| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-44页 |
| 1.1 导电高分子 | 第12-13页 |
| 1.2 聚苯胺 | 第13-23页 |
| 1.2.1 聚苯胺的分子结构及不同氧化态 | 第13-14页 |
| 1.2.2 聚苯胺的掺杂及不同结构间的转化 | 第14-18页 |
| 1.2.2.1 聚苯胺的质子酸掺杂 | 第15-16页 |
| 1.2.2.2 掺杂酸种类和浓度对聚苯胺的影响 | 第16-17页 |
| 1.2.2.3 聚苯胺的五种典型结构及其之间的相互转换 | 第17-18页 |
| 1.2.3 聚苯胺材料的制备 | 第18-21页 |
| 1.2.3.1 聚苯胺的合成方法 | 第18页 |
| 1.2.3.2 微纳米结构聚苯胺的制备 | 第18-20页 |
| 1.2.3.3 聚苯胺膜材料的制备 | 第20-21页 |
| 1.2.4 聚苯胺的性能及应用 | 第21-23页 |
| 1.2.4.1 能源材料领域 | 第21-22页 |
| 1.2.4.2 传感器领域 | 第22-23页 |
| 1.2.4.3 其他领域 | 第23页 |
| 1.3 表面图案化 | 第23-25页 |
| 1.3.1 表面微纳图案加工技术概述 | 第23-25页 |
| 1.4 表面起皱 | 第25-42页 |
| 1.4.1 表面皱纹的形成机理 | 第26-27页 |
| 1.4.2 起皱表面的制备 | 第27-32页 |
| 1.4.2.1 膜/基体系的构筑 | 第27-30页 |
| 1.4.2.2 外力诱导 | 第30-32页 |
| 1.4.3 皱纹形貌的调控 | 第32-37页 |
| 1.4.3.1 皱纹周期和振幅的调控 | 第33页 |
| 1.4.3.2 皱纹图案类型的调控 | 第33-36页 |
| 1.4.3.3 防皱与起皱/消皱的可逆调控 | 第36-37页 |
| 1.4.4 表面起皱的应用 | 第37-42页 |
| 1.4.4.1 作为结构化模板制备表面阵列 | 第37-38页 |
| 1.4.4.2 构建柔性电子器件 | 第38-40页 |
| 1.4.4.3 薄膜材料物性表征 | 第40页 |
| 1.4.4.4 构筑可控浸润性表面 | 第40-41页 |
| 1.4.4.5 调控材料光学性能 | 第41-42页 |
| 1.4.4.6 其他应用 | 第42页 |
| 1.5 本课题的意义及主要研究内容 | 第42-44页 |
| 第2章 聚苯胺膜的原位自起皱 | 第44-66页 |
| 2.1 引言 | 第44-45页 |
| 2.2 实验部分 | 第45-47页 |
| 2.2.1 实验仪器和药品 | 第45-46页 |
| 2.2.2 实验方法 | 第46-47页 |
| 2.2.2.1 PDMS弹性基底的制备 | 第46页 |
| 2.2.2.2 PDMS基底上生长聚苯胺薄膜 | 第46-47页 |
| 2.2.3 表征与测试 | 第47页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第47-65页 |
| 2.3.1 聚苯胺膜原位自起皱机理探索 | 第48-61页 |
| 2.3.1.1 基底对表面形貌的影响 | 第49-52页 |
| 2.3.1.2 温度对表面形貌的影响 | 第52页 |
| 2.3.1.3 水洗处理对表面形貌的影响 | 第52-53页 |
| 2.3.1.4 酸溶胀对表面形貌的影响 | 第53-54页 |
| 2.3.1.5 反应时间对表面形貌的影响 | 第54-61页 |
| 2.3.2 PANI/PDMS双层体系自起皱图案的调控 | 第61-65页 |
| 2.3.3 PANI/PDMS双层体系自起皱行为的应用 | 第65页 |
| 2.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 第3章 皱纹化聚苯胺膜的可逆响应性调控 | 第66-84页 |
| 3.1 引言 | 第66-67页 |
| 3.2 实验部分 | 第67-69页 |
| 3.2.1 实验所需药品 | 第67页 |
| 3.2.2 实验方法 | 第67-69页 |
