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InP/InGaAs HBTs电学特性及质子辐照研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
符号对照表第14-17页
缩略语对照表第17-20页
第一章 绪论第20-28页
    1.1 选题背景及研究意义第20-23页
    1.2 国内外研究现状及存在问题第23-27页
        1.2.1 InP/InGaAs HBTs器件的研究现状第23-25页
        1.2.2 HBTs器件的辐照效应研究现状第25-27页
    1.3 本文结构第27-28页
第二章 辐照基本概念第28-42页
    2.1 空间辐照环境第28-29页
    2.2 基本损伤机理第29-36页
        2.2.1 电离损伤第30-32页
        2.2.2 位移损伤第32-35页
        2.2.3 非电离能量损失(NIEL)概念第35-36页
    2.3 Ⅲ-Ⅴ族化合物的辐射效应第36-37页
    2.4 同质结器件的辐射效应第37-38页
    2.5 异质结器件的辐射效应第38-40页
    2.6 本章小结第40-42页
第三章 InP/InGaAs HBTs器件及其参数第42-62页
    3.1 HBT的基础第42-47页
        3.1.1 HBT结构、性能第43-44页
        3.1.2 HBT器件工作模式第44-47页
    3.2 InP HBTs器件的电学特性测试第47-50页
        3.2.1 直流特性测试第47-49页
        3.2.2 频率特性测试第49-50页
    3.3 InP HBTs晶体管的关键参数第50-58页
        3.3.1 InP HBTs的直流参数第50-53页
        3.3.2 InP HBTs的击穿特性第53-54页
        3.3.3 InP HBTs的交流参数第54-58页
    3.4 InP HBTs器件的尺寸效应第58-59页
    3.5 本章小结第59-62页
第四章 InP/InGaAs器件质子辐照效应仿真第62-90页
    4.1 InP/InGaAs异质PN结及HBTs器件结构参数第62-64页
    4.2 质子辐照效应SRIM仿真第64-71页
        4.2.1 InP、InGaAs材料质子辐照SRIM仿真第64-67页
        4.2.2 InP/InGaAs异质PN结质子辐照SRIM仿真第67-71页
    4.3 InP/InGaAs HBTs器件Sentaurus建模第71-76页
    4.4 InP/InGaAs HBTs器件质子辐照Sentaurus仿真第76-85页
        4.4.1 不同剂量质子辐照Sentaurus仿真第76-81页
        4.4.2 不同能量质子辐照Sentaurus仿真第81-85页
    4.5 不同发射极尺寸器件特性第85-87页
    4.6 本章小结第87-90页
第五章 InP/InGaAsHBTs器件质子辐照研究第90-104页
    5.1 InP/InGaAs异质PN结及HBTs器件的质子辐照实验第90-91页
    5.2 InP/InGaAs异质PN结结构质子辐照第91-92页
    5.3 InP/InGaAs HBTs器件质子辐照第92-102页
        5.3.1 InP/InGaAs HBTs器件不同剂量质子辐照第92-101页
        5.3.2 InP/InGaAs HBTs器件不同能量质子辐照第101-102页
    5.4 本章小结第102-104页
第六章 总结与展望第104-108页
    6.1 总结第104-105页
    6.2 未来工作展望第105-108页
致谢第108-110页
参考文献第110-120页
作者简介第120-122页

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