基于高光谱技术的绝缘子污秽状态图谱分析及其识别
| 摘要 | 第6-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 项目背景及研究意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-16页 |
| 1.2.1 绝缘子污秽状态的研究 | 第13-14页 |
| 1.2.2 高光谱识别技术的研究 | 第14-16页 |
| 1.3 本文研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 高光谱数据分析系统设计 | 第17-27页 |
| 2.1 染污绝缘样品的制备 | 第17-22页 |
| 2.1.1 污秽试样的选取 | 第17-19页 |
| 2.1.2 绝缘子类型选取 | 第19-20页 |
| 2.1.3 涂污方式的选取 | 第20-21页 |
| 2.1.4 染污流程概述 | 第21-22页 |
| 2.2 高光谱图谱数据分析 | 第22-24页 |
| 2.2.1 成像光谱仪简介 | 第22-23页 |
| 2.2.2 数据分析系统搭建 | 第23-24页 |
| 2.3 数据分析软件简介 | 第24-26页 |
| 2.3.1 软件specview | 第25-26页 |
| 2.3.2 软件ENVI | 第26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 绝缘子污秽参数图谱特性 | 第27-37页 |
| 3.1 绝缘子污秽图谱特性 | 第27-28页 |
| 3.1.1 高光谱成像原理 | 第27页 |
| 3.1.2 染污绝缘子图谱 | 第27-28页 |
| 3.2 不同基材表面污秽的图谱对比 | 第28-30页 |
| 3.2.1 基材光谱信息对比 | 第28-30页 |
| 3.2.2 污秽光谱试验结果 | 第30页 |
| 3.2.3 试验结果分析 | 第30页 |
| 3.3 不同潮湿度污秽的图谱对比 | 第30-33页 |
| 3.3.1 污秽受潮试验 | 第31页 |
| 3.3.2 污秽光谱信息 | 第31-32页 |
| 3.3.3 试验结果分析 | 第32-33页 |
| 3.4 不同厚度污秽的图谱对比 | 第33-36页 |
| 3.4.1 污秽厚度控制 | 第33-34页 |
| 3.4.2 污秽光谱信息 | 第34页 |
| 3.4.3 试验结果分析 | 第34页 |
| 3.4.4 现场应用分析 | 第34-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 绝缘子污秽识别 | 第37-49页 |
| 4.1 识别方法原理 | 第37-40页 |
| 4.1.1 平行六面体分类 | 第37-38页 |
| 4.1.2 最小距离分类 | 第38-39页 |
| 4.1.3 波谱角填图分类 | 第39-40页 |
| 4.1.4 马氏距离分类 | 第40页 |
| 4.2 人工污秽识别 | 第40-45页 |
| 4.2.1 高岭土涂污试验 | 第40-41页 |
| 4.2.2 玻璃绝缘子涂污识别 | 第41-43页 |
| 4.2.3 陶瓷绝缘子涂污识别 | 第43-45页 |
| 4.3 现场自然污秽识别 | 第45-48页 |
| 4.3.1 污秽存在识别 | 第45-46页 |
| 4.3.2 污秽程度识别 | 第46-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 绝缘子污秽图谱分析 | 第49-55页 |
| 5.1 绝缘子伞裙上表面光谱特性 | 第49-51页 |
| 5.1.1 光谱采集试验 | 第49-50页 |
| 5.1.2 试验结果分析 | 第50-51页 |
| 5.2 绝缘子伞裙下表面光谱特性 | 第51-52页 |
| 5.2.1 光谱采集试验 | 第51-52页 |
| 5.2.2 试验结果分析 | 第52页 |
| 5.3 绝缘子污秽光谱信息分布特性 | 第52-53页 |
| 5.4 本章小结 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和科研成果 | 第61-62页 |
| 参与的科研项目 | 第62-63页 |
