| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第9-10页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第9页 |
| 1.1.2 课题的研究的背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 半接触固结磨料加工工艺简介 | 第10-12页 |
| 1.3 本文相关方向背景简介 | 第12-16页 |
| 1.3.1 固结磨料加工工艺国内外研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3.2 磨盘表面形貌建模国内外研究现状 | 第13-15页 |
| 1.3.3 抛光液流体动压力国内外研究现状 | 第15-16页 |
| 1.4 本文主要研究内容和结构安排 | 第16-18页 |
| 第二章 抛光垫表面形貌的模拟 | 第18-31页 |
| 2.1 抛光垫表面形貌模拟基本思路 | 第18-19页 |
| 2.2 磨粒几何形状以及粒度分布的表征 | 第19-20页 |
| 2.3 磨粒中心点坐标的确定 | 第20-26页 |
| 2.3.1 单位面积磨粒数的求取 | 第22-24页 |
| 2.3.2 中心点坐标的随机处理 | 第24-26页 |
| 2.4 模拟结果及讨论 | 第26-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 间隙液膜流体动压力的求解 | 第31-52页 |
| 3.1 建立数学模型的基本假设 | 第31-32页 |
| 3.2 基本方程 | 第32-38页 |
| 3.2.1 Reynolds 方程 | 第32-36页 |
| 3.2.2 膜厚方程 | 第36-37页 |
| 3.2.3 粘压与密压方程 | 第37-38页 |
| 3.3 边界条件 | 第38页 |
| 3.4 基本方程的数值处理 | 第38-43页 |
| 3.4.1 无量纲化处理 | 第38-40页 |
| 3.4.2 Reynolds 方程的离散化 | 第40-43页 |
| 3.5 求解流程 | 第43-45页 |
| 3.6 求解过程中出现问题的处理 | 第45-48页 |
| 3.6.1 求解域中奇异点的处理 | 第45-47页 |
| 3.6.2 膜厚阶梯变化处的处理 | 第47-48页 |
| 3.7 计算结果与分析 | 第48-51页 |
| 3.7.3 普通无动压槽抛光垫的流体动压力计算结果与分析 | 第49-50页 |
| 3.7.4 有动压槽抛光垫的流体动压力计算结果与分析 | 第50-51页 |
| 3.8 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 半接触状态下的接触力和抛光压力 | 第52-57页 |
| 4.1 硬脆材料的去除机理 | 第52-53页 |
| 4.2 单颗磨粒的接触力模型 | 第53-55页 |
| 4.3 接触力与抛光压力计算结果与分析 | 第55-56页 |
| 4.3.1 普通无动压槽抛光垫的计算结果与分析 | 第55-56页 |
| 4.3.2 有动压槽抛光垫的计算结果与分析 | 第56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 工艺参数的影响分析 | 第57-75页 |
| 5.1 半接触固结磨料加工中各参数间的关系 | 第57-58页 |
| 5.2 间隙液膜流体动压力的作用规律 | 第58-69页 |
| 5.2.1 最大磨削深度 hcut与液膜动压力的对应关系 | 第58-63页 |
| 5.2.2 抛光液入口压强 pin对液膜动压力的影响 | 第63-66页 |
| 5.2.3 抛光垫转速ω对液膜动压力的影响 | 第66-69页 |
| 5.3 抛光垫接触力与抛光压力的变化规律 | 第69-73页 |
| 5.3.1 普通抛光垫接触力与抛光压力的变化规律 | 第69-71页 |
| 5.3.2 带动压槽抛光垫接触力与抛光压力的变化规律 | 第71-73页 |
| 5.4 本章小结 | 第73-75页 |
| 第六章 总结与展望 | 第75-78页 |
| 6.1 主要结论 | 第75-76页 |
| 6.2 展望 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-82页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
