| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第14-29页 |
| 1.1 引言 | 第14页 |
| 1.2 异丁烷脱氢制异丁烯研究概况 | 第14-18页 |
| 1.2.1 异丁烷脱氢制异丁烯工艺 | 第14-16页 |
| 1.2.2 异丁烷脱氢反应机理 | 第16-18页 |
| 1.3 异丁烷脱氢反应催化剂 | 第18-27页 |
| 1.3.1 Pt系催化剂 | 第18-19页 |
| 1.3.2 Cr系催化剂 | 第19-21页 |
| 1.3.3 过渡金属氧化物和复合氧化物催化剂 | 第21-24页 |
| 1.3.4 碳材料催化剂 | 第24-27页 |
| 1.4 选题依据、研究内容和创新点 | 第27-29页 |
| 1.4.1 选题意义及依据 | 第27-28页 |
| 1.4.2 主要研究内容 | 第28页 |
| 1.4.3 创新点 | 第28-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-36页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第29-30页 |
| 2.2 催化剂表征 | 第30-33页 |
| 2.2.1 程序升温热重(TGA)和热重-差示扫描量热(TGA-DSC)分析 | 第30页 |
| 2.2.2 傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第30页 |
| 2.2.3 氢气-程序升温还原(H2-TPR) | 第30-31页 |
| 2.2.4 氨气程序升温脱附(NH3-TPD) | 第31页 |
| 2.2.5 比表面积和孔径分布 | 第31页 |
| 2.2.6 X射线多晶衍射(XRD) | 第31页 |
| 2.2.7 元素含量分析 | 第31-32页 |
| 2.2.8 拉曼光谱分析(Raman) | 第32页 |
| 2.2.9 X-射线光电子能谱(XPS) | 第32页 |
| 2.2.10 扫描电子显微镜(SEM) | 第32页 |
| 2.2.11 透射电子显微镜镜(TEM) | 第32页 |
| 2.2.12 程序升温脱附(TPD) | 第32-33页 |
| 2.3 催化剂性能评价 | 第33-36页 |
| 2.3.1 固定床反应器 | 第33页 |
| 2.3.2 气相色谱分析条件及方法 | 第33-36页 |
| 第三章 氮掺杂碳纳米管及其催化性能 | 第36-55页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 催化剂制备 | 第36-37页 |
| 3.3 催化剂活性评价 | 第37页 |
| 3.4 催化剂表征 | 第37-43页 |
| 3.4.1 FTIR表征 | 第37-38页 |
| 3.4.2 XRD结果分析 | 第38页 |
| 3.4.3 介孔结构表征 | 第38-39页 |
| 3.4.4 拉曼光谱分析 | 第39-40页 |
| 3.4.5 形貌分析 | 第40-42页 |
| 3.4.6 XPS分析 | 第42-43页 |
| 3.5 催化剂脱氢活性评价 | 第43-49页 |
| 3.5.1 氮掺杂量对脱氢活性的影响 | 第43-45页 |
| 3.5.2 反应温度对脱氢活性的影响 | 第45-47页 |
| 3.5.3 空速对脱氢活性的影响 | 第47-48页 |
| 3.5.4 催化反应稳定性 | 第48-49页 |
| 3.6 催化反应活性位研究 | 第49-54页 |
| 3.7 本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 Mo-CT纳米线催化剂异丁烷直接脱氢研究 | 第55-86页 |
| 4.1 引言 | 第55页 |
| 4.2 催化剂制备 | 第55-56页 |
| 4.2.1 Mo_3O_(10)(C_6H_8N)_2·2H_2O纳米线的合成 | 第55-56页 |
| 4.2.2 Mo-C_T纳米线催化剂的合成 | 第56页 |
