2.2.3 SiO_2@Fe_3O_4磁性催化剂的制备 | 第41-42页 |
| 2.3 催化剂的表征方法和仪器 | 第42-43页 |
| 2.3.1 XRD(X射线衍射分析) | 第42页 |
| 2.3.2 BET和BJH(氮气吸脱附分析) | 第42-43页 |
| 2.3.3 ICP-AES(金属含量浓度测定) | 第43页 |
| 2.3.4 VSM(磁性能分析) | 第43页 |
| 2.4 催化剂的Heck反应性能评价 | 第43-47页 |
| 第三章 Ni/SiO_2@Fe_3O_4磁性催化剂的制备及其反应性能 | 第47-61页 |
| 3.1 不同金属做为活性组分的催化性能的对比 | 第47-48页 |
| 3.2 Ni/SiO_2@Fe_3O_4磁性催化剂的制备 | 第48页 |
| 3.3 Ni/SiO_2@Fe_3O_4催化剂的表征 | 第48-53页 |
| 3.3.1 Ni/SiO_2@Fe_3O_4的XRD表征 | 第48-50页 |
| 3.3.2 Ni/SiO_2@Fe_3O_4的ICP(AES)测试结果与分析 | 第50页 |
| 3.3.3 Ni/SiO_2@Fe_3O_4磁性催化剂的氮气吸脱附表征 | 第50-52页 |
| 3.3.4 Ni/SiO_2@Fe_3O_4磁性催化剂的磁性能分析 | 第52-53页 |
| 3.4 Ni/SiO_2@Fe_3O_4催化剂的Heck反应活性评价 | 第53-57页 |
| 3.4.1 不同Ni含量催化剂对反应性能的影响 | 第54页 |
| 3.4.2 反应温度对反应性能的影响 | 第54-55页 |
| 3.4.3 碱源对反应性能的影响 | 第55-56页 |
| 3.4.4 溶剂对反应性能的影响 | 第56-57页 |
| 3.4.5 时间对反应性能的影响 | 第57页 |
| 3.5 Ni/SiO_2@Fe_3O_4磁性催化剂的重复使用性能 | 第57-58页 |
| 3.6 本章小结 | 第58-61页 |
| 第四章 Cu/SiO_2@Fe_3O_4磁性催化剂的制备及其反应性能 | 第61-73页 |
| 4.1 Cu/SiO_2@Fe_3O_4催化剂的表征 | 第61-65页 |
| 4.1.1 XRD表征 | 第61-62页 |
| 4.1.2 ICP(AES)测试结果与分析 | 第62-63页 |
| 4.1.3 氮气吸脱附表征 | 第63-64页 |
| 4.1.4 磁性能(VSM)分析 | 第64-65页 |
| 4.2 Cu/SiO_2@Fe_3O_4催化剂的Heck反应活性评价 | 第65-69页 |
| 4.2.1 不同Cu含量催化剂对反应性能的影响 | 第65-66页 |
| 4.2.2 反应温度对反应性能的影响 | 第66页 |
| 4.2.3 溶剂和碱源对反应性能的影响 | 第66-67页 |
| 4.2.4 时间对反应性能的影响 | 第67-68页 |
| 4.2.5 催化剂对不同底物的催化性能研究 | 第68-69页 |
| 4.3 Pd-M/SiO_2@Fe_3O_4磁性催化剂的制各及性能 | 第69-70页 |
| 4.4 本章小结 | 第70-73页 |
| 第五章 结论与展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-85页 |
| 致谢 | 第85-87页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第87-89页 |
| 作者和导师简介 | 第89-91页 |
| 附件 | 第91-92页 |
