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3d过渡金属掺杂In2O3稀磁半导体材料的制备与研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-14页
第一章 稀磁半导体概述及课题设计第14-43页
   ·引言第14-15页
   ·稀磁半导体研究概况第15-18页
   ·In_2O_3的基本结构和基本性质第18-20页
   ·In_2O_3基稀磁半导体的研究进展第20-26页
   ·稀磁半导体中的磁性来源与机制第26-31页
   ·本论文的思路和工作安排第31-33页
 参考文献第33-43页
第二章 样品制备和分析测试第43-63页
   ·前言第43页
   ·粉末样品的制备--固态反应法第43-44页
   ·粉末样品的真空退火处理第44-46页
   ·薄膜样品的制备--脉冲激光沉积技术第46-51页
   ·样品的结构和成分表征第51-56页
     ·薄膜厚度的测试第51-52页
     ·样品结构的测量-X射线衍射分析第52-53页
     ·样品微观结构的表征-透射电子显微镜第53-54页
     ·样品成分及价态分析-X射线光电子谱第54-55页
     ·样品结构信息分析-X射线吸收谱第55-56页
   ·样品性能测试第56-60页
     ·样品磁学性能的测试第56-58页
     ·薄膜输运性质的测试第58-59页
     ·薄膜磁圆二色性谱的测试第59-60页
 参考文献第60-63页
第三章 Fe掺杂In_2O_3粉末结构和磁性的研究第63-77页
   ·引言第63页
   ·实验过程第63-64页
   ·真空退火对(In_(1-x)Fe_x)_2O_3粉末结构和磁性的影响第64-70页
   ·空气-真空反复退火对(In_(0.95)Fe_(0.05))_2O_3粉末结构和磁性的影响第70-73页
   ·(In_(1-x)Fe_x)_2O_3粉末的铁磁性来源第73页
   ·本章小结第73-74页
 参考文献第74-77页
第四章 Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的研究第77-97页
   ·引言第77-78页
   ·实验过程第78页
   ·Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的结构与组成第78-81页
   ·Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的磁性第81-85页
   ·Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的输运性质第85-89页
   ·Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的光学性质第89-93页
   ·本章小结第93页
 参考文献第93-97页
第五章 共掺杂剂Sn和Cu对Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体的影响第97-110页
   ·引言第97-98页
   ·实验过程第98页
   ·(In_(0.92)Fe_(0.05)Sn_(0.03))_2O_3和(In_(0.92)Fe_(0.05)Cu_(0.03))_2O_3粉末结构和磁性的研究第98-101页
   ·(In_(0.92)Fe_(0.05)Sn_(0.03))_2O_3和(In_(0.92)Fe_(0.05)Cu_(0.03))_2O_3薄膜结构和磁性的研究第101-106页
   ·本章小结第106-107页
 参考文献第107-110页
第六章 Mn,Sn和Cr,Sn共掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的研究第110-121页
   ·引言第110页
   ·实验过程第110-111页
   ·Mn,Sn共掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的结构、磁性与输运性质第111-113页
   ·Cr,Sn共掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的结构、磁性与输运性质第113-116页
   ·载流子和自旋在调控样品铁磁性时的重要作用第116-118页
   ·本章小结第118页
 参考文献第118-121页
第七章 结论与展望第121-123页
   ·结论第121-122页
   ·展望第122-123页
博士学位论文独创性说明第123-124页
攻读博士学位期间发表的学术论文第124-126页
 一、期刊论文第124页
 二、会议论文第124-126页
致谢第126页

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