中文摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4页 |
第一章 绪言 | 第9-15页 |
1.1 X射线源的发展历程 | 第9-10页 |
1.2 工业CT系统简介 | 第10-13页 |
1.2.1 CT技术的发展进程 | 第10-11页 |
1.2.2 工业CT系统的组成 | 第11-12页 |
1.2.3 工业CT系统的工作原理 | 第12-13页 |
1.3 X射线相位衬度成像简介 | 第13-14页 |
1.4 论文的内容安排 | 第14-15页 |
第二章 X射线源的原理与构成介绍 | 第15-24页 |
2.1 X射线的产生机理 | 第15页 |
2.2 X射线与物质相互作用 | 第15-17页 |
2.2.1 光电效应 | 第16页 |
2.2.2 康普顿效应 | 第16-17页 |
2.2.3 汤姆逊散射 | 第17页 |
2.3 CT系统射线源的类型 | 第17-18页 |
2.4 X射线机的原理和结构 | 第18-21页 |
2.4.1 X射线管 | 第18-19页 |
2.4.2 冷却系统 | 第19页 |
2.4.3 电源系统 | 第19-20页 |
2.4.4 控制系统 | 第20-21页 |
2.4.5 X射线机的强度 | 第21页 |
2.5 X射线机实例 | 第21-23页 |
2.6 本章小结 | 第23-24页 |
第三章 工业CT锥束X射线能谱及强度的分布模拟 | 第24-36页 |
3.1 锥束X射线能谱的模拟 | 第24-27页 |
3.1.1 模拟模型 | 第24-25页 |
3.1.2 模拟结果 | 第25-27页 |
3.2 X射线的强度分布模拟 | 第27-34页 |
3.2.1 射线强度分布的模拟设置 | 第27-28页 |
3.2.2 模拟结果与分析 | 第28-32页 |
3.2.3 射束硬化模拟 | 第32-33页 |
3.2.4 射线强度的计算 | 第33-34页 |
3.3 本章小结 | 第34-36页 |
第四章 低能电子轫致辐射与特征谱线的变化规律模拟 | 第36-44页 |
4.1 低能电子的轫致辐射角分布模拟 | 第36-38页 |
4.1.1 模拟条件 | 第36页 |
4.1.2 轫致辐射光子的能谱 | 第36-37页 |
4.1.3 轫致辐射光子的角分布 | 第37-38页 |
4.2 特征峰的变化规律模拟 | 第38-43页 |
4.2.1 特征谱线的角分布 | 第39-41页 |
4.2.2 特征谱线在不同角度随入射电子能量的变化规律 | 第41-43页 |
4.3 本章小结 | 第43-44页 |
第五章 X射线的衍射强度模拟 | 第44-50页 |
5.1 衍射增强成像的基本原理 | 第44-47页 |
5.1.1 布拉格衍射条件 | 第44-45页 |
5.1.2 基本光路图和摇摆曲线 | 第45-47页 |
5.2 布拉格衍射的强度模拟 | 第47-49页 |
5.2.1 模拟设置 | 第47页 |
5.2.2 模拟结果与不足分析 | 第47-49页 |
5.3 本章小结 | 第49-50页 |
第六章 工作总结与工作展望 | 第50-52页 |
6.1 工作总结 | 第50页 |
6.2 工作展望 | 第50-52页 |
参考文献 | 第52-54页 |
攻读硕士期间研究成果 | 第54-55页 |
致谢 | 第55页 |