复合配体对硫酸盐三价铬电沉积的研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 关于三价铬电镀 | 第9页 |
| 1.2 三价铬电镀的研究现状 | 第9-11页 |
| 1.3 三价铬电镀优点 | 第11页 |
| 1.4 三价铬电镀工艺面临问题 | 第11-12页 |
| 1.5 硫酸盐体系三价铬电镀的发展 | 第12-16页 |
| 1.5.1 镀液体系 | 第12-14页 |
| 1.5.2 三价铬镀铬阳极材料的选择 | 第14页 |
| 1.5.3 三价铬电镀工艺 | 第14-16页 |
| 1.6 论文的研究意义和研究内容 | 第16-17页 |
| 2 实验器材与方法 | 第17-20页 |
| 2.1 化学试剂和实验仪器 | 第17-18页 |
| 2.2 基本工艺流程 | 第18页 |
| 2.3 镀液性能测试 | 第18页 |
| 2.3.1 槽挂镀实验 | 第18页 |
| 2.3.2 沉积速率 | 第18页 |
| 2.3.3 阴极极化曲线 | 第18页 |
| 2.4 镀层性能测试 | 第18-20页 |
| 2.4.1 镀层厚度 | 第18-19页 |
| 2.4.2 镀层光亮性 | 第19页 |
| 2.4.3 结合力测试 | 第19页 |
| 2.4.4 镀层 X 射线衍射测试 | 第19页 |
| 2.4.5 镀层耐蚀性测试 | 第19-20页 |
| 3 镀液组成以及工艺条件的研究 | 第20-34页 |
| 3.1 引言 | 第20页 |
| 3.2 镀液的基本组成 | 第20页 |
| 3.3 镀液的配制与电镀件的制备 | 第20-21页 |
| 3.4 镀液成分的优化实验 | 第21-25页 |
| 3.5 工艺条件的优化 | 第25-33页 |
| 3.5.1 电流密度的影响 | 第25-27页 |
| 3.5.2 电镀时间影响 | 第27-30页 |
| 3.5.3 pH 影响 | 第30-33页 |
| 3.6 本章小结 | 第33-34页 |
| 4 镀层的结构和性能研究 | 第34-40页 |
| 4.1 引言 | 第34页 |
| 4.2 镀层外观评价 | 第34页 |
| 4.3 镀层表面形貌分析 | 第34-35页 |
| 4.4 镀层能谱分析 | 第35-37页 |
| 4.5 镀层 X 射线衍射测试 | 第37页 |
| 4.6 镀层结合力测试 | 第37-38页 |
| 4.7 镀层耐蚀性测试 | 第38-39页 |
| 4.8 本章小结 | 第39-40页 |
| 5 四种复合体系三价铬沉积过程的探索 | 第40-47页 |
| 5.1 引言 | 第40页 |
| 5.2 甘氨酸体系三价铬放电步骤 | 第40-41页 |
| 5.3 第二配体对阴极极化曲线的影响 | 第41-42页 |
| 5.4 计时电流法(CA)对其进行研究 | 第42-46页 |
| 5.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 6 结论与展望 | 第47-48页 |
| 6.1 结论 | 第47页 |
| 6.2 展望 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-54页 |
| 附录 | 第54页 |
| 作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第54页 |
