强磁场退火对Co/Si(100)扩散和磁性能的影响
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 薄膜材料的应用 | 第11-13页 |
| 1.3 扩散对薄膜材料性能的影响 | 第13-15页 |
| 1.4 薄膜扩散的研究现状 | 第15-16页 |
| 1.5 强磁场的发展与应用 | 第16-17页 |
| 1.6 强磁场对相变与扩散的影响 | 第17-19页 |
| 1.7 本文研究内容、目的及意义 | 第19-21页 |
| 第2章 实验方法 | 第21-35页 |
| 2.1 选材依据与扩散偶制备方法选择 | 第21-24页 |
| 2.1.1 选材依据 | 第21-22页 |
| 2.1.2 扩散偶制备方法选择 | 第22-24页 |
| 2.2 扩散偶制备 | 第24-26页 |
| 2.2.1 分子束气相沉积简介 | 第24-25页 |
| 2.2.2 Co/Si(100)扩散偶制备流程 | 第25-26页 |
| 2.3 磁场退火 | 第26-30页 |
| 2.3.1 实验用两种强磁场装置 | 第26-28页 |
| 2.3.2 加热炉装置简介 | 第28-29页 |
| 2.3.3 磁场热处理 | 第29-30页 |
| 2.4 试样表征 | 第30-35页 |
| 2.4.1 薄膜厚度 | 第30页 |
| 2.4.2 晶体结构 | 第30-31页 |
| 2.4.3 扩散类型和元素分布 | 第31-34页 |
| 2.4.4 形貌观察 | 第34页 |
| 2.4.5 磁性能 | 第34-35页 |
| 第3章 实验结果与讨论 | 第35-58页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 薄膜厚度 | 第35-36页 |
| 3.3 晶体结构 | 第36-40页 |
| 3.4 扩散类型 | 第40-41页 |
| 3.5 扩散速率 | 第41-51页 |
| 3.6 磁性能 | 第51-58页 |
| 第4章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 4.1 主要结论 | 第58页 |
| 4.2 工作展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 个人简历 | 第68页 |
