| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-28页 |
| 1.1 牙膏的发展历史 | 第10-11页 |
| 1.2 牙膏的组分及其各组分作用 | 第11-14页 |
| 1.3 牙膏磨擦剂的主要作用及常见类型 | 第14-20页 |
| 1.3.1 牙膏磨擦剂的主要作用 | 第14页 |
| 1.3.2 选择牙膏磨擦剂的条件 | 第14-16页 |
| 1.3.3 常见的牙膏磨擦剂类型 | 第16-20页 |
| 1.4 牙膏用二氧化硅的特点 | 第20-25页 |
| 1.4.1 二氧化硅作为牙膏磨擦剂的特点 | 第20-21页 |
| 1.4.2 牙膏用二氧化硅的合成方法 | 第21-23页 |
| 1.4.3 牙膏用二氧化硅的技术指标 | 第23-25页 |
| 1.5 选题背景以及研究内容 | 第25-28页 |
| 第二章 实验部分 | 第28-36页 |
| 2.1 实验原料 | 第28页 |
| 2.2 实验仪器 | 第28-29页 |
| 2.3 实验装置 | 第29-31页 |
| 2.4 实验流程 | 第31-32页 |
| 2.5 实验步骤 | 第32页 |
| 2.6 样品表征以及性能测试 | 第32-36页 |
| 2.6.1 X-射线衍射(XRD) | 第32页 |
| 2.6.2 红外光谱(IR) | 第32-33页 |
| 2.6.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第33页 |
| 2.6.5 基本性能测试 | 第33-36页 |
| 第三章 合成条件对牙膏用二氧化硅性能的影响 | 第36-42页 |
| 3.1 釜底液硅酸钠浓度对SiO_2性能的影响 | 第36-37页 |
| 3.2 合成温度对SiO_2性能的影响 | 第37-39页 |
| 3.3 陈化时间对SiO_2性能的影响 | 第39-40页 |
| 3.4 小结 | 第40-42页 |
| 第四章 在釜底液中添加电解质对牙膏用SiO_2性能的影响 | 第42-52页 |
| 4.1 在合成温度为65℃时电解质NaCl、Na2SO_4对SiO_2性能的影响 | 第42-44页 |
| 4.2 在合成温度为85℃时电解质NaCl、Na2SO_4对SiO_2性能的影响 | 第44-45页 |
| 4.3 合成样品性能分析 | 第45-50页 |
| 4.3.1 物相分析 | 第46-47页 |
| 4.3.2 红外光谱分析 | 第47-48页 |
| 4.3.3 形貌分析 | 第48-49页 |
| 4.3.4 基本性能分析 | 第49页 |
| 4.3.5 磨擦性能分析 | 第49-50页 |
| 4.4 小结 | 第50-52页 |
| 第五章 进一步优化牙膏用SiO_2合成条件 | 第52-64页 |
| 5.1 在合成温度为65℃时,添加硫酸浓度对透光率的影响 | 第52-54页 |
| 5.2 在合成温度为85℃时,添加硫酸浓度对透光率的影响 | 第54-56页 |
| 5.3 合成样品性能分析 | 第56-61页 |
| 5.3.1 物相分析 | 第57-58页 |
| 5.3.2 红外光谱分析 | 第58页 |
| 5.3.3 形貌分析 | 第58-60页 |
| 5.3.4 基本性能分析 | 第60页 |
| 5.3.5 样品的磨擦性能测试 | 第60-61页 |
| 5.4 小结 | 第61-64页 |
| 第六章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 硕士期间发表论文 | 第72页 |
