| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 1. 绪论 | 第11-26页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 菁染料的结构特征和分类 | 第11-13页 |
| 1.3 菁染料的性质 | 第13-15页 |
| 1.3.1 光谱性能 | 第13-14页 |
| 1.3.2 稳定性 | 第14页 |
| 1.3.3 菁染料的自聚 | 第14-15页 |
| 1.4 菁染料的合成 | 第15-22页 |
| 1.4.1 半菁染料的合成 | 第15-16页 |
| 1.4.2 菁染料的合成 | 第16-22页 |
| 1.5 菁染料的应用 | 第22-24页 |
| 1.5.1 太阳能电池 | 第22页 |
| 1.5.2 光动力学治疗 | 第22-23页 |
| 1.5.3 生物分析 | 第23-24页 |
| 1.6 选题背景和依据 | 第24-26页 |
| 2 实验部分 | 第26-34页 |
| 2.1 实验试剂和仪器 | 第26-27页 |
| 2.1.1 实验试剂及处理 | 第26-27页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第27页 |
| 2.2 合成路线 | 第27-30页 |
| 2.2.1 吲哚季铵盐的合成路线 | 第27-28页 |
| 2.2.2 吲哚双季铵盐的合成路线 | 第28页 |
| 2.2.3 方酸乙酯的合成路线 | 第28页 |
| 2.2.4 吲哚方酸半菁染料的合成路线 | 第28页 |
| 2.2.5 吲哚方酸双半菁染料的合成路线 | 第28-29页 |
| 2.2.6 N–对羧苄基、N–对氯苄基吲哚方酸双菁染料的合成路线 | 第29页 |
| 2.2.7 N–乙基方酸吲哚双菁染料的合成路线 | 第29-30页 |
| 2.3 中间体的合成 | 第30-31页 |
| 2.3.1 2,3,3–三甲基–3H–吲哚（1）的合成 | 第30页 |
| 2.3.2 N–对羧苄基吲哚季铵盐（2a）的合成 | 第30页 |
| 2.3.3 N–乙基吲哚季铵盐（2c）的合成 | 第30页 |
| 2.3.4 N–对氯苄吲哚季铵盐（2f）的合成 | 第30页 |
| 2.3.5 吲哚双季铵盐（bis-3）的合成 | 第30页 |
| 2.3.6 方酸乙酯的合成 | 第30-31页 |
| 2.4 吲哚方酸半菁染料的合成 | 第31页 |
| 2.4.1 N–乙基吲哚方酸半菁染料（4c）的合成 | 第31页 |
| 2.4.2 吲哚方酸双半菁染料（bis-4）的合成 | 第31页 |
| 2.5 吲哚方酸双菁染料的合成 | 第31-32页 |
| 2.5.1 N–对氯苄基吲哚方酸双菁染料（5f）的合成 | 第31页 |
| 2.5.2 N–对羧苄基吲哚方酸双菁染料（5a）的合成 | 第31页 |
| 2.5.3 N–乙基方酸吲哚双菁染料（5c）的合成 | 第31-32页 |
| 2.6 染料的分离提纯 | 第32页 |
| 2.6.1 吲哚方酸半菁染料的分离提纯 | 第32页 |
| 2.6.2 吲哚方酸双菁染料的分离提纯 | 第32页 |
| 2.7 目标产物的结构表征 | 第32页 |
| 2.8 吲哚方酸双菁染料的光谱性能测定 | 第32-33页 |
| 2.8.1 吲哚方酸双菁染料的紫外吸收光谱和荧光发射光谱的测定 | 第32-33页 |
| 2.8.2 吲哚方酸双菁染料荧光量子产率的计算 | 第33页 |
| 2.9 吲哚方酸双菁染料光稳定性的测试 | 第33-34页 |
| 3 结果与讨论 | 第34-46页 |
| 3.1 中间体及吲哚方酸双菁染料的合成 | 第34-38页 |
| 3.1.1 2,3,3–三甲基–3H–吲哚（1）的合成 | 第34页 |
| 3.1.2 2,3,3–三甲基–3H–吲哚的氮烷基化 | 第34-35页 |
| 3.1.3 吲哚双季铵盐（bis-3）的合成 | 第35-36页 |
| 3.1.4 吲哚方酸半菁染料及双半菁染料的合成 | 第36-37页 |
| 3.1.5 吲哚方酸双菁染料的合成 | 第37-38页 |
| 3.2 中间体及吲哚方酸双菁染料的提纯 | 第38-39页 |
| 3.2.1 吲哚方酸半菁染料的提纯 | 第38-39页 |
| 3.2.2 吲哚方酸双菁染料的提纯 | 第39页 |
| 3.3 中间体及吲哚方酸双菁染料的结构表征 | 第39-40页 |
| 3.4 吲哚方酸双染料的紫外吸收和荧光发射光谱 | 第40-42页 |
| 3.5 吲哚方酸双染料的光稳定性研究 | 第42-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 附录 染料及中间体的核磁氢谱 | 第50-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
