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225keVX射线源平台射线的产生与分布模拟

中文摘要第3-4页
Abstract第4页
第一章 绪言第9-15页
    1.1 X射线源的发展历程第9-10页
    1.2 工业CT系统简介第10-13页
        1.2.1 CT技术的发展进程第10-11页
        1.2.2 工业CT系统的组成第11-12页
        1.2.3 工业CT系统的工作原理第12-13页
    1.3 X射线相位衬度成像简介第13-14页
    1.4 论文的内容安排第14-15页
第二章 X射线源的原理与构成介绍第15-24页
    2.1 X射线的产生机理第15页
    2.2 X射线与物质相互作用第15-17页
        2.2.1 光电效应第16页
        2.2.2 康普顿效应第16-17页
        2.2.3 汤姆逊散射第17页
    2.3 CT系统射线源的类型第17-18页
    2.4 X射线机的原理和结构第18-21页
        2.4.1 X射线管第18-19页
        2.4.2 冷却系统第19页
        2.4.3 电源系统第19-20页
        2.4.4 控制系统第20-21页
        2.4.5 X射线机的强度第21页
    2.5 X射线机实例第21-23页
    2.6 本章小结第23-24页
第三章 工业CT锥束X射线能谱及强度的分布模拟第24-36页
    3.1 锥束X射线能谱的模拟第24-27页
        3.1.1 模拟模型第24-25页
        3.1.2 模拟结果第25-27页
    3.2 X射线的强度分布模拟第27-34页
        3.2.1 射线强度分布的模拟设置第27-28页
        3.2.2 模拟结果与分析第28-32页
        3.2.3 射束硬化模拟第32-33页
        3.2.4 射线强度的计算第33-34页
    3.3 本章小结第34-36页
第四章 低能电子轫致辐射与特征谱线的变化规律模拟第36-44页
    4.1 低能电子的轫致辐射角分布模拟第36-38页
        4.1.1 模拟条件第36页
        4.1.2 轫致辐射光子的能谱第36-37页
        4.1.3 轫致辐射光子的角分布第37-38页
    4.2 特征峰的变化规律模拟第38-43页
        4.2.1 特征谱线的角分布第39-41页
        4.2.2 特征谱线在不同角度随入射电子能量的变化规律第41-43页
    4.3 本章小结第43-44页
第五章 X射线的衍射强度模拟第44-50页
    5.1 衍射增强成像的基本原理第44-47页
        5.1.1 布拉格衍射条件第44-45页
        5.1.2 基本光路图和摇摆曲线第45-47页
    5.2 布拉格衍射的强度模拟第47-49页
        5.2.1 模拟设置第47页
        5.2.2 模拟结果与不足分析第47-49页
    5.3 本章小结第49-50页
第六章 工作总结与工作展望第50-52页
    6.1 工作总结第50页
    6.2 工作展望第50-52页
参考文献第52-54页
攻读硕士期间研究成果第54-55页
致谢第55页

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