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多参数反馈调控结晶系统的初步开发

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
目录第7-9页
第一章 绪论第9-25页
    1.1 研究背景第9-10页
    1.2 过程分析技术在结晶过程中的应用第10-21页
        1.2.1 过程分析技术的提出第10-13页
        1.2.2 浓度测量过程分析技术第13-17页
        1.2.3 颗粒测量过程分析技术第17-19页
        1.2.4 晶型检测过程分析技术第19-21页
    1.3 化学计量学在结晶研究中的应用第21-23页
    1.4 本论文研究目标和研究内容第23-25页
        1.4.1 研究目标第23页
        1.4.2 研究内容第23-25页
第二章 系统设计与构建第25-36页
    2.1 系统功能设计第25页
    2.2 系统结构组成第25-27页
    2.3 系统功能原理第27-31页
        2.3.1 亚稳区宽度自动测量第27-29页
        2.3.2 溶液浓度在线检测第29-30页
        2.3.3 过饱和度反馈调控第30-31页
    2.4 人机互动界面与操作方法第31-36页
        2.4.1 亚稳区宽度自动测量第31-32页
        2.4.2 溶液浓度的在线检测第32-34页
        2.4.3 过饱和度的反馈调控第34-36页
第三章 亚稳区宽度自动测量第36-41页
    3.1 溶解度的测定与模型关联第36-38页
    3.2 亚稳区宽度测量第38-40页
        3.2.1 检测方法步骤第38-39页
        3.2.2 降温速率对亚稳区宽度的影响第39-40页
        3.2.3 搅拌速率对亚稳区宽度的影响第40页
    3.3 本章小结第40-41页
第四章 溶液浓度的在线检测第41-53页
    4.1 ATRUV 光谱性质分析第41-44页
        4.1.1 光谱采集分析基本原理第41页
        4.1.2 温度对 ATRUV 光谱的影响第41-42页
        4.1.3 浓度对 ATRUV 光谱的影响第42-44页
        4.1.4 ATRUV 光谱在亚稳区测量中潜在应用第44页
    4.2 浓度在线检测模型的建立与实验验证第44-51页
        4.2.1 浓度检测模型标定第44-45页
        4.2.2 浓度检测模型的 PLS 回归第45-50页
        4.2.3 浓度检测模型的实验验证第50-51页
    4.3 本章小结第51-53页
第五章 冷却结晶过程参数检测及分析第53-62页
    5.1 降温方式对结晶过程温度变化的影响第54页
    5.2 降温方式对结晶过程溶液浓度变化的影响第54-55页
    5.3 降温方式对结晶过程溶液过饱和度变化的影响第55-56页
    5.4 降温方式对结晶过程颗粒粒径分布变化的影响第56-61页
    5.5 本章小结第61-62页
结论与展望第62-63页
参考文献第63-68页
附录第68-70页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第70-71页
致谢第71-72页
附件第72页

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