摘要 | 第7-9页 |
abstract | 第9-11页 |
第一章 绪论 | 第12-18页 |
1.1 课题来源 | 第12页 |
1.2 选题背景及目的 | 第12-13页 |
1.3 全氟化合物的性质及危害 | 第13-14页 |
1.4 全氟化合物污染研究现状 | 第14-16页 |
1.5 研究内容与技术路线 | 第16-18页 |
1.5.1 研究内容 | 第16-17页 |
1.5.2 技术路线 | 第17-18页 |
第二章 研究区概况 | 第18-22页 |
2.1 自然地理概况 | 第18-20页 |
2.1.1 地理位置 | 第18页 |
2.1.2 气象水文 | 第18-19页 |
2.1.3 地形地貌 | 第19-20页 |
2.2 水文地质概况 | 第20-22页 |
2.2.1 某氟材料氟化工工业园区域水文地质概况 | 第20-21页 |
2.2.2 电子与电镀行业研究区域水文地质概况 | 第21-22页 |
第三章 某氟材料氟化工工业园区浅层地下水系统全氟化合物污染特性研究 | 第22-44页 |
3.1 浅层地下水全氟化合物污染物构成分析 | 第22-25页 |
3.1.1 浅层地下水采样点的布置及检测 | 第22-24页 |
3.1.2 浅层地下水全氟化合物构成分析 | 第24-25页 |
3.2 浅层地下水全氟化合物污染来源与污染途径 | 第25-28页 |
3.2.1 浅层地下水全氟化合物污染来源 | 第25-26页 |
3.2.2 浅层地下水全氟化合物污染途径 | 第26-28页 |
3.3 浅层地下水全氟化合物分布特征研究 | 第28-38页 |
3.3.1 浅层地下水全氟化合物空间分布特征 | 第28-37页 |
3.3.2 浅层地下水全氟化合物时间分布特征 | 第37-38页 |
3.4 浅层地下水系统全氟化合物污染特性研究 | 第38-42页 |
3.4.1 浅层地下水流场对全氟化合物污染的影响 | 第39-40页 |
3.4.2 浅层地下水水位变动对全氟化合物污染的影响 | 第40-42页 |
3.5 小结 | 第42-44页 |
第四章 电子与电镀行业浅层地下水系统全氟化合物污染特性研究 | 第44-56页 |
4.1 电子与电镀行业浅层地下水采样点分布及样品检测 | 第44-46页 |
4.1.1 研究区地下水采样点分布与样品采集 | 第44-45页 |
4.1.2 研究区浅层地下水样品检测 | 第45-46页 |
4.2 电子与电镀行业浅层地下水全氟化合物污染来源及污染途径 | 第46-47页 |
4.2.1 浅层地下水全氟化合物污染来源 | 第46-47页 |
4.2.2 浅层地下水全氟化合物污染途径 | 第47页 |
4.3 电子与电镀行业浅层地下水全氟化合物分布特征研究 | 第47-52页 |
4.3.1 电子与电镀行业浅层地下水全氟化合物空间分布特征 | 第48-49页 |
4.3.2 电子与电镀行业浅层地下水全氟化合物时间分布特征 | 第49-52页 |
4.4 电子与电镀行业浅层地下水系统全氟化合物污染特性研究 | 第52-53页 |
4.4.1 浅层地下水流场对全氟化合物污染的影响 | 第52页 |
4.4.2 浅层地下水位变动对全氟化合物污染的影响 | 第52-53页 |
4.5 小结 | 第53-56页 |
第五章 结论及建议 | 第56-58页 |
5.1 结论 | 第56-57页 |
5.2 建议 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-66页 |
致谢 | 第66-68页 |
附录 | 第68页 |