| 4.3 催化剂脱氢活性评价 | 第56页 |
| 4.4 催化剂表征 | 第56-62页 |
| 4.4.1 XRD表征 | 第56-57页 |
| 4.4.2 形貌分析 | 第57-59页 |
| 4.4.3 TGA-DSC分析 | 第59-60页 |
| 4.4.4 拉曼光谱分析 | 第60-61页 |
| 4.4.5 XPS表征分析 | 第61-62页 |
| 4.5 催化反应活性及稳定性 | 第62-64页 |
| 4.6 实验结果分析与讨论 | 第64-84页 |
| 4.6.1 催化剂物相变化分析 | 第64-66页 |
| 4.6.2 元素含量分析 | 第66-67页 |
| 4.6.3 介孔结构分析 | 第67-69页 |
| 4.6.4 吸附-脱附研究 | 第69-70页 |
| 4.6.5 钼物种与催化活性的关系 | 第70-72页 |
| 4.6.6 表面化学分析 | 第72-79页 |
| 4.6.7 结构缺陷分析 | 第79-80页 |
| 4.6.8 还原性能研究 | 第80-82页 |
| 4.6.9 酸位和酸强度分析 | 第82-83页 |
| 4.6.10 催化反应活性位研究 | 第83-84页 |
| 4.7 本章小结 | 第84-86页 |
| 第五章 Ga对Mo-C_T催化剂脱氢性能影响 | 第86-109页 |
| 5.1 引言 | 第86页 |
| 5.2 催化剂制备 | 第86-87页 |
| 5.3 催化剂活性评价 | 第87页 |
| 5.4 催化剂表征 | 第87-93页 |
| 5.4.1 元素分析 | 第87-88页 |
| 5.4.2 SEM表征 | 第88-89页 |
| 5.4.3 BET表征 | 第89-91页 |
| 5.4.4 XRD表征 | 第91页 |
| 5.4.5 TG-DSC表征 | 第91-93页 |
| 5.5 催化活性测试 | 第93-96页 |
| 5.6 实验结果分析与讨论 | 第96-107页 |
| 5.6.1 形貌和物相分析 | 第96-97页 |
| 5.6.2 热稳定性和孔结构分析 | 第97-98页 |
| 5.6.3 结构缺陷分析 | 第98-99页 |
| 5.6.4 吸附-脱附研究 | 第99页 |
| 5.6.5 表面化学分析 | 第99-105页 |
| 5.6.6 H2-TPR分析 | 第105-106页 |
| 5.6.7 反应活性位探究 | 第106-107页 |
| 5.7 本章小结 | 第107-109页 |
| 第六章 Ga-Mo-C_T-0.009催化剂脱氢性能研究 | 第109-133页 |
| 6.1 引言 | 第109页 |
| 6.2 催化剂制备 | 第109页 |
| 6.3 催化剂活性评价 | 第109-110页 |
| 6.4 催化剂表征 | 第110-112页 |
| 6.4.1 SEM表征 | 第110页 |
| 6.4.2 TEM表征 | 第110-112页 |
| 6.5 催化反应活性及稳定性 | 第112-114页 |
| 6.6 实验结果分析与讨论 | 第114-130页 |
| 6.6.1 形貌变化 | 第114-115页 |
| 6.6.2 物相分析 | 第115-116页 |
| 6.6.3 TGA-DSC分析 | 第116-118页 |
| 6.6.4 孔结构变化分析 | 第118-119页 |
| 6.6.5 结构缺陷变化分析 | 第119-120页 |
| 6.6.6 吸附-脱附研究 | 第120-121页 |
| 6.6.7 表面化学分析 | 第121-128页 |
| 6.6.8 H_2-TPR分析 | 第128-129页 |
| 6.6.9 反应活性位探究 | 第129-130页 |
| 6.7 本章小结 | 第130-133页 |
| 结论与展望 | 第133-135页 |
| 结论 | 第133-134页 |
| 展望 | 第134-135页 |
| 参考文献 | 第135-150页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第150-151页 |
| 致谢 | 第151-153页 |
| 附件 | 第153页 |
