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浅层地下水系统全氟化合物典型污染源污染特性研究

摘要第7-9页
abstract第9-11页
第一章 绪论第12-18页
    1.1 课题来源第12页
    1.2 选题背景及目的第12-13页
    1.3 全氟化合物的性质及危害第13-14页
    1.4 全氟化合物污染研究现状第14-16页
    1.5 研究内容与技术路线第16-18页
        1.5.1 研究内容第16-17页
        1.5.2 技术路线第17-18页
第二章 研究区概况第18-22页
    2.1 自然地理概况第18-20页
        2.1.1 地理位置第18页
        2.1.2 气象水文第18-19页
        2.1.3 地形地貌第19-20页
    2.2 水文地质概况第20-22页
        2.2.1 某氟材料氟化工工业园区域水文地质概况第20-21页
        2.2.2 电子与电镀行业研究区域水文地质概况第21-22页
第三章 某氟材料氟化工工业园区浅层地下水系统全氟化合物污染特性研究第22-44页
    3.1 浅层地下水全氟化合物污染物构成分析第22-25页
        3.1.1 浅层地下水采样点的布置及检测第22-24页
        3.1.2 浅层地下水全氟化合物构成分析第24-25页
    3.2 浅层地下水全氟化合物污染来源与污染途径第25-28页
        3.2.1 浅层地下水全氟化合物污染来源第25-26页
        3.2.2 浅层地下水全氟化合物污染途径第26-28页
    3.3 浅层地下水全氟化合物分布特征研究第28-38页
        3.3.1 浅层地下水全氟化合物空间分布特征第28-37页
        3.3.2 浅层地下水全氟化合物时间分布特征第37-38页
    3.4 浅层地下水系统全氟化合物污染特性研究第38-42页
        3.4.1 浅层地下水流场对全氟化合物污染的影响第39-40页
        3.4.2 浅层地下水水位变动对全氟化合物污染的影响第40-42页
    3.5 小结第42-44页
第四章 电子与电镀行业浅层地下水系统全氟化合物污染特性研究第44-56页
    4.1 电子与电镀行业浅层地下水采样点分布及样品检测第44-46页
        4.1.1 研究区地下水采样点分布与样品采集第44-45页
        4.1.2 研究区浅层地下水样品检测第45-46页
    4.2 电子与电镀行业浅层地下水全氟化合物污染来源及污染途径第46-47页
        4.2.1 浅层地下水全氟化合物污染来源第46-47页
        4.2.2 浅层地下水全氟化合物污染途径第47页
    4.3 电子与电镀行业浅层地下水全氟化合物分布特征研究第47-52页
        4.3.1 电子与电镀行业浅层地下水全氟化合物空间分布特征第48-49页
        4.3.2 电子与电镀行业浅层地下水全氟化合物时间分布特征第49-52页
    4.4 电子与电镀行业浅层地下水系统全氟化合物污染特性研究第52-53页
        4.4.1 浅层地下水流场对全氟化合物污染的影响第52页
        4.4.2 浅层地下水位变动对全氟化合物污染的影响第52-53页
    4.5 小结第53-56页
第五章 结论及建议第56-58页
    5.1 结论第56-57页
    5.2 建议第57-58页
参考文献第58-66页
致谢第66-68页
附录第68页

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