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硅基锂离子电池负极MPCVD制备工艺及性能

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
引言第10-11页
1 绪论第11-23页
    1.1 锂离子电池第11-14页
        1.1.1 锂离子电池的结构特点第11-12页
        1.1.2 锂离子电池的工作原理第12-14页
    1.2 锂离子电池的发展现状第14-21页
        1.2.1 锂离子电池隔膜的发展现状第14-15页
        1.2.2 锂离子电池电解液的发展现状第15页
        1.2.3 锂离子电池正极材料的发展现状第15-16页
        1.2.4 锂离子电池负极材料的发展现状第16-21页
    1.3 本论文的选题思路第21-23页
2 实验方法与内容第23-29页
    2.1 实验所用仪器设备及原料第23-26页
    2.2 电极材料的制备及电池的装配第26-27页
        2.2.1 电极材料的制备第26页
        2.2.2 电池的装配第26-27页
    2.3 材料的成分分析及结构表征第27页
        2.3.1 高温金相显微镜(high temperature metallurgical)第27页
        2.3.2 扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)第27页
        2.3.3 拉曼光谱(Raman)第27页
    2.4 电化学性能测试第27-29页
        2.4.1 循环伏安测试(Cyclic voltammetry,CV)第27-28页
        2.4.2 恒流充放电曲线(Constant current charge-discharge,CD)第28-29页
3 硅烷流量对硅薄膜制备及电化学性能的影响第29-38页
    3.1 引言第29页
    3.2 硅薄膜的制备第29-30页
    3.3 硅薄膜的结构表征第30-33页
        3.3.1 硅薄膜的SEM图谱分析第30-32页
        3.3.2 硅薄膜的Raman图谱分析第32-33页
    3.4 硅薄膜的电化学性能第33-36页
        3.4.1 硅薄膜的循环伏安测试第33-35页
        3.4.2 硅薄膜的恒流充放电测试第35-36页
    3.5 小结第36-38页
4 微波功率对硅薄膜制备及电化学性能的影响第38-45页
    4.1 引言第38页
    4.2 硅薄膜的制备第38-39页
    4.3 硅薄膜的结构表征第39-41页
        4.3.1 硅薄膜的SEM图谱分析第39-40页
        4.3.2 硅薄膜的Raman图谱分析第40-41页
    4.4 硅薄膜的电化学性能第41-44页
        4.4.1 硅薄膜的循环伏安测试第41-43页
        4.4.2 硅薄膜的恒流充放电测试第43-44页
    4.5 小结第44-45页
5 沉积时间对硅薄膜制备及电化学性能的影响第45-53页
    5.1 引言第45页
    5.2 硅薄膜的制备第45-46页
    5.3 硅薄膜的结构表征第46-50页
        5.3.1 硅薄膜的SEM图谱分析第46-49页
        5.3.2 硅薄膜的Raman图谱分析第49-50页
    5.4 硅薄膜的电化学性能第50-52页
        5.4.1 硅薄膜的循环伏安测试第50-51页
        5.4.2 硅薄膜的恒流充放电测试第51-52页
    5.5 小结第52-53页
6 最优性能及循环过程中硅薄膜表面形貌变化第53-60页
    6.1 引言第53页
    6.2 样品制备过程及模拟电池的装配第53-55页
    6.3 模拟电池的金相图谱第55-56页
    6.4 最优参数制备薄膜的结构及性能表征第56-59页
        6.4.1 硅薄膜的SEM及Raman图谱分析第56-58页
        6.4.2 硅薄膜的循环伏安及恒流充放电测试第58-59页
    6.5 小结第59-60页
结论第60-61页
参考文献第61-66页
致谢第66-67页

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