| 3.2.2.1 PANI的酸碱处理 | 第68页 |
| 3.2.2.2 PANI的化学氧化还原处理 | 第68页 |
| 3.2.2.3 PANI复合皱纹膜的制备 | 第68-69页 |
| 3.2.3 表征与测试 | 第69页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第69-83页 |
| 3.3.1 皱纹化PANI膜的酸碱可逆调控 | 第69-73页 |
| 3.3.2 皱纹化PANI膜的氧化还原可逆调控 | 第73-83页 |
| 3.3.2.1 ES与LEB之间转变对皱纹形貌的影响 | 第73-77页 |
| 3.3.2.2 ES与PB之间转变对皱纹形貌的影响 | 第77-80页 |
| 3.3.2.3 氧化还原调控皱纹的机制探讨 | 第80-82页 |
| 3.3.2.4 氧化还原调控中PANI膜性质的变化及相关应用 | 第82-83页 |
| 3.4 本章小结 | 第83-84页 |
| 第4章 图案化聚苯胺/聚吡咯自支撑膜的制备及性能研究 | 第84-110页 |
| 4.1 引言 | 第84-85页 |
| 4.2 实验部分 | 第85-86页 |
| 4.2.1 实验所需药品 | 第85页 |
| 4.2.2 实验方法 | 第85-86页 |
| 4.2.2.1 PANI/PPy和PANI/PANI复合起皱膜的制备 | 第85-86页 |
| 4.2.2.2 皱纹化自支撑薄膜的制备及转移 | 第86页 |
| 4.2.2.3 自支撑的皱纹化导电聚合物金属纳米颗粒复合膜的制备 | 第86页 |
| 4.2.3 表征与测试 | 第86页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第86-108页 |
| 4.3.1 无裂纹的皱纹化PANI/PPy复合膜的制备 | 第87-90页 |
| 4.3.2 表面皱纹图案加固机制的探究 | 第90-97页 |
| 4.3.3 不同稳定化皱纹图案的制备 | 第97-101页 |
| 4.3.4 旋涂的PANI膜制备稳定化皱纹图案 | 第101-102页 |
| 4.3.5 自支撑皱纹膜的制备 | 第102-106页 |
| 4.3.6 自支撑皱纹膜的应用性能研究 | 第106-108页 |
| 4.4 本章小结 | 第108-110页 |
| 第5章 超声辅助制备多级图案化的导电高分子膜 | 第110-126页 |
| 5.1 引言 | 第110-111页 |
| 5.2 实验部分 | 第111-112页 |
| 5.2.1 实验方法 | 第111-112页 |
| 5.2.1.1 PDMS基底的OP选区处理 | 第111页 |
| 5.2.1.2 超声辅助制备高级图案化的PANI膜 | 第111页 |
| 5.2.1.3 超声辅助制备高级图案化的PPy膜 | 第111-112页 |
| 5.2.2 表征与测试 | 第112页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第112-124页 |
| 5.3.1 高级图案化的完整PANI膜的制备 | 第112-116页 |
| 5.3.2 超声处理辅助制备高级图案化的PANI膜 | 第116-122页 |
| 5.3.2.1 超声处理时间对阵列图案制备的影响 | 第117-118页 |
| 5.3.2.2 基底表面浸润性对阵列图案制备的影响 | 第118-119页 |
| 5.3.2.3 PANI膜微观结构对阵列图案制备的影响 | 第119-120页 |
| 5.3.2.4 基底的模量对阵列图案制备的影响 | 第120-122页 |
| 5.3.3 稳定高级图案化的PANI/PPy膜的制备 | 第122-123页 |
| 5.3.4 稳定高级图案化的纯PPy膜的制备 | 第123-124页 |
| 5.4 本章小结 | 第124-126页 |
| 第6章 结论与展望 | 第126-128页 |
| 参考文献 | 第128-140页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第140-142页 |
| 致谢 | 第142-143页 |
