摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-14页 |
第一章 稀磁半导体概述及课题设计 | 第14-43页 |
·引言 | 第14-15页 |
·稀磁半导体研究概况 | 第15-18页 |
·In_2O_3的基本结构和基本性质 | 第18-20页 |
·In_2O_3基稀磁半导体的研究进展 | 第20-26页 |
·稀磁半导体中的磁性来源与机制 | 第26-31页 |
·本论文的思路和工作安排 | 第31-33页 |
参考文献 | 第33-43页 |
第二章 样品制备和分析测试 | 第43-63页 |
·前言 | 第43页 |
·粉末样品的制备--固态反应法 | 第43-44页 |
·粉末样品的真空退火处理 | 第44-46页 |
·薄膜样品的制备--脉冲激光沉积技术 | 第46-51页 |
·样品的结构和成分表征 | 第51-56页 |
·薄膜厚度的测试 | 第51-52页 |
·样品结构的测量-X射线衍射分析 | 第52-53页 |
·样品微观结构的表征-透射电子显微镜 | 第53-54页 |
·样品成分及价态分析-X射线光电子谱 | 第54-55页 |
·样品结构信息分析-X射线吸收谱 | 第55-56页 |
·样品性能测试 | 第56-60页 |
·样品磁学性能的测试 | 第56-58页 |
·薄膜输运性质的测试 | 第58-59页 |
·薄膜磁圆二色性谱的测试 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-63页 |
第三章 Fe掺杂In_2O_3粉末结构和磁性的研究 | 第63-77页 |
·引言 | 第63页 |
·实验过程 | 第63-64页 |
·真空退火对(In_(1-x)Fe_x)_2O_3粉末结构和磁性的影响 | 第64-70页 |
·空气-真空反复退火对(In_(0.95)Fe_(0.05))_2O_3粉末结构和磁性的影响 | 第70-73页 |
·(In_(1-x)Fe_x)_2O_3粉末的铁磁性来源 | 第73页 |
·本章小结 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-77页 |
第四章 Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的研究 | 第77-97页 |
·引言 | 第77-78页 |
·实验过程 | 第78页 |
·Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的结构与组成 | 第78-81页 |
·Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的磁性 | 第81-85页 |
·Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的输运性质 | 第85-89页 |
·Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的光学性质 | 第89-93页 |
·本章小结 | 第93页 |
参考文献 | 第93-97页 |
第五章 共掺杂剂Sn和Cu对Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体的影响 | 第97-110页 |
·引言 | 第97-98页 |
·实验过程 | 第98页 |
·(In_(0.92)Fe_(0.05)Sn_(0.03))_2O_3和(In_(0.92)Fe_(0.05)Cu_(0.03))_2O_3粉末结构和磁性的研究 | 第98-101页 |
·(In_(0.92)Fe_(0.05)Sn_(0.03))_2O_3和(In_(0.92)Fe_(0.05)Cu_(0.03))_2O_3薄膜结构和磁性的研究 | 第101-106页 |
·本章小结 | 第106-107页 |
参考文献 | 第107-110页 |
第六章 Mn,Sn和Cr,Sn共掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的研究 | 第110-121页 |
·引言 | 第110页 |
·实验过程 | 第110-111页 |
·Mn,Sn共掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的结构、磁性与输运性质 | 第111-113页 |
·Cr,Sn共掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的结构、磁性与输运性质 | 第113-116页 |
·载流子和自旋在调控样品铁磁性时的重要作用 | 第116-118页 |
·本章小结 | 第118页 |
参考文献 | 第118-121页 |
第七章 结论与展望 | 第121-123页 |
·结论 | 第121-122页 |
·展望 | 第122-123页 |
博士学位论文独创性说明 | 第123-124页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第124-126页 |
一、期刊论文 | 第124页 |
二、会议论文 | 第124-126页 |
致谢 | 第126页 |