| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 锂离子电池 | 第11-14页 |
| 1.1.1 锂离子电池的结构特点 | 第11-12页 |
| 1.1.2 锂离子电池的工作原理 | 第12-14页 |
| 1.2 锂离子电池的发展现状 | 第14-21页 |
| 1.2.1 锂离子电池隔膜的发展现状 | 第14-15页 |
| 1.2.2 锂离子电池电解液的发展现状 | 第15页 |
| 1.2.3 锂离子电池正极材料的发展现状 | 第15-16页 |
| 1.2.4 锂离子电池负极材料的发展现状 | 第16-21页 |
| 1.3 本论文的选题思路 | 第21-23页 |
| 2 实验方法与内容 | 第23-29页 |
| 2.1 实验所用仪器设备及原料 | 第23-26页 |
| 2.2 电极材料的制备及电池的装配 | 第26-27页 |
| 2.2.1 电极材料的制备 | 第26页 |
| 2.2.2 电池的装配 | 第26-27页 |
| 2.3 材料的成分分析及结构表征 | 第27页 |
| 2.3.1 高温金相显微镜(high temperature metallurgical) | 第27页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM) | 第27页 |
| 2.3.3 拉曼光谱(Raman) | 第27页 |
| 2.4 电化学性能测试 | 第27-29页 |
| 2.4.1 循环伏安测试(Cyclic voltammetry,CV) | 第27-28页 |
| 2.4.2 恒流充放电曲线(Constant current charge-discharge,CD) | 第28-29页 |
| 3 硅烷流量对硅薄膜制备及电化学性能的影响 | 第29-38页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 硅薄膜的制备 | 第29-30页 |
| 3.3 硅薄膜的结构表征 | 第30-33页 |
| 3.3.1 硅薄膜的SEM图谱分析 | 第30-32页 |
| 3.3.2 硅薄膜的Raman图谱分析 | 第32-33页 |
| 3.4 硅薄膜的电化学性能 | 第33-36页 |
| 3.4.1 硅薄膜的循环伏安测试 | 第33-35页 |
| 3.4.2 硅薄膜的恒流充放电测试 | 第35-36页 |
| 3.5 小结 | 第36-38页 |
| 4 微波功率对硅薄膜制备及电化学性能的影响 | 第38-45页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 硅薄膜的制备 | 第38-39页 |
| 4.3 硅薄膜的结构表征 | 第39-41页 |
| 4.3.1 硅薄膜的SEM图谱分析 | 第39-40页 |
| 4.3.2 硅薄膜的Raman图谱分析 | 第40-41页 |
| 4.4 硅薄膜的电化学性能 | 第41-44页 |
| 4.4.1 硅薄膜的循环伏安测试 | 第41-43页 |
| 4.4.2 硅薄膜的恒流充放电测试 | 第43-44页 |
| 4.5 小结 | 第44-45页 |
| 5 沉积时间对硅薄膜制备及电化学性能的影响 | 第45-53页 |
| 5.1 引言 | 第45页 |
| 5.2 硅薄膜的制备 | 第45-46页 |
| 5.3 硅薄膜的结构表征 | 第46-50页 |
| 5.3.1 硅薄膜的SEM图谱分析 | 第46-49页 |
| 5.3.2 硅薄膜的Raman图谱分析 | 第49-50页 |
| 5.4 硅薄膜的电化学性能 | 第50-52页 |
| 5.4.1 硅薄膜的循环伏安测试 | 第50-51页 |
| 5.4.2 硅薄膜的恒流充放电测试 | 第51-52页 |
| 5.5 小结 | 第52-53页 |
| 6 最优性能及循环过程中硅薄膜表面形貌变化 | 第53-60页 |
| 6.1 引言 | 第53页 |
| 6.2 样品制备过程及模拟电池的装配 | 第53-55页 |
| 6.3 模拟电池的金相图谱 | 第55-56页 |
| 6.4 最优参数制备薄膜的结构及性能表征 | 第56-59页 |
| 6.4.1 硅薄膜的SEM及Raman图谱分析 | 第56-58页 |
| 6.4.2 硅薄膜的循环伏安及恒流充放电测试 | 第58-59页 |
| 6.5 小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |