| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 不饱和聚酯树脂的发展及其应用 | 第11-14页 |
| 1.2.1 不饱和聚酯树脂发展概述 | 第11-12页 |
| 1.2.2 不饱和聚酯树脂固化及其机理 | 第12-14页 |
| 1.2.3 不饱和聚酯树脂的种类及其应用 | 第14页 |
| 1.3 不饱和聚酯树脂的改性研究 | 第14-18页 |
| 1.3.1 增强增韧改性 | 第15-17页 |
| 1.3.2 阻燃改性 | 第17页 |
| 1.3.3 低收缩改性 | 第17页 |
| 1.3.4 其他改性 | 第17-18页 |
| 1.4 功能化二氧化硅的制备及其在聚合物中的应用 | 第18-21页 |
| 1.4.1 功能化二氧化硅的制备 | 第18-20页 |
| 1.4.2 功能化二氧化硅的应用 | 第20-21页 |
| 1.5 选题意义及主要研究内容 | 第21-23页 |
| 1.5.1 选题意义 | 第21-22页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-29页 |
| 第二章 低增粘SiO_2/UPR涂层材料的制备及其消光性能研究 | 第29-47页 |
| 2.1 实验部分 | 第30-31页 |
| 2.1.1 实验原料与设备 | 第30页 |
| 2.1.2 高分散性二氧化硅的选用 | 第30-31页 |
| 2.1.3 高分散SiO_2/UPR涂层材料的制备 | 第31页 |
| 2.2 测试与表征 | 第31-33页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第33-45页 |
| 2.3.1 不同型号二氧化硅在不饱和聚酯树脂中的分散稳定性 | 第33页 |
| 2.3.2 不同型号高分散二氧化硅对涂层光泽度的影响 | 第33-38页 |
| 2.3.3 不同二氧化硅吸油值对涂层光泽度的影响 | 第38-39页 |
| 2.3.4 不同二氧化硅孔体积对涂层光泽度的影响 | 第39-40页 |
| 2.3.5 二氧化硅添加量对涂层光泽度的影响 | 第40-41页 |
| 2.3.6 不同类型二氧化硅对不饱和聚酯树脂粘度及触变性的影响 | 第41-42页 |
| 2.3.7 二氧化硅对涂层材料硬度及透明性的影响 | 第42-45页 |
| 2.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第三章 高分散二氧化硅对不饱和聚酯树脂消泡性能研究 | 第47-61页 |
| 3.1 实验部分 | 第47-48页 |
| 3.1.1 实验原料与实验设备 | 第47-48页 |
| 3.1.2 硅膏消泡剂的制备 | 第48页 |
| 3.1.3 发泡液的制备 | 第48页 |
| 3.2 测试与表征 | 第48-50页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第50-58页 |
| 3.3.1 不同型号二氧化硅在二甲基硅油中的分散稳定性 | 第50-52页 |
| 3.3.2 不同型号高分散SiO_2/PDMS的消泡性能 | 第52-55页 |
| 3.3.3 二氧化硅添加量对SiO_2/PDMS的消泡性能影响 | 第55-56页 |
| 3.3.4 DNS-3L/PDMS对不饱和聚酯树脂的消泡性能研究 | 第56-58页 |
| 3.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 第四章 SiO_2/UPR杂化材料的制备及其增强增韧研究 | 第61-79页 |
| 4.1 前言 | 第61页 |
| 4.2 实验部分 | 第61-64页 |
| 4.2.1 主要原料及仪器 | 第61-62页 |
| 4.2.2 SiO_2/UPR杂化材料的制备 | 第62页 |
| 4.2.3 可反应二氧化硅的制备 | 第62-63页 |
| 4.2.4 测试与表征 | 第63-64页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第64-75页 |
| 4.3.1 SiO_2/ UPR杂化材料结构设计 | 第64页 |
| 4.3.2 消泡剂用高分散SiO_2对UPR杂化材料力学性能的影响 | 第64-65页 |
| 4.3.3 可反应二氧化硅的结构表征 | 第65-67页 |
| 4.3.4 消光剂用可反应SiO_2对UPR力学性能影响 | 第67-72页 |
| 4.3.5 SiO_2/UPR杂化材料耐碱性分析 | 第72-75页 |
| 4.4 本章小结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 第五章 结论与展望 | 第79-81页 |
| 5.1 主要结论 | 第79-80页 |
| 5.2 问题与展望 | 第80-81页 |
| 个人简历 | 第81-82页 |
| 硕士期间科研成果 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
