摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-19页 |
1.1 聚乙烯醇高分子材料 | 第11-12页 |
1.1.1 聚乙烯醇的特点 | 第11页 |
1.1.2 聚乙烯醇的特性及应用 | 第11-12页 |
1.2 方酸菁荧光染料 | 第12-15页 |
1.2.1 菁染料及方酸菁染料的结构特点 | 第12-13页 |
1.2.2 方酸菁染料的性能及应用 | 第13页 |
1.2.3 染料的分离提纯 | 第13-15页 |
1.3 荧光高分子材料 | 第15-16页 |
1.3.1 荧光高分子材料概述 | 第15页 |
1.3.2 荧光高分子材料的合成方法及应用 | 第15-16页 |
1.4 石墨烯及其复合材料 | 第16-18页 |
1.4.1 石墨烯的结构及基本特征 | 第16-17页 |
1.4.2 石墨烯的特性 | 第17页 |
1.4.3 石墨烯复合材料的应用进展 | 第17-18页 |
1.5 本文研究思路及内容 | 第18-19页 |
第2章 方酸菁荧光染料及其衍生物的合成 | 第19-34页 |
2.1 实验仪器与药品 | 第19-21页 |
2.1.1 实验仪器 | 第19页 |
2.1.2 实验药品 | 第19-21页 |
2.2 实验方法 | 第21-28页 |
2.2.1 N-对羧苄基染料中间体的合成 | 第21-22页 |
2.2.2 方酸菁染料的合成与分离 | 第22-24页 |
2.2.3 方酸菁-琥珀酰亚胺酯的合成 | 第24-25页 |
2.2.4 方酸菁-对氨基偶氮苯衍生物的合成与分离 | 第25-27页 |
2.2.5 方酸菁-苄胺衍生物的合成与分离 | 第27-28页 |
2.3 结果与讨论 | 第28-32页 |
2.3.1 方酸菁染料标准曲线的绘制 | 第28-29页 |
2.3.2 方酸菁染料的光谱性能分析 | 第29页 |
2.3.3 方酸菁染料的光稳定性分析 | 第29-30页 |
2.3.4 方酸菁-对氨基偶氮苯或苄胺衍生物的结构分析 | 第30-32页 |
2.3.5 方酸菁-对氨基偶氮苯或苄胺衍生物的光谱分析 | 第32页 |
2.4 本章小结 | 第32-34页 |
第3章 方酸菁-聚乙烯醇二元荧光高分子材料的合成与性能 | 第34-43页 |
3.1 实验仪器与药品 | 第34-35页 |
3.1.1 实验仪器 | 第34页 |
3.1.2 实验药品 | 第34-35页 |
3.2 实验方法 | 第35-36页 |
3.2.1 聚乙烯醇水溶液的制备 | 第35页 |
3.2.2 方酸菁-聚乙烯醇二元荧光高分子材料的制备 | 第35-36页 |
3.3 结果与讨论 | 第36-41页 |
3.3.1 方酸菁-聚乙烯醇二元荧光高分子材料的结构分析 | 第36-38页 |
3.3.2 方酸菁-聚乙烯醇二元荧光高分子材料的光谱分析 | 第38-39页 |
3.3.3 方酸菁-聚乙烯醇二元荧光高分子材料的光热稳定性分析 | 第39-41页 |
3.4 本章小结 | 第41-43页 |
第4章 方酸菁-石墨烯-聚乙烯醇三元荧光高分子材料的合成与性能 | 第43-57页 |
4.1 实验仪器与药品 | 第43-44页 |
4.1.1 实验仪器 | 第43页 |
4.1.2 实验药品 | 第43-44页 |
4.2 实验方法 | 第44-46页 |
4.2.1 水溶性石墨烯的合成 | 第44-45页 |
4.2.2 石墨烯-聚乙烯醇二元高分子材料的制备 | 第45页 |
4.2.3 方酸菁-石墨烯-聚乙烯醇三元荧光高分子材料的制备 | 第45-46页 |
4.3 结果与讨论 | 第46-56页 |
4.3.1 水溶性石墨烯的结构分析 | 第46-47页 |
4.3.2 石墨烯-聚乙烯醇二元高分子材料的性能分析 | 第47页 |
4.3.3 方酸菁-石墨烯-聚乙烯醇三元荧光高分子材料的结构分析 | 第47-51页 |
4.3.4 方酸菁-石墨烯-聚乙烯醇三元荧光高分子材料的光谱分析 | 第51-52页 |
4.3.5 方酸菁-石墨烯-聚乙烯醇三元荧光高分子材料的光热稳定性分析 | 第52-55页 |
4.3.6 方酸菁-石墨烯-聚乙烯醇三元荧光高分子材料的耐水性分析 | 第55-56页 |
4.4 本章小结 | 第56-57页 |
结论 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-64页 |
攻读硕士学位期间承担的科研任务和主要成果 | 第64-65页 |
致谢 | 第65页 |