摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
1.1 研究背景 | 第11-12页 |
1.2 纳米二氧化钛的发展历程 | 第12-15页 |
1.2.1 纳米二氧化钛 | 第12-13页 |
1.2.2 纳米二氧化钛国内外研究进展 | 第13页 |
1.2.3 纳米二氧化钛的微观特性 | 第13-15页 |
1.3 纳米二氧化钛的结构和性质 | 第15-17页 |
1.3.1 纳米二氧化钛的结构 | 第15-16页 |
1.3.2 纳米二氧化钛的物理化学性质 | 第16-17页 |
1.4 制备纳米二氧化钛的方法 | 第17-21页 |
1.4.1 气相法制备纳米二氧化钛 | 第17页 |
1.4.2 固相法制备纳米二氧化钛 | 第17-18页 |
1.4.3 液相法制备纳米二氧化钛 | 第18-21页 |
1.5 纳米二氧化钛的应用 | 第21-23页 |
1.6 本课题研究的意义 | 第23-24页 |
1.7 本课题研究的主要内容 | 第24-25页 |
第二章 实验方法与设备 | 第25-34页 |
2.1 试验原料与试剂 | 第25页 |
2.2 主要设备及仪器 | 第25-26页 |
2.3 实验原理 | 第26-28页 |
2.3.1 TiCl_4水解法制备原理 | 第26-28页 |
2.3.2 TiOSO_4水解法制备原理 | 第28页 |
2.4 实验研究方法 | 第28-31页 |
2.4.1 TiCl_4酸解液的配制 | 第29页 |
2.4.2 TiCl_4水解法制备纳米二氧化钛 | 第29-30页 |
2.4.3 TiOSO_4水解法制备纳米二氧化钛 | 第30-31页 |
2.5 实验分析 | 第31-34页 |
第三章 TiCl_4水溶液的稳定性研究 | 第34-40页 |
3.1 TiCl_4水溶液的热力学研究 | 第34-35页 |
3.2 TiCl_4水溶液水解反应机制 | 第35-37页 |
3.3 TiCl_4水溶液沉淀率的研究 | 第37-39页 |
3.3.1 初始钛液浓度对水解沉淀效率的影响 | 第37-38页 |
3.3.2 温度对水解沉淀效率的影响 | 第38-39页 |
3.4 小结 | 第39-40页 |
第四章 四氯化钛为原料制备纳米二氧化钛 | 第40-54页 |
4.1 原料化学成分分析 | 第40页 |
4.2 TiCl_4水溶液的配制及实验方法 | 第40-42页 |
4.2.1 TiCl_4水溶液浓度对其组成成分的影响 | 第41页 |
4.2.2 配制过程中温度的影响 | 第41-42页 |
4.3 TiCl_4制备TiO_2过程的研究 | 第42-48页 |
4.3.1 NaOH溶液浓度对产品粒度的影响 | 第42-43页 |
4.3.2 NH_3·H_2O溶液浓度对产品粒度的影响 | 第43-44页 |
4.3.3 NH_4HCO_3溶液浓度对产品粒度的影响 | 第44页 |
4.3.4 分散剂浓度对产品粒度的影响 | 第44-45页 |
4.3.5 反应温度对产品粒度的影响 | 第45-46页 |
4.3.6 反应时间对产品粒度的影响 | 第46-47页 |
4.3.7 超声波对产品粒度的影响 | 第47-48页 |
4.4 产品煅烧过程的研究 | 第48-49页 |
4.4.1 煅烧温度的影响 | 第48-49页 |
4.4.2 煅烧时间的影响 | 第49页 |
4.5 最优条件下所得产物的表征 | 第49-53页 |
4.5.1 所得产物化学成分分析 | 第50页 |
4.5.2 XRD表征 | 第50-51页 |
4.5.3 比表面积、粒径等表征 | 第51页 |
4.5.4 TEM表征 | 第51-52页 |
4.5.5 EDS表征 | 第52-53页 |
4.6 小结 | 第53-54页 |
第五章 硫酸氧钛为原料制备纳米二氧化钛 | 第54-63页 |
5.1 实验步骤 | 第54页 |
5.2 实验原理 | 第54-55页 |
5.3 工艺参数的影响 | 第55-60页 |
5.3.1 硫酸氧钛浓度对粒度的影响 | 第55-56页 |
5.3.2 尿素浓度对粒径的影响 | 第56-57页 |
5.3.3 反应温度对粒径的影响 | 第57页 |
5.3.4 表面活性剂对分散性的影响 | 第57-58页 |
5.3.5 超声波对分散性的影响 | 第58-59页 |
5.3.6 煅烧温度的影响 | 第59-60页 |
5.4 最佳实验条件下产品的TEM表征 | 第60-61页 |
5.5 最佳实验条件下产品的XRD表征 | 第61-62页 |
5.6 小结 | 第62-63页 |
第六章 结论与展望 | 第63-65页 |
6.1 结论 | 第63-64页 |
6.2 展望 | 第64-65页 |
致谢 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-73页 |
附录 | 第73页 |