| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| 1.1 光调制器的发展概述 | 第9-10页 |
| 1.2 石墨烯电光调制器的工作机理分析 | 第10-15页 |
| 1.2.1 石墨烯的能带结构与电学调谐特性 | 第10-13页 |
| 1.2.2 微环谐振腔的谐振特性 | 第13-15页 |
| 1.3 石墨烯电光调制器的研究进展 | 第15-24页 |
| 1.3.1 基于直波导结构的石墨烯电光调制器 | 第15-18页 |
| 1.3.2 基于微环及马赫-曾德结构的石墨烯电光调制器 | 第18-21页 |
| 1.3.3 基于平面结构的石墨烯电光调制器 | 第21-24页 |
| 1.4 选题依据和研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 石墨烯的制备和性能研究 | 第26-40页 |
| 2.1 引言 | 第26-27页 |
| 2.2 实验装置介绍 | 第27-30页 |
| 2.2.1 化学气相沉积管式炉系统 | 第27-28页 |
| 2.2.2 光学显微镜 | 第28-29页 |
| 2.2.3 共聚焦拉曼光谱仪 | 第29页 |
| 2.2.4 扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
| 2.3 实验部分 | 第30-33页 |
| 2.3.1 铜箔上制备石墨烯方案 | 第30-32页 |
| 2.3.2 非金属基底上 PECVD 法制备石墨烯方案 | 第32-33页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第33-38页 |
| 2.4.1 铜箔上制备石墨烯 | 第33-36页 |
| 2.4.2 非金属基底上 PECVD 法制备石墨烯 | 第36-38页 |
| 2.5 本章小结 | 第38-40页 |
| 第三章 石墨烯电光调制器的制备与性能研究 | 第40-59页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 实验装置介绍 | 第40-45页 |
| 3.2.1 电子束曝光系统 | 第40-41页 |
| 3.2.2 电感耦合等离子体刻蚀 | 第41-42页 |
| 3.2.3 光刻机系统 | 第42页 |
| 3.2.4 热蒸发系统 | 第42-43页 |
| 3.2.5 原子层沉积系统 | 第43-44页 |
| 3.2.6 光调制器的测试系统 | 第44-45页 |
| 3.3 实验部分 | 第45-54页 |
| 3.3.1 光栅与器件的仿真 | 第45-47页 |
| 3.3.2 微环谐振腔的制备及测试 | 第47-51页 |
| 3.3.3 石墨烯电光调制器的制备及测试 | 第51-54页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第54-57页 |
| 3.4.1 器件结构的表征 | 第54-55页 |
| 3.4.2 器件的静态调制特性 | 第55页 |
| 3.4.3 器件的动态调制特性 | 第55-57页 |
| 3.5 本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 石墨烯热光调制器的制备与性能研究 | 第59-69页 |
| 4.1 引言 | 第59页 |
| 4.2 实验部分 | 第59-61页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第61-68页 |
| 4.3.1 器件结构的表征 | 第61-62页 |
| 4.3.2 器件的静态调制特性 | 第62-64页 |
| 4.3.3 器件的动态调制特性 | 第64-65页 |
| 4.3.4 器件的仿真 | 第65-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 总结与展望 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-80页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
