中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 综述 | 第9-25页 |
1.1 前言 | 第9页 |
1.2 半导体光电分解水的基本原理 | 第9-10页 |
1.3 半导体光电材料概述 | 第10-15页 |
1.3.1 半导体光电材料的选择依据 | 第10-12页 |
1.3.2 不同的光电阳极材料 | 第12-15页 |
1.4 本课题的选题依据及研究内容 | 第15-17页 |
1.4.1 选题依据 | 第15-16页 |
1.4.2 研究内容 | 第16-17页 |
参考文献 | 第17-25页 |
第二章 MIL-53(Fe)-2%Mo:BiVO_4纳米材料的制备及光电性能研究 | 第25-41页 |
2.1 前言 | 第25-26页 |
2.2 实验部分 | 第26-27页 |
2.2.1 试剂 | 第26页 |
2.2.2 不同材料的制备方法 | 第26-27页 |
2.2.3 表征仪器 | 第27页 |
2.3 结果与讨论 | 第27-37页 |
2.3.1 金属有机框架MIL-53(Fe)的结构分析 | 第27-28页 |
2.3.2 复合材料MIL-53(Fe)-2%Mo:BiVO_4的结构和组成分析 | 第28-32页 |
2.3.3 光电性能测试条件 | 第32页 |
2.3.4 MIL-53(Fe)-2%Mo:BiVO_4复合材料的光电性能研究 | 第32-36页 |
2.3.5 MIL-53(Fe)-2%Mo:BiVO_4复合材料的机理研究 | 第36-37页 |
2.4 结论 | 第37-38页 |
参考文献 | 第38-41页 |
第三章 超薄β-FeOOH/BiVO_4纳米材料的制备及光电性能研究 | 第41-60页 |
3.1 前言 | 第41-42页 |
3.2 实验部分 | 第42-43页 |
3.2.1 试剂 | 第42页 |
3.2.2 不同光电极材料的制备方法 | 第42-43页 |
3.2.3 表征仪器 | 第43页 |
3.3 结果与讨论 | 第43-56页 |
3.3.1 超薄β-FeOOH/BiVO_4纳米材料的结构分析 | 第43-47页 |
3.3.2 光电性能测试条件 | 第47页 |
3.3.3 不同光电极材料的光电性能研究 | 第47-50页 |
3.3.4 超薄β-FeOOH/BiVO_4纳米材料的活性位点研究 | 第50-55页 |
3.3.5 超薄β-FeOOH/BiVO_4纳米材料的机理研究 | 第55-56页 |
3.4 结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-60页 |
第四章 结论与展望 | 第60-61页 |
在学期间研究成果 | 第61-62页 |
致谢 | 第62页 |