| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 透明导电ITO薄膜的研究 | 第12-13页 |
| 1.1.1 ITO薄膜的性能 | 第12页 |
| 1.1.2 ITO薄膜的应用 | 第12-13页 |
| 1.1.3 ITO薄膜的制备 | 第13页 |
| 1.2 ITO陶瓷 | 第13-16页 |
| 1.2.1 概述 | 第13-14页 |
| 1.2.2 ITO陶瓷的研究现状 | 第14页 |
| 1.2.3 ITO陶瓷的发展趋势 | 第14-15页 |
| 1.2.4 ITO陶瓷的制备方法 | 第15-16页 |
| 1.3 微波烧结技术 | 第16-23页 |
| 1.3.1 微波的基本概念 | 第16-17页 |
| 1.3.2 微波烧结基本原理 | 第17-18页 |
| 1.3.3 微波烧结技术特征 | 第18-20页 |
| 1.3.4 微波烧结在陶瓷材料研究中的应用 | 第20-21页 |
| 1.3.5 微波烧结存在的问题 | 第21-22页 |
| 1.3.6 微波烧结技术前景 | 第22-23页 |
| 1.4 论文选题及主要研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 基本工艺与试验过程 | 第24-29页 |
| 2.1 实验材料及设备 | 第24页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第24页 |
| 2.1.2 实验仪器及设备 | 第24页 |
| 2.2 ITO陶瓷制备 | 第24-27页 |
| 2.2.1 粉末球磨混合 | 第25-26页 |
| 2.2.2 粉末压制成形 | 第26页 |
| 2.2.3 排除粘结剂 | 第26页 |
| 2.2.4 ITO陶瓷烧结 | 第26-27页 |
| 2.3 性能表征 | 第27-29页 |
| 2.3.1 密度和孔隙率 | 第27-28页 |
| 2.3.2 收缩率 | 第28页 |
| 2.3.3 电阻率 | 第28页 |
| 2.3.4 X--ray衍射分析(XRD) | 第28页 |
| 2.3.5 扫描电镜(SEM)及微观结构分析 | 第28-29页 |
| 第三章 掺杂ZnO的ITO微波烧结研究 | 第29-40页 |
| 3.1 引言 | 第29-30页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第30-39页 |
| 3.2.1 掺杂ZnO的ITO陶瓷XRD分析 | 第30-31页 |
| 3.2.2 ZnO对ITO陶瓷致密度和质量损失的影响 | 第31-33页 |
| 3.2.3 掺杂ZnO的ITO陶瓷SEM分析 | 第33-35页 |
| 3.2.4 微波烧结与传统烧结制备ITO陶瓷的机理分析 | 第35-38页 |
| 3.2.5 掺杂ZnO的ITO陶瓷电阻率研究 | 第38-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 掺杂Sb_2O_3的ITO微波烧结研究 | 第40-47页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第40-46页 |
| 4.2.1 Sb_2O_3对ITO陶瓷致密度和质量损失的影响 | 第40-42页 |
| 4.2.2 掺杂Sb_2O_3的ITO陶瓷电阻率研究 | 第42-43页 |
| 4.2.3 掺杂Sb_2O_3的ITO陶瓷XRD分析 | 第43-45页 |
| 4.2.4 掺杂Sb_2O_3的ITO陶瓷SEM分析 | 第45-46页 |
| 4.3 本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 掺杂Ti_3N_4的ITO微波烧结研究 | 第47-54页 |
| 5.1 引言 | 第47页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第47-52页 |
| 5.2.1 Ti_3_N4对ITO陶瓷致密度和质量损失的影响 | 第47-49页 |
| 5.2.2 掺杂Ti_3N_4的ITO陶瓷电阻率研究 | 第49-50页 |
| 5.2.3 掺杂Sb_2O_3的ITO陶瓷XRD分析 | 第50-51页 |
| 5.2.4 掺杂Ti_3N_4的ITO陶瓷SEM分析 | 第51-52页 |
| 5.3 本章小结 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-68页 |
| 简写附录 | 第68-69页 |
| 发表学术论文及申报专利情况 | 第69页 |
